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51.
基于美国国家仪器公司的PXI总线实时控制硬件以及图形化编程软件LabVIEW设计并集成了综合离心加压试验控制系统;在硬件方面,设计了由PXI实时控制器和Host主机组成的上下位机架构的控制系统;在软件方面,了解并掌握综合离心加压试验的需求和试验流程,设计并实现了位置式PID闭环控制、网络通讯、数据保存、以及人机交互界面等功能;并对该实时控制系统进行了地面调试,调试结果分析表明,该实时控制系统具有控制精度高、可靠性好、开发周期短,稳定性好,能够完成多回路的综合离心加压实时控制任务,并为产品集成设计提供一些经验借鉴。  相似文献   
52.
为体现人与自然和谐共处的治水理念,创建优美的管理和工作环境,使水利工程与文明城市建设有机结合,为市民和游客提供旅游观光、休闲健身的好场所,对建设水利风景区的必要性等进行论述。  相似文献   
53.
河套灌区节水农业技术的总体技术水平与发达灌区的差距还比较大,且在发展中仍存在一定的盲目性,具有自主知识产权的先进技术和产品很少,节水灌溉设备产业化程度低。以下就河套灌区在节水农业技术方面采用的具体措施进行一些探讨。  相似文献   
54.
GaInP材料生长及其性质研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
用X光双晶衍射、Hall和光致发光研究了MOCVD生长的GaxIn1-xP(x=0.476~0.505)外延层.发现Ga组分随V/Ⅲ比的增大略有下降,认为是由于Ga-P键比In-P键强所造成的.77K下电子迁移率达3300cm2/(V·s).Ga0.5In0.5P的载流子浓度随生长温度升高、V/Ⅲ比的增大而降低,提出磷(P)空位(Vp)是自由载流子的一个重要来源.17K下PL峰能和计算的带隙最大相差113meV,这可能与GaInP中杂质或缺陷以及其中存在有序结构有关.  相似文献   
55.
非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符合甚好。对器件参数的分析可以定性地指导抑制Kink效应的器件优化设计。  相似文献   
56.
给出一套具有较高精度且同时适用于数字电路和模拟电路CAD的短沟MOS器件直流模型。该模型精确、高效,可移植到HSPICE等通用线路分析软件中。结合解析和数值两种参数提取方法,文中采用局部优化参数提取法进行MOS器件参数提取。优化算法采用单纯形直接搜索法。参数提取过程中考虑了输出电导的精确性。通过对1.2μmCMOS工艺NMOS器件的测试及参数提取,并进行模型计算,结果表明理论和实际值符合很好。  相似文献   
57.
本文用光致发光(PL)研究了MOCVD生长的有序Ga0.5In0.5P外延层的光学性质.发现有序程度较强的Ga0.5In0.5P样品的PL谱中,能量最高的峰的强度随温度升高,先减弱,然后增强,最后又减弱.我们提出了一个有序Ga0.5In0.5P的模型,认为有序Ga0.5In0.5P外延层是阱定随机分布的Ⅱ型多量子阱结构,能带边之下存在带尾态。并用该模型对实验结果进行了较好的解释.  相似文献   
58.
用金属有机物气相外延设备,在氮化镓/蓝宝石复合衬底上快速外延生长铟镓氮薄膜,并对其进行了X射线三晶衍射、光致发光、反射光谱及霍尔测量等实验测试.确定该薄膜为单晶,其中In组分可以从0增加到0.26;在光致激发下发光光谱为单峰,且峰值波长在360~555nm范围内可调;其发光机理被证实为膜内载流子经带隙跃迁而直接复合;并具有很高的电子浓度.但InGaN薄膜的结晶质量却随着In含量的增加而变差.  相似文献   
59.
利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术,采用一种称为低温钝化的新生和方法成功地生长出多层InGaN/GaN量子点。这种方法是对GaN表面进行钝化并在低温下生长,从而增加表面吸附原子的迁移势垒。采用原子力显微镜清楚地观察到该方法生长的样品中岛状的量子点。从量子点样品的I-V特性曲线观察到了共振隧穿引起的负阻效应,其中的锯齿状峰形归因于零维量子点的共振隧穿。  相似文献   
60.
铟镓氮薄膜的光电特性   总被引:2,自引:1,他引:1  
用金属有机物气相外延设备,在氮化镓/蓝宝石复合衬底上快速外延生长铟镓氮薄膜,并对其进行了X射线三晶衍射、光致发光、反射光谱及霍尔测量等实验测试.确定该薄膜为单晶,其中In组分可以从0增加到0.26;在光致激发下发光光谱为单峰,且峰值波长在360~555nm范围内可调;其发光机理被证实为膜内载流子经带隙跃迁而直接复合;并具有很高的电子浓度.但InGaN薄膜的结晶质量却随着In含量的增加而变差.  相似文献   
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