全文获取类型
收费全文 | 5541篇 |
免费 | 550篇 |
国内免费 | 250篇 |
专业分类
电工技术 | 174篇 |
综合类 | 434篇 |
化学工业 | 1864篇 |
金属工艺 | 204篇 |
机械仪表 | 161篇 |
建筑科学 | 554篇 |
矿业工程 | 347篇 |
能源动力 | 208篇 |
轻工业 | 579篇 |
水利工程 | 376篇 |
石油天然气 | 342篇 |
武器工业 | 56篇 |
无线电 | 134篇 |
一般工业技术 | 611篇 |
冶金工业 | 213篇 |
原子能技术 | 53篇 |
自动化技术 | 31篇 |
出版年
2024年 | 51篇 |
2023年 | 197篇 |
2022年 | 239篇 |
2021年 | 203篇 |
2020年 | 267篇 |
2019年 | 263篇 |
2018年 | 160篇 |
2017年 | 207篇 |
2016年 | 203篇 |
2015年 | 249篇 |
2014年 | 401篇 |
2013年 | 287篇 |
2012年 | 334篇 |
2011年 | 299篇 |
2010年 | 270篇 |
2009年 | 269篇 |
2008年 | 442篇 |
2007年 | 344篇 |
2006年 | 232篇 |
2005年 | 279篇 |
2004年 | 195篇 |
2003年 | 149篇 |
2002年 | 121篇 |
2001年 | 122篇 |
2000年 | 85篇 |
1999年 | 64篇 |
1998年 | 79篇 |
1997年 | 73篇 |
1996年 | 50篇 |
1995年 | 48篇 |
1994年 | 47篇 |
1993年 | 27篇 |
1992年 | 39篇 |
1991年 | 6篇 |
1990年 | 7篇 |
1989年 | 18篇 |
1988年 | 4篇 |
1987年 | 3篇 |
1985年 | 3篇 |
1983年 | 1篇 |
1982年 | 1篇 |
1960年 | 1篇 |
1951年 | 2篇 |
排序方式: 共有6341条查询结果,搜索用时 15 毫秒
61.
62.
目的 提高炭气凝胶材料电磁吸波性能。方法 以氢氧化钠或氨水为共沉淀剂制备不同尺寸的Fe3O4颗粒,并加入间苯二酚-甲醛溶液的预聚物中,充分搅拌后快速凝胶,经老化、超临界干燥、碳化等工艺制备Fe3O4/炭气凝胶复合材料。利用SEM、TEM、激光粒度分析仪、比表面及微孔分析仪、振动样品磁强计对Fe3O4及复合材料的微观结构和静磁性能进行表征,并对复合材料的吸波性能进行分析。结果 Fe3O4/炭气凝胶复合材料具有丰富的三维网络结构,Fe3O4颗粒在炭气凝胶中呈离散性分布。Fe3O4颗粒粒径越小,Fe3O4/CA的饱和磁化强度越大,75 nm-Fe3O4/CA的饱和磁化强度最大,达到29.26 emu.g–1;当Fe3O4粒径为75 nm时,复合材料在厚度为2.1 mm时的最小反射损耗值可达–52.43 dB;当Fe3O4粒径为120 nm时,复合材料在厚度为2.5 mm时的有效吸收带宽高达6.98 GHz。结论 Fe3O4纳米颗粒粒径对复合材料介电损耗能力和阻抗匹配有显著影响,进而影响复合材料的吸波性能。大粒径的Fe3O4颗粒会破坏炭气凝胶的三维导电网络结构,从而降低复合材料的介电损耗能力。小粒径的Fe3O4颗粒可有效改善复合材料的阻抗匹配性能。 相似文献
63.
64.
65.
66.
67.
以SDS(十二烷基硫酸钠)作为乳化剂,利用高速搅拌乳化法制备了含油率(v/v)为5%~50%的煤油-水乳状液,考察了搅拌转速、搅拌时间、SDS浓度、含油率等因素对乳状液的静置沉降稳定性和平均粒径D(4,3)的影响。结果表明:在搅拌转速为15000rpm,搅拌时间120s,SDS浓度10mg/L时,可以得到较稳定的含油率30%的煤油-水乳状液(2hr内稳定性大于85%);提高搅拌转速、延长搅拌时间、提高乳化剂的含量有利于提高乳状液稳定性;为了制备相同平均粒径的乳状液,含油率高的乳状液需要更高的乳化剂浓度。 相似文献
68.
69.
70.
目的提高6H-SiC晶片Si面化学机械抛光(CMP)的材料去除率(MRR),改善其抛光表面质量。方法使用含有不同Cu~(2+)浓度和甘氨酸形成的配合物作为催化剂、H2O2作为氧化剂的抛光液,对6H-SiC晶片Si面进行CMP。使用精密天平称量SiC晶片抛光前后的质量,计算其MRR。使用AFM观测Si C晶圆表面,测其表面粗糙度(Ra)。使用Zeta电位仪测量在不同Cu~(2+)浓度下纳米氧化硅磨粒的Zeta电势和粒径分布。使用摩擦磨损试验机测量不同Cu~(2+)浓度时Si C晶圆的摩擦系数。对比不同压力和转速在CMP中对Si C的MRR和Ra的影响。结果随着Cu~(2+)浓度的增大,MRR先增大后减小,在Cu~(2+)体积浓度为300μmol/L时,MRR有最大值,为82 nm/h,此时,Ra为0.156 nm;相比之下,不加入Cu~(2+)-甘氨酸配合物的MRR为62 nm/h,Ra为0.280 nm。同时,随着Cu~(2+)浓度的增大,一方面,溶液中磨粒的Zeta电势绝对值不断减小,但高于不加入Cu~(2+)-甘氨酸配合物时的Zeta电势绝对值;另一方面,其平均粒径逐渐增大,但低于不加入Cu~(2+)-甘氨酸配合物时的平均粒径(104.0nm)。另外,随着Cu~(2+)浓度的增大,Si C晶圆的摩擦系数先增大后减小,在300μmol/L时达到最大,为0.6137。最后,随着压力的增大,MRR不断增加,但压力过大,使得Ra增大。随着抛光盘转速的增大,MRR先增大后减小,Ra无明显变化,在120 r/min时,MRR有最大值,为96 nm/h,Ra为0.161nm。结论 Cu~(2+)-甘氨酸配合物作为催化剂能够加快Si C化学机械抛光中的化学氧化速率,从而提高MRR,并且能够提高抛光液分散稳定性,改善Si C晶圆表面质量。另外,增大抛光压力可以增强机械磨削作用,提高MRR,但压力过大,会损伤晶片表面。抛光盘转速的增大也可以提高MRR,但其过大则会使抛光液外溅,降低化学作用,导致MRR降低。 相似文献