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1.
本文叙述了影响光刻伺服图形质量的各种因素，主要可分为磁盘光刻过程中半导体工艺产生的质量误差和机械定位不准产生的伺服图形偏心误差，并提出了消除产生误差的可行措施
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光刻伺服盘系统作为新一代的磁盘伺服定位技术研究成功,通过检测实验,其质量已达到设计要求.
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6.
利用光刻技术成功地制作了4000TPI(Tracks Per Inch)伺服盘.通过扫描电镜、振动样品测试仪及干涉仪检测结果证明,所研制了光刻伺服盘达到了设计要求.
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7.
阐述了光刻伺服盘媒体微细加工实验过程，分析了刻蚀工艺中影响磁盘光刻图形的不利因素，实践证明利用半导体微细加工技术光刻伺服盘，能大幅度提高磁道密度，增加磁盘驱动器的容量，是一种先进的可行方法
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