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本文研究了填充导电炭黑的聚苯乙的电性能和力学性能。结果表明,对炭黑作表明处理,并以适当比例进行填充时,可降低聚苯乙的体积电阻率,改善力学性能,提高其抗电磁干扰的能力。 相似文献
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In this paper, for improving the photocatalytic efficiency of titania(TiO2) nanoparticles(NPs), Ag Au alloy-TiO2 core-shell NPs are fabricated via a sol-gel(SG) process in the presence of Ag Au alloy NPs with block copolymer shells as templates. The photocatalytic activities of the Ag Au-TiO2 NPs on the photodecomposition of methylene blue(MB) are investigated. The Ag Au-TiO2 composite NPs coated with 5.0% titania related to block copolymers show higher photocatalytic activity than the other samples in which the titania contents are larger than 5.0%. The results indicate that the increase of the thickness of the TiO2 shell leads to the decrease of the photocatalytic activity. 相似文献
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以NH3和SiH4为反应源气体,采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法在多晶硅(p-Si)衬底上沉积了一系列SiN薄膜,并利用椭圆偏振测厚仪、超高电阻-微电流计、C-V测试仪对所沉积的薄膜作了相关性能测试.系统分析了沉积温度和射频功率对SiN薄膜的相对介电常数、电学性能及界面特性的影响.分析表明,沉积温度和射频功率主要是通过影响SiN薄膜中的Si/N比影响薄膜的性能,在制备高质量的p-Si TFT栅绝缘层用SiN薄膜方面具有重要的参考价值. 相似文献
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p-Si TFT栅绝缘层用SiNx薄膜界面特性的研究 总被引:1,自引:1,他引:0
以NH3和SiH4为反应源气体,在低温下采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法在多晶硅(p-Si)衬底上沉积了SiNx薄膜.系统地分析讨论了沉积温度、射频功率、反应源气体流量比对SiNx薄膜界面特性的影响.分析表明,沉积温度和射频功率主要是通过影响SiNx薄膜中的si/N比和H含量影响薄膜的界面特性,而NH3/SiH4流量比则主要通过影响薄膜中的H含量影响薄膜界面特性.实验制备的SiNx薄膜层中的固定电荷密度、可动离子密度、SiNx与p-si之间的界面态密度分别达到了1.7×1012/cm2、1.4×1012/cm2、3.5×1012/(eV·cm2),其界面特性达到了制备高质量p-si TFT栅绝缘层的性能要求. 相似文献
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相对于其他类型的探测器,GaN基紫外光探测器具有很多优点.本文主要介绍了近几年GaN基紫外光探测器的发展,并对各种结构形式进行了比较. 相似文献
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