特种陶瓷行业将异军突起

特种陶瓷行业将异军突起继金属、塑料两大工业材料之后，特种陶瓷将异军突起，成为世界上新兴的第三大工业材料。我国正式将特种陶瓷列入国家重点攻关项目，经过“七五”“八五”的攻关，取得了一系列科研成果和重大突破。据统计，我国目前有４０多家特种陶瓷生产企业，仅...     

美国风力发电有重大技术进步

美国风力发电规模将迅速扩大 ,据美国电力研究所预测 ,到 2 0 10年 ,美国的风力发电规模将达到 50ＧＷ。这家研究所介绍说 ,目前 ,美国对风力机进行了两项重大的技术变动 ,引进了空气动力学和微电子技术。前者利用飞机上的可变螺旋桨叶片原理 ,使风力机的叶片能随着风速的大小随意旋转 ;后者使运行发电全部计算机化 ,从而使发电能力提高 4倍。改进后的风力机在风速达到 4ｍ/ｓ时 ,就能发电 ,而且在风速达到 2 7ｍ/ｓ时 ,仍能继续工作。相比之下 ,旧式风力机在风速达到 6ｍ/ｓ才能发电 ,而当风速达到 2 0ｍ/ｓ时就得停转。目前 ,全美国的风力…     

Ag/BiOCl复合纳米薄膜的合成及光催化性能研究

研究了贵金属Ag修饰对新型半导体BiOCl薄膜材料光催化性能的影响.采用溶胶-凝胶浸渍提拉法先在ITO玻璃上制备了BiOCl薄膜.以其为基底用磁控溅射方法沉积少量的Ag制备Ag/BiOCl复合纳米薄膜.分别研究了不同沉积时间和溅射气压,以及后处理温度下获得的Ag/BiOCl薄膜对罗丹明B(Rh B)染料在紫外光下的光催化降解活性.结果发现适量的Ag修饰能够提高BiOCl薄膜的光催化活性.通过实验探索,当制备金属Ag的优化参数为溅射压强1 Pa,溅射时间1 s,后处理温度200℃,时间1h时获得的Ag/BiOCl复合纳米薄膜具有最好的光催化性能.用XRD,SEM,UV-Vis光谱等测试方法对其结构、形貌、光谱吸收性等进行了测量分析.进一步探讨了适量贵金属沉积对BiOCl薄膜光催化活性提高的可能原因,杂质能级形成的肖特基势垒对电子有捕获陷阱作用从而增加电子-空穴对的分离,同时利于光生载流子的重新分布.     

ITO／WO3／LiTaO3／NiOx／ITO全固态电致变色器件的制备及性能研究

利用磁控溅射法在不同流量的液氮低温冷却的条件下在ITO玻璃上制备WO3、LiTaO3、NiOx、ITO薄膜,5层薄膜组成ITO/WO3/LiTaO3/NiOx/ITO全固态电致变色器件.采用XRD、SEM、可见光分光光度计等测试手段进行对比分析.结果发现:低温制备的WO3薄膜为非晶态结构,在可见光范围内漂白态和着色态的平均透射率差△T可以达到70%以上.LiTaO3薄膜表面的颗粒度比较小,结构致密,其厚度对整个器件的光学性能有一定影响,在可见光范围内平均透射率达到95%.在低温条件下制备的NiOx薄膜比常温沉积的薄膜会提供更多的Ni2 离子参与变色反应.该器件显示出较好的电致变色特性.     

退火温度对CsI(Tl)薄膜微观结构和闪烁性能的影响

采用真空热蒸发法制备了CsI(Tl)薄膜, 然后进行了不同温度的真空热处理．用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、X射线荧光光谱仪及正电子寿命谱仪对CsI(Tl)薄膜样品进行了分析, 并测得了样品的光产额．结果表明, 该CsI(Tl)薄膜沿(200)晶面择优取向生长．经过较低温度退火, CsI薄膜中的Tl⁺离子向薄膜表面扩散, 薄膜中缺陷数量增加, 且尺寸较大, 光产额略微增高．经过250℃退火, 薄膜中低温退火所形成缺陷得到恢复, 薄膜缺陷尺寸变小, 且数目减少, 具有较好的结晶状态, 光产额提高．经过400℃退火, 薄膜结构发生显著变化, 薄膜中缺陷大幅增加, 结晶状态变差, Ti+含量减少, 光产额急剧下降．     

软X射线发射光谱法研究过渡金属硅化物的价电子能带结构

用软X射线发射光谱法对MnSi、MnSi1.7这两种组成的过渡金属锰硅化物的价电子能带构造进行了研究.首先在硅表面上形成了MnSi、MnSi1.7单一相薄膜,并用X射线衍射谱得到证实.然后测量了这两种锰硅化物的软X射线发射光谱Si-Kβ发射光谱和Si-L2,3发射光谱,Si-Kβ发射光谱反映的是硅化物的价电子能带的Si-p部分电子态密度,而Si-L2,3发射光谱反映的是硅化物的价电子能带的Si-s,d部分电子态密度.MnSi、MnSi1.7的Si-L2,3发射光谱具有不同的形状.这些不同形状的原因,对比着这两种硅化物的晶体结构和价电子的能带结构进行了分析与讨论.     

高功率脉冲电子束溅射法制备钴-钛多层膜

本文介绍一种利用高功率脉冲电子束溅射法制备金属多层膜的新方法。强脉冲电子束轰击金属靶将产生瞬态高温等离子体,从这种等离子体中飞出的金属离子沉积在附近的衬底上,从而制得Co/Ti系和其他多种金属多层膜。本文报道了对多层膜进行的TEM和AES研究的结果。     

电脑及电脑中心的防火

电脑也称计算机。是现代科学技术发展的重要标志。电脑在今天的信息时代，已遍及科研、生产和人民生活的每一个角落。因此，电脑防火也正逐步成为消防一Xi作的新课题。由于电脑元件对温度、湿度、烟雾、化学作用等高度敏感。因此,一旦失火极易造成损失。此外若灭火剂使用不当，即使是火灾扑灭，留下的电脑设备也会受到巨大的损失，而成为一堆废物。如西德一个轧钢厂的电脑中心起火，尽管采取了有力措施，及时扑灭火灾但电脑和附属设备由于烟熏、水渍，损失达100万马克以上。由于电脑往往控制着一庞大的系统一巳失火，指挥机构失灵，殃及整…     

高性能陶瓷——未来工业的基础材料

一项名曰:“未来工业之基础技术的研究与开发计划”是日本的一项10年规划,是1989年由日本通商产业省工业科学技术厅(AIST)发起的。目前该规划有三个研究领域和12项研究开发课题。课题为: 新材料领域:(1)高性能陶瓷;(2)新型分离技术用的合成膜;(3)合成金属;(4)高性能塑料;(5)控制结晶结构的高级合金;(6)高级合成材料。 生物技术领域:(7)生物反应器;(8)大尺寸细胞的培养;(9)重组脱氧核糖酸的应用;