太阳能单晶硅切割与抛光设备实现国产化

据报道，国家“863”攻坚课题太阳能切割和12英寸单晶硅抛光技术与设备，日前在上海日进机床有限公司开发研制成功，并通过日本专家的检测，其各项指标均已超过现有的传统标准。     

区熔单晶硅生产操作指导专家系统

本文介绍区熔单晶硅生产操作指导专家系统。首先，系统实现了连续图象的自动变周期、定瞬间采样，并提出一种新的区域扩张增量图象处理算法．其次，叙述了知识的获取过程及类规则，提出分布的多库结构，并实现了不确定性推理．最后，开发了区熔单晶硅生产操作指导专家系统，实现了从数据和图象采集、处理、事实获取、推理到给出操作指导一体化。     

2006新材料产业成功企业

作为世界最大的单晶硅生产基地和中国最大的硅片加工中心，2006年，河北晶龙实业集团有限公司抓住光伏产业发展的大好势头，进行了紧锣密鼓的布局：     

MIS型单晶硅液晶光阀

详细介绍了一种新颖、快速响应的金属－绝缘层－半导体构成的MIS型单晶硅液晶光阀的结构、工作机理、制作工艺和性能参数测试。液晶采用45°扭曲向列型混合场效应工作模式。所得到的光阀的极限分辨率为40lp／mm，口径40mm，最大对比度＞100：1，在930nm（△λ＝40nm）写入光灵敏度为20μW／cm2，响应时间为15ms。报道了该光阀在大屏幕投影显示中的应用。     

形成SOI结构的ELO技术研究

本文研究了在常压外延系统中,利用 SiCl_4/H_2/Br_2体系在SiO_2上外延横向生长(ELO)单晶硅技术.比较了Br_2和HCl对硅的腐蚀速率,发现前者对娃的腐蚀速率约比后者慢一个数量级,指出Br_2的引入有着重要意义.给出了Br_2和H_2对Si和SiO_2的腐蚀速率曲线,讨论了外延横向生长速率对SOI结构的材料表面形貌的影响.在该 SOI膜上制造了 MOS/SOI器件,其N沟最大电子迁移率为360cm~2/V.s(沟道掺杂浓度为 1×10~(16)/cm~3),源-漏截止电流为 9.4×10~(-10)A/μm.     

高温退火硅单晶中氧和氮杂质性质

利用低温红外光谱技术（８Ｋ），研究了微氮硅单晶中氧和氮杂质在高温１３００℃退火时的性质，实验指出，在此高温退火时，硅单晶中的原生氮－氧复合体被逐渐分解，氮杂质以很高的扩散速率，迅速外扩散     

不同单晶硅衬底的多孔硅的拉曼和致发光谱研究

用拉曼谱和光致发光谱研究了不同掺杂类型和掺杂浓度的单晶硅衬底上制备的多孔硅（PS）。根据拉曼谱估计了不同衬底PS的硅残留体的尺寸，结果与其它实验的结论相符。把由拉曼谱得到的PS尺寸和由光致发光谱得到的PS荧光峰能量相对比，发现单纯的量子限制模型不能统一解释不同衬底PS的光发射现象。     

薄膜单晶硅有源矩阵液晶显示器

从分析有源矩阵液晶显示器的发展形势出发，着重介绍了薄膜单晶硅有源矩阵液晶显示器的优势和和制作过程，指出这种显示器目前有投影显示和小尺寸显示方面有较好的市场前景。     

炭/炭复合材料制造硅晶体生长坩埚初探

多晶硅用直拉法(CZ)或磁场直拉法(MCZ)拉制成单晶硅棒。晶体生长炉热场零件中的石墨发热体、坩埚等在机械应力和热应力的综合作用下发生变形或损坏造成失效,更换频繁。选用纯度高的炭纤维制成待制件的多孔坯体,经过增密、纯化处理制成炭／炭复合材料坩埚。试制的两体12″炭／炭复合材料坩埚进行了工业性试验。炭／炭复合材料机械强度高、耐热冲击性能和化学稳定性好,其使用寿命大大高于高纯石墨坩埚。两体的连接止口的氧化侵蚀限制了坩埚的使用寿命。单晶硅设备的大型化、炭／炭复合材料势必成为晶体生长炉热场零件的必选材料。