用于BaF2闪烁光慢成分抑制的膜系设计及制备

利用BaF2闪烁光快、慢成分处于不同波段的性质，设计出了具有特定带隙的膜系结构，用于抑制发射光谱中的慢成分。在保证快成分具有一定透过率条件下，实现了对BaF2闪烁光慢成分的全方向抑制，使晶体的快慢比得到很大提高。从膜系γ射线辐照损伤的结果可知：辐照对膜系透射带和截止带的影响不大，辐照后的膜系仍能满足抑制要求。     

抑制BaF2晶体闪烁光慢成分的选择吸收膜系的研究

根据BaF2晶体闪烁光快、慢成分波段的不同，设计并制备了用于抑制该晶体闪烁光慢成分的Al2O3／MgF2／Al／MgF2…金属-介质选择吸收膜系．透射光谱、发射光谱和发光衰减时间谱的实验结果显示，所研制的选择吸收膜系达到了预期的要求，BaF2晶体闪烁光快、慢成分比提高了80倍以上，有效地提高了：BaF2闪烁晶体在高计数率测量中的应用价值．     

X射线激光自支撑Mo滤光膜的制备及特性研究

用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积 Mo薄膜 ,将薄膜在真空环境中进行热处理 ,用扫描探针显微镜 ( SPM)方法观察了薄膜的表面形貌 ,X-射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系。发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向 ,内应力沿径向对称分布 ,切向应力比径向应力更具有压应力特性 ,应力的各向异性特征与溅射原子的入射方向有关。真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显 ,然而能有效地释放薄膜中的张应力。用 HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑 Mo薄膜 ,发现脱膜前后薄膜表面微观形貌未产生大的变化。     

X射线激光自支撑Mo滤光膜的制备及特性研究

用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积Mo薄膜,将薄膜在真空环境中进行热处理,用扫描探针显微镜(SPM)方法观察了薄膜的表面形貌,X-射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系.发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向,内应力沿径向对称分布,切向应力比径向应力更具有压应力特性,应力的各向异性特征与溅射原子的入射方向有关.真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显,然而能有效地释放薄膜中的张应力.用HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑Mo薄膜,发现脱膜前后薄膜表面微观形貌未产生大的变化.     

超薄膜生长过程中分形凝聚体的计算机模拟

利用计算机模拟了超薄膜中分形凝聚体的生长 ,考虑了薄膜生长过程中的团簇扩散和旋转。开始的团簇生长采用不同允许扩散步长下准圆形团状生长的分子动力学模型。研究了基底上分形凝聚体中团簇的扩散和旋转对表面形貌的影响 ,引进了团簇的扩散和旋转因子。结果表明 :初始的小团簇经过无规则的扩散和旋转逐渐凝聚成具有分支状的凝聚体。团簇的旋转对分形结构的维数值没有太大的影响。     

X射线激光自支撑Mo滤光膜的制备及特性研究

用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积Mo薄膜,将薄膜在真空环境中进行热处理,用扫描探针显微镜(SPM)方法观察了薄膜的表面形貌,X-射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系.发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向,内应力沿径向对称分布,切向应力比径向应力更具有压应力特性,应力的各向异性特征与溅射原子的入射方向有关.真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显,然而能有效地释放薄膜中的张应力.用HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑Mo薄膜,发现脱膜前后薄膜表面微观形貌未产生大的变化.     

超薄膜生长过程中分形凝聚体的计算机模拟

利用计算机模拟了超薄膜中分形凝聚体的生长,考虑了薄膜生长过程中的团簇扩散和旋转.开始的团簇生长采用不同允许扩散步长下准圆形团状生长的分子动力学模型.研究了基底上分形凝聚体中团簇的扩散和旋转对表面形貌的影响,引进了团簇的扩散和旋转因子.结果表明:初始的小团簇经过无规则的扩散和旋转逐渐凝聚成具有分支状的凝聚体.团簇的旋转对分形结构的维数值没有太大的影响.     

超薄膜生长过程中分形凝聚体的计算机模拟

利用计算机模拟了超薄膜中分形凝聚体的生长,考虑了薄膜生长过程中的团簇扩散和旋转.开始的团簇生长采用不同允许扩散步长下准圆形团状生长的分子动力学模型.研究了基底上分形凝聚体中团簇的扩散和旋转对表面形貌的影响,引进了团簇的扩散和旋转因子.结果表明初始的小团簇经过无规则的扩散和旋转逐渐凝聚成具有分支状的凝聚体.团簇的旋转对分形结构的维数值没有太大的影响.