生物相容性医用材料表面涂层

美国新泽西州的Rockaway的IonBond LLC公司采用物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和等离子辅助化学气相沉积(PaCVD)法生产涂层材料。其中生产的生物相容性涂层是具有高性能、高使用寿命的医用植入物涂层，薄膜PVD涂层专用用于整形外科植入物、外科手术用具、牙科器具等医用器具的表面涂层。     

在钢质零件上建立涂层的中温化学气相沉积法

中温化学气相沉积(以下简称MT—CVD)处理是由瑞士Berna公司的Bernex分公司改进的一种很有发展前途的新型化学气相沉积方法,这种方法是将耐磨的钛的碳、氮化合物Ti(C·N)涂覆在工件和工具表面上。本文就不同温度下涂层的沉积速率和涂层组织、结构、形态、成分、残余应力,耐磨性、耐腐蚀性的差别,对MT—CVD法和常规的高温化学气相沉积(以下简称HT—CVD)法所获得的涂层的各种性能进行了对比。     

专利集锦

气相沉积法制备空心的镍型材;在等离子体增强化学气相沉积的系统中提高薄膜均一性的方法;在凝胶晶体模板上化学气相沉积制备多孔材料;紫外光和等离子体辅助金属有机化学气相沉积系统;气相沉积法制备一氧化硅薄膜;电子束物理气相沉积工艺;化学气相沉积法制备有机硅薄膜;……[编者按]     

最新高功能CVD成膜技术

随着工业技术的快速发展,对工业材料高功能、高性能化的要求也更高。作为高功能的工艺技术有气相沉积法。气相沉积大体分为两类即化学气相沉积法(CVD法)与物理气相沉积法(PVD法)。特别是CVD法,由于是通过在气相中或在基板表面的化学反应形成所要求的材料的薄膜,因此通过控制流入反应室内的化合物气体,可以高纯度地合成多种材料。     

超疏水膜层防腐蚀机理及气相法制备技术研究进展

综述了超疏水膜层的防腐蚀机理,分析了超疏水膜层表面微-纳二元粗糙结构、表面能与其疏水性的关系,重点介绍了超疏水膜层表面的气垫效应和毛细效应,并阐述了超疏水膜层对金属的防腐蚀机理和腐蚀破坏机理的研究现状。同时鉴于气相法制备技术具备操作简单、成本低、环境友好、适用范围广、制备膜层可重复性好、膜层均匀等优点,综述了3种常用气相法制备超疏水膜层技术—常温常压化学气相沉积技术(常温常压CVD)、等离子化学气相沉积技术(PECVD)和气溶胶辅助化学气相沉积技术(AACVD)的研究进度和各自的优缺点,以及存在的问题。展望了气相法制备技术在超疏水防腐蚀膜层制备中的研究方向。     

被复金属碳、氮化合物的一种新方法

Ti、V、Nb、Cr等金属的碳化物、氮化物具有极高的硬度和良好的化学稳定性,沉积于工件表面可以大大提高其耐磨性、耐蚀性、抗氧化性、抗咬合性、红硬性等,从而可使其使用寿命数倍、数拾倍地增加。被复处理的方法通常有物理气相沉积法(PVD)、化学气相沉积法(CVD)、盐浴被复法(TD)等。     

现代刀具涂层制备技术的研究现状

刀具涂层是一种机床工具行业的重要材料,其性能直接影响数控机床的机械加工精度.概述了刀具涂层材料的特点、要求及涂层制备技术的发展,分析了化学气相沉积法、物理气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法及溶胶-凝胶法等几种涂层制备方法的优缺点.结合国内外刀具涂层的研究现状及发展趋势,指出在大力发展化学气相沉积涂层和物理气相沉积涂层技术的同时,开发两者相结合的新型工艺,推动国内刀具涂层技术的快速发展.     

碳纤维增强碳基复合材料增密方法及其特点

综合论述了化学气相渗透(CVI)、液相浸渍、CVI+液相浸渍和化学液气相渗透等4种增密碳纤维增强碳基(C/C)复合材料方法的原理和它们的特点.其中CVI增密方法的沉积效率低、生产周期长、成本高和生产适应性强;液相浸渍法增密速度快,但最终材料密度不高,存在大量细小的孔隙;CVI+液相浸渍综合了CVI和液相浸渍两种工艺的优点;化学液气相沉积的沉积速率高,但产品适应性差.     

化学气相沉积法制备难熔金属的研究现状与前景

难熔金属材料以其熔点高、高温性能好和耐腐蚀性优异等特点被广泛应用于航空航天、化学化工和国防军工等领域。化学气相沉积法是目前获得高纯致密、尺寸精确的难熔金属制品的最佳手段。本文介绍了钨、钼、钽、铌和铼五种难熔金属元素的应用领域,综述了采用不同的化学气相沉积法制备难熔金属及其合金的工艺、制品性能和具体用途,总结了金属源先驱体类型对化学气相沉积工艺的影响,分析展望了化学气相沉积法在制备难熔金属上的应用前景。     

新涂层方法

美国亚特兰大的GIT公司开发了新型陶瓷被覆方法。该方法能简单地在工件涂覆氧化物、氮化物、碳化物、硼化物薄膜,并能大幅度地降低成本。 该方法称为燃烧化学气相沉积法(CCVD),它有机地、完善地结合了化学气相沉积(CVD)法与热喷射法的优点,在普通环境下,可进行高质量的陶瓷薄膜涂覆。     

纳米涂层应用及主要制备方法

介绍了纳米涂层的主要应用方面，概括介绍了目前常用的纳米涂层的制备方法，包括刷涂、热喷涂法、化学气相沉积、物理气相沉积、等离子化学气相沉积、溶胶—凝胶法等。     

硬质物质沉积在工具钢上的应用

1.前言将TiC、VC等碳化物和TiN等氮化物沉积到切削工具和冷作工具上的技术,已广泛应用于各个领域。这是因为在实用中证实这些硬质物质的沉积处理比已往的表面处理大大提高了工具寿命。硬质物质沉积处理大致分为由W·Ruppert等工业化了的化学气相沉积法(CVD),由Mattox、Bunshah等开发的物理气相沉积法(PVD)及由新井等工业     

CVD温度对钼沉积层组织及性能的影响

介绍了化学气相沉积法(CVD)制备难熔金属钼膜层的原理和方法。以MoF_6和H_2为原料,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钼膜层。分析研究了沉积层的组织、结构和硬度。实验结果表明：沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同,沉积温度较低时,沉积层显微组织为细晶层状结构,沉积层硬度可达677×9.8 MPa：沉积温度较高时,沉积层显微组织为致密的柱状晶,硬度稍高于一般烧结钼的硬度。     

PCVD硬膜的现状与展望

一、引言等离子体化学气相沉积(PCVD)在集成电路元件,光导纤维,太阳能电池等领域中已得到广泛应用。近年来,用PCVD 或加热丝的化学气相沉积法,合成金刚石和金刚石膜取得了世人注目的进展。由于低压合成金刚石获得成功的启发,用类似方法制备立方BN 膜的研究也已     

PCVD硬膜的现状与展望

等离子体化学气相沉积(PCVD)在集成电路元件，光导纤维，太阳能电池等领域中已得到广泛应用。近年来，用PCVD或加热棘的化学气相沉积法，合成金刚石和金刚石膜取得了世人注目的进展。由于低压合成金刚石获得成功的启发，用类似方法制备立方BN膜的研究也已开始并取得了初步成功     

CVD温度对钽沉积层性能的影响

介绍了化学气相沉积(CVD)制备难熔金属钽涂层的原理及方法。采用冷壁式化学气相沉积法,在钼基体上沉积出难熔金属钽层。分析研究了CVD温度对沉积层的沉积速率、组织、结构和硬度等的影响。结果表明:在1000～1200℃温度范围,沉积速率随温度升高而增大;当温度超过1200℃时,沉积速率随温度的升高反而略有减小;沉积层组织呈柱状晶并随温度的升高逐渐增大;沉积层的硬度及密度随温度的升高而逐渐降低。化学气相沉积钽的最佳温度在1100℃左右。     

铝铜薄膜复合技术的研究现状

综述了铝、铜薄膜复合技术的研究现状,介绍了气相沉积法和扩散连接方法对铝、铜薄膜的复合。气相沉积分为化学气相沉积和物理气相沉积,最受人们青睐的是物理气相沉积中的磁控溅射沉积法;扩散连接方法中讲述了扩散连接的过程,扩散工艺参数对扩散层组织结构、扩散层厚度的影响。     

耐磨和耐腐蚀的化学气相沉积层的应用

采用化学气相沉积法(CVD)和物理气相沉积法(PVD)能将具有高硬度、低摩擦系数、耐磨和耐腐蚀等性能的涂层,如TiC、TiN、Ti(C,N)、硼化物以及 Ti(C,N),TiC/Al_2O_3等多种复合涂层沉积在各种钢材、Ni(Co)合金和硬质合金工件上。本文将讨论工件在室内和许多恶劣的环境内摩擦和磨损的问题,特别着重研究在超     

CVD法制备高纯钛形核过程动力学分析

实验用了化学气相沉积(CVD)法制备高纯钛,对高纯钛制备中的形核过程进行了热力学和动力学分析,实验得出:沉积区温度应控制在1350K~1450K。     

TiO2薄膜制备技术研究进展

综述了目前较常用的制备TiO2薄膜的方法,包括溶胶-凝胶法、液相沉积法、化学气相沉积法、物理气相沉积法、电沉积法、喷雾热解沉积法、原子层沉积技术、离子自组装技术和水热法等,并对各方法进行了比较.