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GaN材料在光电子器件领域的广泛应用前景使得金属与其欧姆接触的研究成为必然。本对Si基n型GaN上的A1单层及Ti/Al双层电极进行了研究。通过对不同退火条件下的I—U特性曲线，X射线衍射以及二次离子质谱分析，揭示了界面固相反应对欧姆接触的影响，提出了改善这两种电极欧姆接触的二次退火方法。 相似文献
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GaN材料在光电子器件领域的广泛应用前景使得金属与其欧姆接触的研究成为必然。本文对Si基n型GaN上的Al单层及Ti/Al双层电极进行了研究。通过对不同退火条件下的I U特性曲线 ,X射线衍射以及二次离子质谱分析 ,揭示了界面固相反应对欧姆接触的影响 ,提出了改善这两种电极欧姆接触的二次退火方法 相似文献
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介绍了在蓝宝石衬底和ELOG（外延横向过生长）衬底上生长的InGaN量子阱LEDt LD结构，并描述了LED和LD的器件应用。 相似文献
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GaN基量子点的生长及其特性已成为目前Ⅲ-Ⅴ族半导体研究的热点.由于其较强的量子效应,量子点结构的光电器件有望获得比量子阱器件更优异的性能.总结了InGaN/GaN量子点的最新研究进展,从生长模式、发光特性和制造工艺三个方面对InGaN/GaN量子点做了较详细的介绍,并对其在半导体器件的具体应用前景上提出了合理的设想. 相似文献
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