PMMA的摩尔质量对其介电性能的影响

向塑料光纤纤芯材料纯PMMA中引入链转移剂正丁硫醇（n—BM）以控制摩尔质量。研究了正丁硫醇用量对PMMA介电性能（相对介电常数εr、介质损耗因素、松弛频率fr与体积电阻率ρv）的影响。结果表明，PMMA的介电性能几乎不受影响，同时还发现，PMMA的摩尔质量和摩尔质量分布的变化对其密度影响不大，说明塑料光纤在控制摩尔质量时可以兼顾力学性能与介电性能。     

JUS有机硅凝胶相容性的研究

研究了ＪＵＳ有机硅凝胶与各种材料的相容性问题，已固化聚苯硫醚（ＰＰＳ）外壳材料与硅凝胶有很好的相容性，而未固化ＰＰＳ却使铂催化剂中毒，表明含有毒素的物质是否会使铂催化剂中毒，与毒素的形式和活性有关。一般常用的ＤＣＢ板和ＧＤ４０６硅 粘剂一都有较好的相容性，但含有硫元素的７０３硅胶粘剂却使硅凝 毒，最后研究了预防硅凝胶不固化的方法，认为使用ＳＰ漆作屏蔽层是有效的办法。     

工程电介质本世纪的进展与21世纪的发展热点探讨

电介质学科创建于２０世纪初，其学科内容包括介质极化、损耗、电导和击穿的研究。至世纪中叶，工业背景主要为电气绝缘技术。进入下半世纪，一方面，在高电压输电技术发展的推动下，合成高分子电介质迅速代替天然材料成为主要的研究与开发热点；另一方面，功能电介质（包括铁电、压电材料）开始崭露头角，无线电技术为其应用背景。到世纪末，计算机及光电子信息技术的蓬勃发展，又推动电介质的研究开发进入到微波与光频波段。预测在     

MCs^＋—SIMS技术及其应用

强烈的基体效应一直是造成二次离了质谱（ＳＩＭＳ）难以定量分析和解释的主要原因，受其影响，常规ＳＩＭＳ，即Ｍ－ＳＩＭＳ（检测原子型二次离子Ｍ或Ｍ，Ｍ是要分析的元素）的适用范围受到了很大的限制，近几年来，上述状况已经通过一种新技术开发得到明显改善，这就是ＭＣｓ－ＳＩＭＳ技术，即在Ｃｓ一次离子轰击睛检测分子型二次离子ＭＣｓ而不是Ｍ。由于该技术明显减小甚至消除基体效应，从而开辟了ＳＩＭＳ定量分析的新途径，     

UV-光固化光纤涂料的研制

本文采用环氧丙烯酸酯与聚氨酯丙烯酸酯共混聚合的方法制备出新型的UV．光固化光纤涂料,其主要性能较好．研究了基体组成、引发剂、稀释剂以及固化工艺对UV-固化光纤涂料的光固化速度的影响．通过实验发现,环氧丙烯酸酯与聚氨酯丙烯酸酯的配比为4：6～6：4、稀释剂的含量不大于20％时固化速度较快、性能较好,同时固化时灯距与固化膜厚度对固化速度的影响较大．     

梯度型塑料光纤棒制备工艺的研究

本文研究了通过界面凝胶聚合法制备折射率呈梯度型（GI）分布的塑料光纤棒,以溴苯（BB）作为高折射率掺杂单体。研究发现,在聚合反应前期,混合物在真空70℃的环境下聚合,而后期反应在高压气氛中进行,可以制备出没有任何真空泡和气泡的梯度型塑料光纤棒。     

塑料光纤折射率分布的测量方法

介绍了国内外测量塑料光纤折射率分布的几种主要方法 ,包括近场折射法、横向干涉法和方向偏转法 ,并简述了它们的测量原理及应用。     

体特性高压硅整流元件设计制造的关键技术

具有雪崩体特性击穿的高温高压大功率整流元件的设计和制造需要采用中子辐照单晶，并结合不同的结片结构选择不同的基区利用系数η。针对P^ -P—N—N^ 型和P^ —I—N^ 型结构设计改进扩散方法，选择合适的表面选型，并采用表面保护复合结构可以获得耐压温度特性优良的体特性器件。     

MCs~ -SIMS技术及其应用

强烈的基体效应一直是造成二次离子质谱（SIMS）难以定量分析和解释的主要原因。受其影响，常规SIMS，即M±－SIMS（检测原子型二次离子M＋或M－，M是要分析的元素）的适用范围受到了很大的限制。近几年来，上述状况已经通过一种新技术开发得到明显改善，这就是MCS＋－SIMS技术，即在CS＋一次离子轰击下检测分子型二次离子MCS＋而不是M±。由于该技术能明显减小甚至消除基体效应，从而开辟了SIMS定量分析的新途径。在综述MCS＋－SIMS技术的由来、发展、特点和应用以及MCS＋的生成机理的基础上，介绍了该技术的扩展思路。