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1. IntroductionWith the requirement of decreasing feature dimen-.sions and increasing device packing density for uLtralarge scale integration (ULSI) circuits, low dielec-tric materials have been often used as insulator lnyersbetween metal lines to reduce parasitic capacitance.Fluorinated amorphous carbon film (aC:F) has nowbeen one of the main candidate materials due toits good electric properties and mechanical perfor-manc e[l, 2, 3]. FOr the characterization of aC:F film,much attention h… 相似文献
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杨慎东 《建筑·建材·装饰》2015,(5)
随着我国经济的迅速发展,城镇化率也不断增加,城市中的建筑规模不断扩大。但是同时在国内的各个建筑工程的施工场地,消防工程这方面的问题存在很多严重的问题,消防施工失控等问题比较突出,发生过很多火灾事故,存在许多安全隐患,对人们的生命安全构成了极大的威胁,因此要重视消防系统的施工,切实提高施工技术水平,保证工程质量,本文就建筑消防系统施工中存在的问题进行探讨,并分析了施工中的注意要点和质量提高的措施。 相似文献
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用苯 (C6H6)和四氟甲烷 (CF4 )混合气体作源气体 ,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术制备了含氟非晶碳膜 (a C :F)。着重讨论了输入的微波功率对成膜结构和性质的影响。我们对沉积的膜作了膜厚、扫描电子显微表面形貌 (SEM)、紫外 -可见光透射谱 (UV -VIS)、傅立叶红外变换 (FTIR)等的测量。结果表明随着微波功率的增加沉积速率一直在上升 ;同时膜中缺陷增多 ;从FTIR的结果我们发现膜中主要以C -F、CF2 和F -芳基成键 ;通过UV -VIS吸收谱的测量的结果我们求出了折射率和光学带隙 ;并且将光学带隙和膜中的sp2 碳浓度建立关系 相似文献
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1. IntroductionWith the development of ultralarge-scale integration (ULSI), multilevel interconnections have be-come increasingly important. Interconnection delaycaused by parasitic caPacitance has attracted moreattention than gate delay. Low- die le ct riccon st antmaterials are required to reduce this delay and improve the swiching performance [1~41.An a-C:F thin film can be used as an ideal in-terlayer dielectric material fOr its low dielectric con-stant, good elecrtic proPerty, good ga… 相似文献
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