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氧化钒薄膜热敏特性的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为研究氧化钒薄膜在非致冷红外微测辐射热计中的应用,综述了制备工艺等诸多因素对氧化钒热敏特性的影响,对其机理进行了探究,结果表明掺杂和新的制备工艺是调整氧化钒热敏特性较为有效的方法. 相似文献
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基于溶胶凝胶法,采用旋涂和喷涂相结合的工艺,制备了氧化钒(VOx,1≤x≤2.5)-氧化石墨烯(GO)复合薄膜。利用SEM、XRD、椭偏仪、紫外可见分光光度计、FTIR及高阻仪对所制薄膜的形貌、晶相、光学及电学性能进行了系统的表征测试。结果表明,加入GO之后,VOx-GO复合薄膜的电阻率由108.78 Ω·cm下降至68.64 Ω·cm,而薄膜的电阻温度系数(TCR)则由-1.98% K-1提高至-2.60% K-1。此外,VOx-GO复合薄膜还具有更高的光吸收率和工作稳定性。说明GO的加入增强了VOx薄膜作为非制冷红外探测器热敏材料的综合性能。本研究为探索基于VOx的新型红外热敏材料提供了参考,同时也对非制冷红外探测器的发展有促进作用。 相似文献
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采用直流磁控溅射法制备氧化钒薄膜,并采用不同的温度对其进行氧化法热处理,通过XRD、SEM、四探针薄膜电阻测试,分析了不同热处理温度对氧化钒薄膜的晶相特性与热敏特性的影响。实验分析证明热处理温度升高后(400℃)得到的薄膜热敏特性良好,其室温电阻为160KΩ·cm,室温电阻温度变化系数为-2.4%/℃,变温过程中(20~98℃)其平均值约-1.98%/℃,表明温度升高有利于改善薄膜热敏特性,在非制冷红外探测器应用方面具有发展潜力。 相似文献
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双靶磁控溅射制备掺W氧化钒薄膜的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用双靶磁控溅射制备了掺钨氧化钒薄膜。X射线电子谱(XPS)对所沉积的薄膜进行了分析,发现掺W氧化钒薄膜的相结构比较复杂。通过特征峰标定了这些相。用面积灵敏度因子方法得到W掺杂量的结果。原子力显微镜给出了薄膜的表面形貌。其表面形貌特征随沉积条件的不同有一定的变化。 相似文献
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Fe-Ni-N薄膜的结构及磁性 总被引:4,自引:0,他引:4
用双离子束溅射法在玻璃基片上制得了Fe-Ni-N薄膜,研究了Ni含,源气氛及退火温度对Fe-Ni-N薄膜的结构,磁性及热稳定性的影响。选择合适的工艺条件,可制得在(100)面方向有100%晶粒取向度的单一γ′(Fe,Ni)4N相,Ni含量为6.7%(摩尔分数)的Fe-Ni-N薄膜具有较的软磁性能,其饱和磁化强度Ms为2.04T,矫顽力Hc为0.68kA/m。但是随着Ni含量的提高,Fe-Ni-N薄膜的热稳定下降,在主源气压比PN2/PAr较低时,有利于氮含量较低的γ′相的形成,在较高的PN2/PAr条件下,则形成氮含量较高的ε-(Fe,Ni)2-3N相和ξ-(Fe,Ni)2N相。 相似文献
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采用双靶反应磁控共溅射法在Si(100)和载玻片衬底上制备了Al掺杂ZnO(ZAO)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、荧光分光光度计、紫外可见光分光光度计,四探针测试仪等手段对薄膜进行表征,研究了Al掺杂对ZnO薄膜结构和光电性能的影响。结果显示,Al掺杂未改变ZnO的晶体结构,ZAO薄膜沿(002)晶面生长,具有单一的紫光发射峰,在可见光区透过率大于80%,当Zn靶和Al靶溅射功率分别为100 W和20W时,ZAO薄膜的电阻率为8.85×10-4W.cm,表明利用双靶反应磁控共溅射法制备的ZAO薄膜具有较好的光电性能。 相似文献