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胡作启 《真空科学与技术学报》2008,28(1):47-50
用非平衡脉冲直流磁控溅射技术制备出了CrCO-Ti薄膜,其结构、耐磨性和表面能分别用XRD(Phihps X-pert)、Pinon-Disc摩擦磨损测试仪(Tribometer Wear Tester)表面接触角度仪(Surface contact Angle Goniometer)分析,研究了在氮气气氛不同退火温度的条件下,CrCO-Ti保护薄膜的结构变化,并得出结论:非平衡脉冲直流磁控溅射沉积的CrCO-Ti保护薄膜是类非晶态的,其耐磨能力达到10^-8mm^3/Nm,它们的表面能低,经过退火处理后,其结构发生变化,耐磨能力下降。 相似文献
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在实验和理论上研究了粉粒在等离子体鞘区的沉降、带电、收集和刻蚀。基于粉尘对等离子区电子能量分布函数的影响,讨论了粉尘对等离子体的干扰。有关结果表明等离子体对硅粉的纯化处理有可能应用于将工业硅直接制成太阳级硅。 相似文献