溅射制备Pt1—xCox（x=0.2—0.4）合金膜的基本光学和磁光常数

在光子能量为１．５ｅＶ－４．８ｅＶ的范围内，测量了用溅射合金靶方法制备的易磁化方向垂直于膜面的Ｐｔ１－ｘＣｏｘ（ｘ＝０．２－０．４）合金膜的光学常数和磁光常数。该合金膜的光学常数夺成份极不敏感。磁光常数随Ｃｏ成份的增加而增加。克尔转角在光有量为４．２ｅＶ附近的峰值随Ｃｏ成份的增大可用费米面附近ｄ电子轨道态密度和Ｐｇ５ｄ电子极化的增大来解释。     

Co／Pt多层膜和CoxPt1—x（x≈0.25）合金膜的垂直磁各向异性

介绍了关于Ｃｏ／Ｐｔ多层膜和ＣｏｘＰｔ１－ｘ（ｘ≈０．２５）合金膜的垂直磁各向异性研究的情况。一般认为,Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的垂直磁各向异性主要源于界面外沿膜面法向的平移对称性中断以及Ｃｏ与Ｐｔ的ｄ电子杂化。界面处的合金化和界面不平整地垂直磁各向异性是不利的。而应力对界面各向异性的影响尚不十分清楚。在具有垂直磁各向异性的ＣｏｘＰｔ１－ｘ合金膜中观察到了Ｃｏ的聚集,Ｃｏ轨道磁矩和Ｃｏ－Ｃｏ对数中向异性。     

PtCo合金的光学、热学结构优化设计

成功地制备了以PtCo合金膜为磁光层的四层膜结构。基于该结构研究了各层厚度对克尔转角、反射率及品质因子的影响,给出了多层膜结构的光学优化结构。通过热学优化,给出了适应于该体系磁光记录的可能最佳结构。比较发现,在考虑反射率的条件下,克尔转角的增强是以牺牲反射率为代价的,因此,选择各层优化厚度必须综合考虑磁光层温度、反射率、克尔转角等热、光学因素。最后,给出了可能的热、光学综合优化结构。