三维空间偏转磁场的测量和解算

本文改进了Bloomsburgh 方法,用特制的线圈测定有效磁场边界面上有限点的磁场强度,然后借助于电子计算机,通过数值积分、离散化和微分,获得了整个空间的磁场分布。大大减少了测量数据,可以直接配合电子轨迹的计算。用显象管偏转线圈进行的实验表明,这种测量系统具有高度的稳定性和可靠性,计算结果与逐点测量值符合得较好。     

电子光学系统的复合形法最优化设计

本文提出的复合形优化方法(Complex Method)作为多维有约束的最优化设计方法用于电子光学系统设计,是对单纯形法无约束最优化设计的一个重要改进,有利于实现最优化的自动搜索和保证搜索结果符合预定要求,在电子光学设计中具有明显的优越性。     

电子光学系统最优化设计中的非线性规划:应用与比较

以电子光学系统中发射系统为实例，从收敛速度、搜索效果、整体收敛性等几个方面，系统地对非线性规划的五种搜索方法在电子光学系统设计中的应用进行分析和比较，得出了一些有价值的结果。计算表明Rosenbrock法是电子光学系统最优化设计中最值得推荐的方法。     

低能电子全息高分辨率三维数值重现研究--一种提高三维重现像分辨率的新方法

本文将一种基于多电子能量电子全息重现像加权叠加原理的方法,用于提高低能同轴电子全息的三维数值重现像分辨率,并以三层石墨晶体为样品进行了计算机模拟研究.结果表明,用该方法数值重现时可以有效地消除样品各层电子散射的干扰,并抑制数值重现过程中产生的虚假峰,从而改善了像质并明显地提高了三维重现分辨率.     

Simulation Studies of Rib Structure Effect on Discharge Characteristics of Plasma Display Panel

To investigate the effect of the rib structure on the discharge characteristics of the plasma display panel, the potential distribution, particles density distribution and ions incident angle distribution were examined by simulation of a two-dimensional particle-in-cell/Monte Carlo collision, with two kinds of rib structure： the stripe rib structure and the Waffle rib structure. The results showed that the distribution of electric potential at the corner of the discharge cell was almost the same for these two rib structures while in the centre there was a difference between these two rib structures. The striation phenomenon could be observed in both cases. The distribution of density also indicated that the striation phenomenon was accompanied by the firing of discharge, and the Waffle rib structure might reduce the density humps. In the cell with a stripe rib structure, the profiles of the surface charge density along the sustained dielectric layer presented a better fluctuating distribution than that in the cell with a Waffle rib structure. The spatial potential and particle density in the discharge bulk showed that the Waffle ribs could weaken the striation phenomenon, which could be explained by the decrease in the particle numbers in the discharge cell. The simulation results of the ion incident angle showed that most ions impacted the sustained dielectric layer in the normal stripe rib cell with an incident angle in the range of 6° to 19° while with the Waffle rib structure the incident angle of most ions was in the range of 4° to 19°. The Waffle rib structure did not affect the angle distribution of incident ions significantly.     

磁控溅射薄膜生长全过程的计算机模拟研究

本文通过建立多尺度模型,结合模拟了磁控溅射中溅射原子的产生、溅射原子的碰撞传输、以及最终成膜的全过程,研究了基板温度、溅射速率、磁场分布和靶材-基板间距对薄膜生长过程与薄膜性能的影响.模拟结果显示,提高基板温度或降低溅射速率都会增加初期生长阶段薄膜的相对密度;磁场对靶的利用率有显著的影响,而对薄膜最终形貌的影响不大;增大靶材-基板间距会降低薄膜的粗糙度.     

矩形离子阱质量分析过程的数值模拟

传统的四极离子阱质量分析器中离子的运动可用二阶线性微分方程——Mathieu方程的解来描述。根据Mathieu稳定图所反映的离子运动特性,可实现离子的质谱分析。但Mathieu方程对平板电极的矩形离子阱描述不再准确适用,本文通过数值模拟的方法,依次对矩形离子阱质量分析器内电场分布、离子运动轨迹、离子阱的Mathieu稳定图以及标准工作模式下获得的质谱图进行了模拟和分析。     

遗传算法用于电子枪发射系统的全局最优化设计

常用的优化设计方法 ,如单纯形法、Powell法等 ,易陷入局部最优解。而遗传算法是一种新兴的直接搜索最优化算法 ,它模拟达尔文遗传选择与自然进化的理论 ,根据“适者生存”和“优胜劣汰”的原则 ,借助“复制”、“交换”、“突变”等操作可以得到全局最优解。本文将遗传算法运用于电子枪发射系统的最优化设计 ,得到了使交叠点半径尽可能小的发射系统的最佳结构和相应电参量     

电子光学系统最优化设计中的科学计算可视化技术

在提出的电子光学系统最优化设计与科学计算可视化相结合的新构想──可视化最优化设计中，以电子发射系统为例，提出了一种有效方法：逆向匹配插值法，可以将代化搜索过程中电子轨迹显示成电子束密度分布，进而为电子光学系统最优化设计实现实时控制和在线判断提供了可能性。还与类蒙特卡罗方法作了比较和讨论。     

物理气相淀积成膜的计算机模拟

运用蒙特卡罗方法，模拟了不同条件下的物理气相淀积薄膜生长过程。在40×40个原子的简单立方单晶（100）面上，模拟计算了不同条件下所成简单立方单晶薄膜的生长情况，得出了覆盖率、成膜速率、稳定性与基体温度、蒸气压强的关系。模拟计算结果与理论和实验一致。