首页
|
本学科首页
官方微博
|
高级检索
文章检索
按
中文标题
英文标题
中文关键词
英文关键词
中文摘要
英文摘要
作者中文名
作者英文名
单位中文名
单位英文名
基金中文名
基金英文名
杂志中文名
杂志英文名
栏目英文名
栏目英文名
DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
检索
检索词:
出版年份:
从
到
被引次数:
从
到
他引次数:
从
到
提示:输入*表示无穷大
全文获取类型
收费全文
1篇
免费
0篇
专业分类
化学工业
1篇
出版年
1986年
1篇
排序方式:
出版年(降序)
出版年(升序)
被引次数(降序)
被引次数(升序)
更新时间(降序)
更新时间(升序)
杂志中文名(升序)
杂志中文名(降序)
杂志英文名(升序)
杂志英文名(降序)
作者中文名(升序)
作者中文名(降序)
作者英文名(升序)
作者英文名(降序)
相关性
共有1条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
掺砷、掺磷及掺硼二氧化硅乳胶的化学分析
陈章强
朱英英
颜新贞
邱鹤钧
《上海化工》
1986,(6)
前言二氧化硅乳胶是一种新型的液态扩散源,它已广泛应用于集成电路和半导体器件的生产上。例如,纯二氧化硅乳胶经氧化致密可作屏蔽层,掺砷二氧化硅乳胶可作模拟集成电路的埋层扩散源,掺磷二氧化硅乳胶可作为衬底扩散源,掺硼二氧化硅乳胶则可作为PNP管发射区的扩散源等等。使用这些新型液态扩散源,可使工业流程缩短,成品合格率提高。我们参照国外有关资料研制成功的此类二氧化硅乳
相似文献
1
设为首页
|
免责声明
|
关于勤云
|
加入收藏
Copyright
©
北京勤云科技发展有限公司
京ICP备09084417号