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放电等离子体中XeI准分子的形成过程 总被引:1,自引:1,他引:0
研究了Xe/I2 混合气体 (气压 70~ 1330Pa)在直流辉光放电情况下XeI 准分子的形成过程 ,得到了XeI 准分子在 2 40~ 2 70nm波长范围内的荧光发射谱。并对XeI (B→X)跃迁谱线强度随混合气体压力的变化进行了实验研究 ,发现气压为 333Pa时荧光最强 ;此条件下 ,放电等离子体的电子温度为 13 2eV ,表明低气压放电等离子体中主要反应通道为快电子碰撞Xe使其跃迁至 3 P ,随之与I2 碰撞形成 XeI(A ,B ,C)。 相似文献
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本文利用皮秒时间分辨条纹相机技术检测了3种染料在立方颗粒溴化银上吸附后形成聚集体的荧光光谱,分析了3种染料在不同染料浓度下对染料聚集体到溴化银导带的超快电子转移过程的影响,进而分析其对增感效率的影响关系,并探讨了增感过程的微观机理.实验结果表明,荧光衰减的动力学曲线与一个双指数函数拟合得相当好,存在一快一慢两个衰减成分,快衰减成分占拟合较大比例,表明其源于与荧光衰减相竞争的从激发态染料聚集体到AgBr导带的电子转移.光致电子转移的速率及增感效率随着染料相对浓度的增加表现出一定的变化趋势,染料浓度增加,增感效率减小. 相似文献
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企业可以塑造品牌,反过来,品牌也可以带活企业。黑龙江摇篮乳业就是这种良性循环的典型。与大多数优秀的企业一样,摇篮乳业在诞生之初,走的是一条“先做市场再做品牌的启蒙之路。”作为新兴企业,摇篮面临着三无状态:一无实力、二无资源、三无市场,就像一个还在苦苦争取生存权的人,所以选择了低调,尽可能多地扩大销量,使自己活下来。 相似文献
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螺旋波等离子体沉积纳米硅薄膜结构特性 总被引:1,自引:0,他引:1
采用螺旋波等离子体化学气相沉积(HWPCVD)技术,以SiH4作为源反应气体在Si(100)和玻璃衬底上制备了纳米Si薄膜。通过X射线衍射(XRD)、Raman光谱、原子力显微镜(AFM)对所制备的材料结构和形貌等特性进行表征,分析了纳米Si薄膜结构随衬底温度变化的规律。实验结果表明,在较低的衬底温度(100-300℃)范围内,可以实现高晶化度纳米Si薄膜的沉积,颗粒大小在4-8nm之间,样品的晶化度随着衬底温度升高而升高,晶粒大小也随之增大,样品表面光滑,晶粒分布均匀。 相似文献
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本工作仔细测量了腔长30mm,内径14.5mm的超小型He—Ne激光器在不同总气压、分气压比、工作电流条件下的输出功率。得到分气压比PHe;PNe=9.7:1,总气压P=4.6torr和工作电流I=3mA的最佳工作条件。为此类激光器的应用提供了数据。 相似文献