具有高耐蚀性和导电性的掺Cr类金刚石非晶碳的化学式解析

Cr掺杂的类金刚石非晶碳具有良好的导电性和耐腐蚀性,这对于燃料电池金属双极板涂层改性特别重要。使用团簇加连接原子模型对其非晶结构进行了详细解析,在该模型中,良好的玻璃形成材料由覆盖特征性最近邻团簇加上几个下一壳层原子的结构单元来表述。根据文献,在Cr掺杂的类金刚石非晶碳中占优势的团簇是Cr中心和C壳层的[Cr-C4]四面体团簇,然后将该团簇与适当的连接原子匹配,以满足电子轨道饱和原理。由此推导出了两个最优组成式,即[Cr-C4]CrC3(22.2%Cr)和[Cr-C4]Cr3C2(40%Cr),它们显示出良好的非晶态结构稳定性。实验结果显示,所提出的这两组化学组成的涂层材料兼具低电阻率(低至10-4Ω·cm)和优异的耐腐蚀性(腐蚀电流密度~10^-2μA/cm^2)。在sp2键含量和渗流理论的框架内讨论了导电和耐蚀的协同行为。这项工作验证了团簇加连接原子模型在具有高耐腐蚀性和高导电性的涂层材料成分设计中的可行性。     

燃料电池不锈钢双极板CrN/CrC薄膜表面改性研究

采用离子镀技术在质子交换膜燃料电池不锈钢双极板表面制备了CrN/CrC多层薄膜。测试结果表明,与未镀膜的不锈钢基体相比,镀膜不锈钢的接触电阻(120N/cm2压紧力)降低2个数量级,并且耐蚀性能显著改善,腐蚀电流密度降低0.5~1个数量级。同时,镀膜不锈钢的耐久性亦大幅提升,改性薄膜可以有效保护不锈钢基体免受腐蚀损害。     

帷幕灌浆在闸室基础中的应用——以长乐市滨江路营前港闸桥建设工程为例

基于我国水利工程建设与运行情况来看,水工建筑物失事约半数是地基失稳或险情所致.由此可知做好基础处理工作十分关键.本文首先对灌浆技术原理与类型展开论述,其后详细探讨帷幕灌浆在闸室基础中的应用要点,最后围绕长乐市滨江路营前港闸桥建设工程为例详细探讨了帷幕灌浆施工情况,以期为相关工作者提供参考.     

磁场对电弧离子镀深管内壁沉积TiN薄膜的影响

用电弧离子镀设备在一端封口的Φ50 mm×200 mm×5 mm不锈钢深管内壁上沉积TiN薄膜,镀膜前在管子上方布置一个0.4 T的永磁体,以考察附加磁场对深管内壁沉积TiN薄膜的影响。对薄膜的厚度、表面形貌、相结构、显微硬度等随管子深度的变化进行了分析与测试,结果表明,薄膜的厚度及显微硬度都随管子的深度而下降,但在距管开口处前120 mm范围内下降明显慢于未加磁场的,说明磁场对内孔沉积具有促进作用;按照显微硬度不低于20 GPa划分,本实验的镀膜深径比达到了2.0,比未加磁场时提高了40%。     

油气田企业固定资产投资项目节能评估工作研究

阐述了塔里木油田分公司实施固定资产投资项目节能评估的主要做法,分析了实施节能评估的时间节点问题,并指出建设节能评估配套体系文件的必要性,提出了对节能评估的几点认识。     

企业节能量计算方法浅析

阐述了企业在实施节能降耗过程中普遍采用的节能量计算方法,对产品单耗节能量和技术措施节能量进行了分析,并对比了采用单耗法和技术措施法计算节能量的适用范围和局限性,指出两种方法对企业的意义,提出了在节能量计算过程中的注意事项和几点认识。     

谈工程量清单计价模式下的建设工程索赔

文中介绍了工程量清单计价模式下加强建设工程索赔的必要性,从三个方面着手分析索赔是否成立及索赔的主要原由,并对工程索赔内容及费用计算进行了探讨。     

分离靶多弧离子镀Nb-Al合金薄膜及其热腐蚀行为

采用分离靶多弧离子镀技术,通过改变基片负偏压和分离靶弧电流以及镀膜时间等参数,在310SS(stainless steel)基片上制备了多种成分的Nb1-xAlx(0.38＜x＜0.64)合金薄膜.结果表明,选择适当的基片负偏压和分离靶弧电流可制得所需成分的二元合金薄膜.对所制备的Nb1-xAlx薄膜,分别做了600℃、900℃的热腐蚀实验(低温热腐蚀和高温热腐蚀),热腐蚀实验表明,该薄膜具有较好的抗热腐蚀能力.     

箱涵逆作法施工技术在溪源泄洪洞工程中的应用分析

箱涵在市政工程中应用广泛,常规采用围护顺作法开挖施工方法,基于实际工期要求,逆作法被提出,且其在施工安全、经济性方面表现均较好.本文以溪源泄洪洞工程为例,详细分析了箱涵逆作法施工技术在溪源泄洪洞工程中的应用情况,以期可为类似项目提供有价值的参考.     

脉冲偏压对电弧离子镀非晶氧化钛薄膜性能的影响

用脉冲偏压电弧离子镀技术在玻璃基片上制备均匀透明的氧化钛薄膜，通过改变脉冲偏压幅值，考察其对氧化钛薄膜性能的影响。结果表明，沉积态薄膜为非晶态；脉冲偏压对薄膜性能有明显的影响。随偏压的增加，薄膜厚度、硬度和弹性模量均先增大后减小，前者峰值出现在-100-200V负偏压范围，后两者则在-150～250v范围：-300v偏压时的薄膜硬度最高；达到原子级表面光滑度，RRMs为0．113nm，薄膜折射率也最高，在λn=550nm达到已有报道的最高值2．51，此时薄膜具有最好的综合性能。文中对脉冲偏压对薄膜性能的影响机理也进行了分析。