关于某轧板厂新建4号加热炉装钢方案和设备分析

分析了某中型轧板厂加热炉目前情况和背景,讨论了分批次改造的装钢方案和设备设计,解决了现有轧线推钢炉改造为步进炉和未改造的推钢炉不能同步生产的问题,并满足了生产需要。     

InP氯化物气相外延的热力学分析

本文比较了具有旁路PCl_3注入的In-PCl_3-H_2(液态源)和InP-PCl_3-H_2(固态源)系统.计算中除引入流动效率和反应效率来计入源区反应的不完全性外,对液态源还引入磷的通过效率α来修正铟对气相中磷的吸收.计算表明这二个系统的主要差别是气相中Ⅲ/Ⅴ比值不同.计算结果支持主要淀积反应可能是 InCl+PH_3= InP + HCl+H_2的假设,并且预计固态源系统生长速度的重现性仅略优于液态源系统.     

GaN的MOVPE生长和m－i－n型蓝光LED的试制

利用自行研制的常压ＭＯＶＰＥ设备和全部国产ＭＯ源，采用低温生长缓冲层技术，在蓝宝石（α－Ａｌ２Ｏ３）衬底上获得了高质量的ＧａＮ外延层。未掺杂的ＧａＮ外延层的室温电子迁移率已达１１４ｃｍ２／Ｖ．ｓ，载流于浓度为２×１０１８。７７Ｋ光致发光谱近带边发射峰波长为３６５ｎｍ，其线宽为４ＤｍｅＶ。Ｘ射线双晶衍射回摆曲线的线宽为３６０ａｒｃｓｅｃ。用Ｚｎ掺杂生长了绝缘的ｉ－ＧａＮ层。在此基础上研制了ｍ－ｉ－ｎ型ＧａＮ的ＬＥＤ，并在室温正向偏压下发出波长为４５５ｎｍ的蓝光。     

Ga_(1-x)In_xSb/GaSb应变层超晶格的MOVPE生长

本文报道用常压金属有机物气相外延方法在 GaSb衬底上生长 Ga_(1-x)In_xSb/GaSb应变层超晶格材料.X射线双晶衍射谱和反射电子显微像表明超晶格结构的周期性,GalnSb阱的组分均匀性和异质结界面质量较好.观察到当In含量提高时起源于超晶格-衬底界面处的失配位错.低温光荧光测量显示出因量子尺寸效应导致的带间跃迁向高能方向的移动.     

ZnSe的MOVPE生长相图：以DMZn和H_2Se为源

本文基于热力学平衡计算，首次给出以ＤＭＺｎ和Ｈ２Ｓｅ为源，ＭＯＶＰＥ生长ＺｎＳｅ的相图．文中讨论了ＺｎＳｅ单一凝聚相区的范围，以及可能出现ＺｎＳｅ（ｓ）＋Ｚｎ（ｓ）或ＺｎＳｅ（ｓ）＋Ｓｅ（ｌ）两种双凝聚相区的条件．     

用于MOVPE工艺的Ⅲ族不自燃MO源的物理性质

目前,已开发出不自燃的铝、镓、铟金属有机化合物,并已安全用于金属有机汽相外延工艺(MOVPE),用以制备Ⅲ—Ⅴ族半导体材料。这些化合物是以分子间或分子内配位饱和形式存在的,利用改变分子结构的方法很容易调节物理性质。得到了室温下是液体的新源,并已证明适合与一般的V族有机源一起使用,也可以与新型的V族有机源一起使用。讨论了这些MO源的合成与外延。     

MOCVD生长的Ⅱ－Ⅵ族化合物固溶体组分的热力学分析2．Hg_（1－x）Cd_xTe体系

本文对ＭＯＣＶＤ生长Ｈｇ１－ｘＣｄｘＴｅ进行了热力学分析．所用的起始原材料为Ｈｇ、ＤＭ－Ｃｄ和Ｒ２Ｔｅ．计算结果一方面表明ＣｄＴｅ优先并入倾向使得在通常的ＤＡＧ工艺中ｘ值非常不易控制．另一方面表明即使在Ｈｇ存在的情况下，也可以沉积几乎纯的ＣｄＴｅ，这对实现ＩＭＰ工艺非常有利，计算结果还表明ＩＩ／ＶＩ比对ＨｇＣｄＴｅ的组分控制起着关键性的作用．在ＤＡＧ工艺中，较低的ＩＩ／ＶＩ比可以改善对ｘ值的控制能力，ＬＭＰ－ＤＡＧ工艺是降低ＩＩ／ＶＩ比的较好途径．本文还计算了生长温度和反应室压力对固相组分的影响以及ＬＭＰ     

N型GaN的持续光电导

本文报道了金属有机物化学气相外延（ＭＯＶＰＥ）生长的未人为掺杂和掺Ｓｉｎ－ＧａＮ的持续光电导（ＰｅｒｓｉｓｔｅｎｔＰｈｏｔｏｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔｙ——ＰＰＣ）．在不同温度下观察了光电导的产生和衰变行为．实验结果表明,未人为掺杂和掺Ｓｉｎ－ＧａＮ的持续光电导和黄光发射可能起源于深能级缺陷,这些缺陷可以是ＶＧａ空位、ＮＧａ反位或者ＶＧａ－ＳｉＧａ络合物．和未人为掺杂样品Ａ相比,样品Ｂ中因Ｓｉ的并入导致ＧａＮ中的深能级缺陷增加,提高了ＧａＮ中黄光发射,使持续光电导衰变减慢,但实验未发现黄光的加强和光电导衰变特     

Quasi-Thermodynamic Model of MOVPE of InAlN

Group - nitrides are very importantmaterials,which are applied to the fabrication ofgreen,blue and ultraviolet light emitting diodes(L EDs) and laser diodes(L Ds) [1 ] .Inx Al1 - xN alloy is a kind of promising material for Ga N- based...     

MOVPE生长GaxAlyIn1-x-yN的准热力学模型

提出一个以TMGa、TMAl、TMIn和NH3为源,用MOVPE方法生长GaxAlyIn1-x-yN四元合金的准热力学模型.该模型假设四元合金是由氨和Ⅲ族元素之间反应合成的,其特点是考虑了NH3的分解效率,并用N、H、Ga、Al及In的摩尔分数代替惯用的分压来表示质量守衡方程.计算了各种生长条件对于与GaN晶格匹配的GaxAlyIn1-x-yN四元合金与注入反应室的Ⅲ族金属有机化合物之间关系的影响.计算表明,几乎所有达到生长表面的Al和Ga都并入到GaxAlyIn1-x-yN四元合金中,而In则富集在气相.为增强铟的并入,应采用低的生长温度,高的Ⅴ/Ⅲ比,氮载气而且须要设法降低到达生长界面前氨的分解.