小型胚芽米碾米机工艺参数的试验研究

对影响胚芽米碾米效果的碾米机工艺参数进行了研究.以碾米辊转速、碾辊筋倾角和碾白室间隙为试验工艺参数,以留胚率、增碎率为评价指标,采用二次回归旋转试验设计,研究留胚率和增碎率在各参数影响下的变化规律.结果表明:碾米辊转速和碾白室间隙是影响碾米时留胚率和增碎率的两个主要因素,碾辊筋倾角次之;胚芽米碾米机最优工艺参数为碾米辊转速948 r/min、碾辊筋倾角0.86°、碾白室间隙11.2 mm.     

溅射沉积MoS2薄膜中掺杂Ti对其结构与性能的影响研究

采用非平衡磁控溅射沉积技术制备纯MoS2和不同Ti掺杂量的MoS2-Ti复合薄膜。用SEM和XRD对薄膜的形貌和结构进行分析,用纳米划痕仪测试薄膜与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机评价薄膜在大气和真空环境中的摩擦学性能。研究结果表明:在溅射沉积MoS2薄膜过程中掺杂金属Ti,有效地阻断了MoS2疏松、多孔柱状晶的优势生长,从而生成组织结构致密、无定形态的薄膜,提高了其与基底间的附着力。掺Ti复合薄膜在大气和真空环境中的摩擦学性能都得到显著改善,真空环境中10%Ti含量的薄膜耐磨寿命最长,是纯MoS2膜的37倍,大气环境中20%Ti含量的薄膜耐磨寿命最长,是纯MoS2膜的67倍。     

磁控溅射防锈MoS2薄膜沉积工艺研究

介绍了磁控溅射制备防锈MoS2薄膜的沉积工艺,同时对影响膜层性能的几个因素进行了初步的探讨,并且制备了防锈性能优良的MoS2薄膜样品。     

沉积压力对非平衡磁控溅射沉积MoS2-Ti复合薄膜的结构与性能影响研究

采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积压力对薄膜的结构和性能的影响.利用XRF、轮廓仪和XRD分析测试薄膜的成分、厚度和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能.结果表明:降低沉积压力使溅射粒子的平均自由程变大,薄膜沉积过程中再溅射作用加强,对薄膜的结构和性能产生较大的影响.沉积压力升高,薄膜中S和Mo原子比和Ti质量分数随之增大,变化范围分别为1.50～1.77和5.8%～8.1%,薄膜沉积厚度先增大后减小,薄膜晶相结构从明显的(002)基面优势取向向准晶态转变;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随沉积压力的升高而降低,薄膜硬度变化范围是5.7～3.5 GPa,薄膜与基底间附着力变化范围是100～75 mN;薄膜在真空环境中的减摩性能不受工作压力变化影响,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01～0.04,薄膜耐磨寿命随沉积压力升高依次为9 000,21 500,28 000,18 000 m ,工作压力低时再溅射作用破坏了MoS2分子层间的滑移能力从而使其耐磨寿命降低.     

中花6号花生仁压缩力学性能及仿真分析

目的 研究3种成熟度花生仁在3种压缩方向下的力学性能。方法 以中花6号花生仁为研究对象,通过正压、侧压和立压等3种方向,对3种不同成熟度样品进行压缩试验,获得力学特性曲线,计算其弹性模量和抗压强度等力学参数;通过方差分析得出成熟度、压缩方向与各力学参数之间的关系;通过三维建模和有限元分析,比较试验值与模拟值之间的误差,验证花生仁压缩试验及有限元分析的可靠性及准确性。结果 在3种压缩方式下,测得3种不同成熟度的花生仁弹性模量为15.33~45.66 MPa,破裂力为45.5~153.4 N,弹性变形量为0.72~2.22 mm,抗压强度为16.25~47.94 MPa。成熟度对花生仁抗压强度和破裂力的影响极显著(P<0.01),对花生仁弹性模量和弹性形变的影响显著(0.01<P<0.05);压缩方向对花生仁弹性模量和弹性形变的影响显著(0.01<P<0.05),对花生仁抗压强度和破裂力的影响不显著(P>0.05)。结论 相同成熟度的花生仁,在立压方向下最容易发生破裂;花生仁属于各向异性材料,种脐部位为花生仁受力最薄弱的位置。     

一种基于划分的动态聚类算法

聚类分析是数据挖掘的一个重要研究分支,已经提出了许多聚类算法,划分方法是其中之一。划分方法的缺点是要求事先给定聚类结果数,对初始划分和输入顺序敏感等。为克服这些缺陷,以划分方法为基础,提出了一种基于划分的动态聚类算法。该算法按密度从大到小,依距离选择较为分散的初始值,同时可以过滤噪声数据,并在聚类的过程中动态地改变聚类结果数,改善了聚类质量,获得了更自然的结果。     

电感气隙损耗抑制方法研究:综述

气隙是开关电源中高频电感必不可缺的结构,但是因气隙而产生的扩散磁场会给绕组线圈带来额外损耗,造成绕组过热以及效率降低。几十年来,研究人员提出三大类方法以抑制该类型损耗。通过分析和总结每类方法的原理和优缺点,为设计人员开展电感设计提供一定参考。     

掺杂Sb_2O_3/Au对MoS_2溅射膜抗氧化性能的影响

利用 X射线光电子能谱仪 (XPS)对 MoS2溅射膜掺杂 Sb2O3/Au的抗氧化性能进行了研究。结果表明, Sb2O3/Au使得 MoS2溅射膜的结构变得更为致密。同时还改变了 MoSx的化学计量配比,增强了 MoS2溅射膜的抗氧化性能。通过掺杂的 MoS2溅射膜的初始氧化以及在潮湿环境中的氧化只发生在膜表面的 2～ 3个分子层,使得内层被保护得相当好。掺杂是解决 MoS2溅射膜氧化问题的一种行之有效的方法。     

Pro/E三维软件在工程制图教学中的应用

文中阐述了运用Pro／E三维软件解决工程制图教学中的难点问题。实践证明，利用Pro／E三维造型技术辅助工程制图教学，能有效地降低教学难度，提高学生的空间思维能力，使教学过程变得直观生动，取得了较好的教学效果。     

空间冷焊效应的研究进展

综述了自20世纪60年代以来国内外航天机构对空间冷焊效应的研究成果.首先,从晶体结构与能量角度阐述了空间冷焊效应的机理,并讨论了表面氧化物、非化学计量化合物和晶体缺陷在冷焊效应中的作用.接着针对冷焊效应的主要影响因素,分别从接触类型、基体材料特性、接触面积与应力等方面进行了深入的分析,具体包括静载、冲击和微动3种接触类...