CaO-Al_2O_3-SiO_2玻璃晶化过程的红外光谱分析

利用红外光谱 (IR)和 X射线衍射 (XRD)对 Ca O- Al2 O3 - Si O2 系尾砂玻璃及其晶化过程的结构进行了研究。结果表明 ,尾砂玻璃晶化析出主晶相为透辉石 ,次晶相为钙长石和枪晶石。玻璃网络中主要有 Si O4、Al O4四面体结构单元 ,玻璃结构中具有和透辉石结构类似的近程排列 ,这个近程排列具有析出主晶相 (透辉石 )的先驱结构。随着 Ca F2 的含量增加 ,网络无序度增大 ,使玻璃红外光谱最强吸收带宽化且朝低波数方向移动 ;随晶化温度的提高 ,红外光谱最强吸收带也朝低波数方向移动 ,而且吸收带强度随晶化温度的提高而明显增加     

干摩擦条件下稀土-Mo5Si3/MoSi2复合材料的摩擦磨损性能

采用高温自蔓延合成了含0.8%稀土-5at%Mo5Si3/MoSi2复合材料粉末,经冷压和高温真空烧结成试样.在MRH-5A型环-块摩擦磨损试验机上,考察了其与调质45#钢配对时的摩擦磨损特性.运用带有微探针的JSM-5610LV型扫描电子显微镜,观察与分析了其磨损表面形貌和相的组成,探讨了该材料的磨损机理,结果表明在干摩擦同等条件下,稀土-Mo5Si3/MoSi2复合材料比纯MoSi2材料具有更好的抗磨损性能,其磨损率比纯MoSi2的至少降低了72%.在低pv值时,稀土-Mo5Si3/MoSi2复合材料的主要磨损失效形式为磨粒磨损和轻微粘着磨损而当pv值≥81.12 N·m/s,则主要为粘着磨损和疲劳断裂.     

Dry Friction and Wear Characteristics of Rare-Earth／MoSiz Composite

The dry friction and wear characteristics of rare earth/MoSi2 composite against 45 steel under different loads were investigated by using an M-200 type friction and wear tester. SEM and XRD were used to analyze the morphology of the friction surface and the phase of worn piece in order to reveal the wear mechanism of rare-earth/MoSi2 composite. Results show that the relationships of friction coefficient, μ, or wear rate, W, of MoSi2 and RE/MoSi2 composite to loads,p, can be fitted well with the following function: μ (or W) = a bp cp2 dp3 ep4, where a, b, c, d and e are fitting constants depending on materials and confidence. MoSi2 and rare-earth/MoSi2 composite have excellent wear resis-tance. When load is in the range of 80 - 120 N, the wear rate of RE/MoSi2 composite is lower than that of MoSi2 materialby about 65 %. The main wear mechanism of rare-earth/MoSi2 composite is adhesive wear.     

射频磁控溅射法制备(111)取向Pt薄膜

以稀土元素Pr薄膜为缓冲层,采用低功率射频磁控溅射法在室温玻璃衬底上成功制备了(111)强烈取向的Pt薄膜,研究了退火热处理工艺对Pt薄膜择优取向及晶粒尺寸的影响规律,并对Pt(111)取向生长机制进行了初步探讨。结果表明,所采用的退火工艺能够促进Pt纳米晶粒的逐步长大,但对Pt薄膜沿(111)择优取向生长的影响并不明显;保温5 h时晶粒生长较快,延长保温时间对晶粒生长速度的影响不大,但随着退火时间的增加,薄膜质量会越来越好。稀土Pr对Pt(111)择优取向生长可能有一定的促进作用。从简化工艺及降低成本角度考虑,该工艺优于以往的制备工艺,可望用做制备高取向PZT铁电薄膜所需的(111)强烈取向Pt底电极。     

在钨电极中添加稀土元素的优化研究

在保证材料能顺利进行塑性加工的前提下，为了提高钨电极的热电子发射能力，对几种稀土元素对钨电极材料的影响情况进行了研究，结果表明：添加总量为钨基体质量2％的稀土氧化物，且Y2O3：(La2O3 CeO2)比例为3：2的钨电极，其综合性能最佳。     

La2O3添加剂增韧MoSi2材料的低温氧化行为研究

对La2O3添加剂增韧MoSi2材料的低温氧化(400-600℃)行为进行了研究。结果表明，材料低温氧化时，由于晶界面积增加和La2O3的加入，轻微降低了MoSi2的抗氧化性，但表面仍形成了致密的Si02保护膜，阻碍了低温氧化的进一步进行，使材料未发生“PEST”现象。     

机械合金化制备MOSi2基复合材料

总结了近年来国内外大于机械合金化制备MoSi2基复合材料的研究成果，重点讨论了MoSi2的概械合金化合成过程和机理，以及机械合金化制备的MoSi2基复合材料的力学性能。机械合金化是一种合成MoSi2及其复合材料的行之有效的方法，其合成过程和机理与球磨条件有关，系统地研究了不同增强体对MoSi2的机械合金化合成过程和机理的影响是必要的，利用微合金化，合金化和复合化三方面的综合作用将成为改善MoSi2基复合材料性能的新发展趋势。     

Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究

用射频磁控溅射法制备Al掺杂ZnO(ZAO)薄膜,研究溅射与真空退火工艺对ZAO薄膜的显微结构及光电性能的影响.采用X射线衍射(XRD)对ZAO薄膜的显微结构进行了测试分析,用四探针测试仪、紫外-可见分光光度计对ZAO薄膜的光电性能进行了测试分析.结果表明:随溅射时间的增加,样品由非晶态向晶态转变,同时也出现(002)择优取向强弱的变化.退火提高了溅射时间较长的薄膜的结晶质量.溅射时间的增加使溅射态ZAO薄膜的光学带隙变窄,但退火处理则使光学禁带宽度增大.溅射时间的增加以及退火处理均使薄膜的透光率稍有下降,但所有ZAO薄膜的透光率均在90%.以上.薄膜的电阻率随溅射时间的增加先降低.后稍有回升.退火使薄膜的电阻率显著降低,当溅射时间为60min时退火后薄膜的电阻率达到最低值,为9.4 ×10-4Ω·cm,其方块电阻低至18.80Ωl/□.     

Sr2Bi2O5高掺杂BaTiO3负温度系数热敏陶瓷的相组成与热稳定性能

研究了以100BaTiO3 xSr2B i2O5(10≤x≤70)为基本原料烧结的热敏陶瓷样品的组成、微观结构、Sr2B i2O5掺杂量对其电阻的影响及老化性能。结果表明:在10≤x≤70的范围内,Sr2B i2O5掺杂BaTiO3陶瓷样品由BaTiO3和Ba0.77Sr0.23TiO3及Sr0.74B i1.26O2.63组成;Sr2B i2O5掺杂的BaTiO3基陶瓷晶粒组织细小均匀,具有典型的NTC特征。BaTiO3基NTC热敏陶瓷在25~250℃范围内的电阻-温度具良好的线性关系,且稳定性好,其室温电阻随着掺杂量的增加而减小。