共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
用电流控制液相外延(CCLPE)方法首次在(100)InP衬底上成功地生长出In1-xGaxAsyP1-y(0.30<x<0.47,0.70<y<0.96)外延层,并对外延层特性进行了详细研究,提出在InP衬底上生长电外延层的机理,推导出生长动力学的理论模型,该模型与上述实验结果十分吻合。 相似文献
3.
本文报道采用液相外延(LPE)生长和传统光刻制管工艺研制出引入多层(三层或三层以上)中间能带隙过渡的吸收区、倍增区分离的InGaAs(P)/InP雪崩光电二极管(简称InGaAs(P)/InPSAGMAPD),其技术指标为:击穿电压VB=40~90V;0.9VB时的暗电流Id最小可小于10nA;1.3μm时光响应度Re=0.6~0.8A/W,倍增因子M≥20(Mmax>40),过剩噪声因子F≌5和较宽频带响应特性。 相似文献
4.
首先从理论上研究了在应变情况下量子阱中能级的计算,然后利用LP-MOCVD研究了InGaAs/InP组份的控制及生长条件,最后生长伸张应变为0.5%的四个量子阱InGaAs/InP结构材料,利用PL光谱测量得最小阶宽为1.8nm。 相似文献
5.
首先从理论上研究了在应变情况下量子阱中能级的计算,然后利用LP-MOCVD研究了InGaAs/InP组份的控制及生长条件,最后生长伸张应变为0.5%的四个量子阱InGaAs/InP结构材料,利用PL光谱测量得最小阶宽为1.8nm。 相似文献
6.
续竞存 《固体电子学研究与进展》1996,16(3):254-258
用电荷控制及热电子弹道运动模型计算InAs/InP0.7Sb0.3热电子晶体管的截止频率fT及最高振荡频率fmax。结果表明,fT、fmax分别达到280GHz及600GHz。并指出,通过生长GaSb中间层,InAs/InP0.7Sb0.3HET可在GaAs衬底上实现单片集成。 相似文献
7.
InP系列异质材料中的宽带隙夹层和它对材料特性的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
InGaAs/InGaAsP/InP等异质材料在室温和低温下的光荧光测试中的工为3 ̄30nm宽带隙夹层峰。夹层的化学成分主要是InGaP,它与MOCVD生长时开关程序和PH2或AsH3气流空流时间及气体存储时间等上关,实验表明,对InP/InGaAsP/InP异质材料生长,AsH3气流空流时间为0.5秒左右时,宽带隙夹层峰基本消失,还指出宽带隙夹层将相引起较大的晶格失配,增另异质界面缺陷,从而使材 相似文献
8.
应用深能级瞬态谱(DLTS)技术研究分子束外延(MBE)和二次液相外延(LPE)生长的InGaAs/GaAs应变层量子季阱激光器深中心行为.在MBE激光器的n-AlxGa1-xAs组分缓变层和限制层里,除众所周知的DX中心外,还观察到有较大俘获截面的深(空穴、电子)陷阱及其相互转化.这些陷阱可能分布在x从0到0.40和x—0.40的n-AlxGa1-xAs层里x值不连续的界面附近.而在LPE激光器的n-AlxGa1-xAs组分缓变层和限制层里,DX中心浓度明显减少,且深(空穴、电子)陷阱消失 相似文献
9.
本文报道了利用低压金属有机物汽相外延(LP-MOVPE)技术,在(001)InP衬底上生长In_(1-x)Ga_xAs体材料及In_(1-x)Ga_xAs/InP量子阶结构材料的结果.对于TMG/TEIn源,In_(1-x)Ga_xAs材料的非故意掺杂载流子依匿为7.2×1016cm-3,最窄光致发光峰值半宽为18.9meV,转靶X光衍射仪对量子阶结构材料测到±2级卫星峰;而对于TMG/TMIn源,非故意掺杂载流于浓度为3.1×10 ̄15cm ̄(-3),最窄光致发光峰值半宽为8.9meV,转靶X光衍射仪对量子阶 相似文献
10.
11.
12.
13.
14.
15.
我们对用GSMBE技术生长的In0.63Ga0.37As/InP压应变单单量子阱样品进行了变温光致发光研究,In0.63Ga0.37As阱宽为1nm到11nm,温度变化范围为10K到300K,发现不同阱宽的压变变量子 激子跃迁能量随温度的变化关系与体In0.53Ga0.47As材料相似,温度系数与阱宽无关,对1nm的阱,我们观察到其光致发光谱峰为双峰,经分析表明,双峰结构由量了阱界面起伏一个分子单 相似文献
16.
曲兰欣 《固体电子学研究与进展》1995,(4)
新结构高性能In_(0.3)Ga_(0.7)As/In_(0.29)Al_(0.71)As/GaAsHEMT研究证明,InGaAsHEMT的结构优于GaAsMESFET和习用的AlGaAs/GaAsHEMT。在GaAs上制备的赝配结构HEMT(PM-HE... 相似文献
17.
18.
19.
InGaAsP/InP异质结光电三极管的制备 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了n-InP/p-InGaAsP/0-InP结构的异质结光电三极管制作过程,并获得了对1.3μm的入射光,光增益达220,用带尾纤的GaAs/GaAlAs发光管测量,光学增益达1470。 相似文献