ITO薄膜的生产技术概况及发展趋势探讨

综述了铟锡氧化物(ITO)薄膜的生产技术概况及其发展趋势.介绍了ITO薄膜的主要制备技术的制备原理,包括磁控溅射法、溶胶-凝胶法、化学气相沉淀法、喷雾热分解法及真空蒸发法等5种制膜工艺,并对其优缺点进行了分析.指出ITO薄膜生产技术的发展趋势为:1)大力开发溶胶-凝胶工艺;2)进一步深入研究其合成机理与性能;3)拓宽应用领域;4)开发先进的薄膜制备工艺技术.     

高强变形锌合金ZAT10的组织及TTT曲线

以高强变形锌合金（ZAT10）为研究对象,通过热分析仪（DSC）、X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）和能谱仪（EDS）以及力学性能测试,研究了高强变形锌合金的相组成,并采用硬度法绘制ZAT10的TTT曲线。结果表明：高强变形锌合金ZAT10是由η锌相和（α＋η）相的层片状共析体组织组成;ZAT10的时效孕育期从260℃至120℃经历先变短后变长的过程,在210℃左右的时效孕育期最短。     

烧结助剂Al_2O_3与Y_2O_3对固态锂离子电解质LLZO的锂离子电导率的影响

以Li_2CO_3,La_2O_3和ZrO_2为原料,分别添加Al_2O_3和Y_2O_3作为烧结助剂,制备锂离子固态电解质xAl_2O_3-Li_7La_3Zr_2O_(12)和xY_2O_3-Li_7La_3Zr_2O_(12)(分别简称为xAl_2O_3-LLZO和xY_2O_3-LLZO。x为摩尔分数,x=0,0.1,0.2,0.3,0.4和0.5),研究Al_2O_3和Y_2O_3的添加量对LLZO的结构与锂离子电导率的影响。结果表明,在1 150℃烧结15 h时,Al_2O_3和Y_2O_3这2种烧结助剂都能稳定立方相石榴石结构LLZO。当Al_2O_3过量时,产生LaAlO_3杂相,当Y_2O_3过量时,产生Li_2ZrO_3和YO_(1.458)杂相。0.2Y_2O_3-LLZO在1100~1200℃范围内能形成稳定的立方相石榴石结构LLZO,并且在1 150℃烧结27 h不发生分解反应;LLZO的致密度和锂离子电导率都随烧结助剂含量增加而先增加后减小,Al_2O_3和Y_2O_3的最佳添加量x分别为0.2和0.3,所得0.2Al_2O_3-LLZO的致密度与离子电导率分别为94%和1.78×10~(-4)S/cm,0.3Y_2O_3-Li_7La_3Zr_2O_(12)的致密度与离子电导率分别为96%和5.23×10~(-4)S/cm。     

纳米Al2O3对电刷镀Ni-P复合镀层耐蚀性能的影响

目的为延长油墨刮刀的使用寿命,提高刮刀的耐蚀性能。方法采用电刷镀方法在高碳钢基体表面制备了Ni-P镀层和共沉积纳米Al_2O_3的Ni-P/Al_2O_3复合镀层。通过动电位极化曲线、腐蚀失重曲线和交流阻抗谱等方法研究了Ni-P镀层和Ni-P/Al_2O_3复合镀层在3.5%NaCl溶液中的腐蚀行为,采用扫描电子显微镜和能谱仪对两种镀层腐蚀前后的显微组织和成分进行分析。结果纳米Al_2O_3在Ni-P镀层中的共沉积,使镀层的腐蚀电位由-0.318 V正移到-0.237 V,自腐蚀电流密度由6.04μA下降到5.75μA,这是因为纳米Al_2O_3标准电位比Ni更正,在镀层中的均匀分布能使腐蚀电位正移,在腐蚀过程中形成Ni-P合金作为阳极、Al_2O_3粒子作为阴极的腐蚀微电池,促进阳极极化。共沉积纳米Al_2O_3后,Ni-P/Al_2O_3复合镀层的电化学反应电阻Rct值由1.066×104?·cm~2增大至2.864×104?·cm~2,双层电容Cd I值由43.45μF/cm~2下降到27.36μF/cm~2。与Ni-P镀层相比,Ni-P/Al_2O_3复合镀层表面结构更致密,缺陷更少,在腐蚀过程中,P和O元素在Ni-P镀层表面富集形成钝化膜,抑制腐蚀的进行。结论共沉积Al_2O_3纳米颗粒能有效改善Ni-P镀层的耐蚀性能。     

单机成组调度问题的约束满足建模与求解方法

为适应多品种小批量生产需求,企业普遍采用基于成组技术的混流生产,由此产生的成组调度需要平衡安装时间减少与满足交期之间的冲突关系。在分析安装时间是否依赖工件组排序、工件组能否分割加工等成组特征的基础上,以最小化加权流程时间与加权拖期为目标,构建了单机成组调度问题的约束满足模型,提出了以变量排序启发式搜索和前向约束传播相结合的求解方法。典型生产数据的实证分析表明,所提出的方法建模能力强,解的适应性好。     

FHA涂层的制备及生物活性

采用沉淀法制备了F掺杂HA的FHA(Ca_(10)(PO_4)_6(OH)F)粉末,并通过电泳沉积在钛合金(Ti6Al4V)表面制备了FHA涂层。通过X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM),能谱仪(EDS)研究了基体预处理方式对涂层形貌和结合力的影响,并且研究了涂层的生物活性。结果表明:酸处理后涂层表面有微裂纹存在,酸处理+碱处理后的涂层表面无裂纹并具有更高的结合强度;FHA涂层浸泡后表面形成缺钙类骨磷灰石,成花瓣状生长,长度为几百纳米,具有优良的生物活性。     

Si3N4(p)/SiC(w)协同复合MoSi2材料的强韧化及机理研究

采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏硬度计、电子万能材料试验机研究MoSi_2-Si_3N_(4(p))/SiC_(w)复合材料的结构、形貌、硬度、断裂韧性,并对SiC晶须和Si_3N_4颗粒复合强韧化MoSi_2的机理进行了探讨.结果表明,SiC晶须和Si_3N_4颗粒对MoSi_2具有协同强韧化作用,MoSi_2-20%Si_3N_(4(p))-20%SiC_(w)(体积分数,下同)复合材料的抗弯强度达427 MPa,室温断裂韧性达到10.4 MPa·m~(1/2),均高于单一强韧化剂的强韧化效果.MoSi_2-20%Si_3N_(4(p))-20%SiC_(w)复合材料的强化机理为细晶强化和弥散强化;韧化机制为细晶韧化、裂纹偏转与分支和微桥接韧化.     

溶胶-凝胶法制备的ZnO:Al薄膜的微观结构及光学、电学性能

采用溶胶-凝胶法制备了ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜．通过X射线衍射(XRD)、紫外-可见分光光度计 (UV-Vis)、扫描电镜(SEM)和电阻测量装置,考察了Al掺杂量、退火温度及镀膜层数等工艺参数对薄膜的微观结构和光电性能的影响．结果表明,退火温度越高,多晶AZO薄膜的(001)晶面择优取向生长的趋势越强,并且随退火温度升高,薄膜的晶粒尺寸增大,透光率增加．薄膜晶体结构为纯ZnO的六角纤锌矿结构．在掺杂浓度1％(摩尔分数)、退火温度500℃及镀膜层数10的条件下,得到了电阻率为3．2×10-3Ω·cm、可见光区的平均透射率超过90％的AZO薄膜．     

旋耕机运动参数的优化设计方法

首先分析了旋耕机单位体积功耗数学模型，根据数学模型的特点，提出用广义最小二乘法确定目标函数和用最速下降法优化运动参数，为旋耕机总体参数的优化设计提供了可靠的计算模型。     

Effect of rare earth doping on thermo-physical properties of lanthanum zirconate ceramic for thermal barrier coatings

The effect of rare earth doping on thermo-physical properties of lanthanum zirconate was investigated. Oxide powders of various compositions La2Zr2O7 were synthesized by coprecipitation-calcination method. High-temperature dilatometer, DSC, and laser thermal diffusivity methods were used to analyze thermal expansion coefficient （TEC）, specific heat, and thermal diffusivity. The results showed that CeO2 doped pyrochlores La2（Zr1.8Ce0.2）2O7 and La1.7（DyNd）0.15（Zr0.8Ce0.2）2O7 had higher TEC than La2Zr2O7 and La1.7Dy0.3Zr2O7. La2（Zr1.8Ce0.2）2O7, La1.7Dy0.3Zr2O7, and La1.7（DyNd）0.15（Zr0.8Ce0.2）2O7 had lower thermal conductivity than undoped La2Zr2O7. The Dy2O3, Nd2O3, and CeO2 codoped composition showed the lowest thermal conductivity and the highest TEC. Thermo-physical results also indicated that TEC of rare earth oxide doped La2Zr2O7 ceramic was slightly higher than that of conventional ZrO2-8Wt.% Y2O3 （8YSZ）, and its thermal conductivity was lower than that of 8YSZ.