脉冲激光淀积法在Pt／TiO2／SiO2／Si（001）衬底上制备Pb（Ta0.05Zr0.45T …

用脉冲激光淀积方法在Ｐｔ／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／Ｓｉ（００１）衬底上制备了掺Ｔａ的ＰＺＴ薄膜,此薄膜显示了理想的铁电性。漏电流特性表明这种异质结构中Ｓｃｈｏｔｔｋｙ场发射机制起主要作用。扫描电镜形貌照射表明ＰＺＴ薄膜结晶很好并且异质结构界面无明显扩散。     

直流磁控反应溅射制备IrO2薄膜

为研究氧化铱（ＩｒＯ２）对ＰＺＴ铁电薄膜疲性能的影响。利用直流（ＤＣ）磁控反应溅射（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）工艺成功地在ＳｉＯ２／Ｓｉ（１００）衬底上制得了高度取向的ＩｒＯ２薄膜,并在其上制成ＰＺＴ铁电薄膜,讨论了溅射参数（溅射功率、Ａｒ／Ｏ２比、衬底温度）以及退火条件对氧化铱薄膜的结晶,取向和形态的影响。     

锆钛酸铅(PZT)薄膜的自发极化与压电响应

用溶胶－凝胶法在Ｐｔ／Ｔｉ／ＳｉＯ２／Ｓｉ（１００）基片上制备了近等原子比的压电ＰＺＴ薄膜,在准同型相界附近的ＰＺＴ薄膜的应变机制是受极化控制的压电效应,内电场导致薄膜的自发极化定向,使薄膜未经极化就具有明显的压电响应。     

快速热处理对PZT薄膜的微结构及电性能的影响

采用改进的溶胶一凝胶技术,在Ｐｔ／Ｔｉ／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／Ｓｉ（１００）基片上制备了太电ＰＺＴ薄膜,用ＸＲＤ和ＡＦＭ技术分析了不同热处理工艺条件下ＰＺＴ薄膜的微观形貌变化及相结构演化,系统测试了ＰＺＴ薄膜的铁电性能。工艺－结构－性能研究结果表明：快速热处理工艺（ＲＴＡ）有利于ＰＺＴ薄膜保持较低的漏电流密度,热处理温度是影响晶粒大小的主要因素,而保温时间则对ＰＺＴ薄膜的致密性、晶粒均匀度和晶界结合     

PZT／Si薄膜的扩散反应研究

运用ＸＰＳ和ＡＥＳ研究了ＰＺＴ膜／Ｓｉ在热处理过程中的薄膜及界面化学反应；在热处理过程中，气氛中的气通过ＰＺＴ的缺陷通道扩散到ＰＺＴ／Ｓｉ同旧，并与界面上的硅发生氧化反应形成ＳｉＯ２界面层。同时基底上的硅通过ＰＺＴ的缺陷扩散么样品表面形成ＳｉＯ２表面层。此外，在ＰＺＴ／Ｓｉ界面上，Ｔｉ的氧化物和Ｓｉ发生还原反应，形成了ＴｉＳｉｘ金属硅化物，并残留在ＰＺＴ膜层和和ＳｉＯ２界面层中。在ＰＺＴ膜层内，有     

直流磁控反应溅射制备IrO2薄膜

为研究氧化依（ＩｒＯ_２）对ＰＺＴ铁电薄膜疲劳性能的影响,利用直流（ＤＣ）磁控反应溅射（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）工艺成功地在ＳｉＯ_２／Ｓｉ（１００）衬底上制得了高度取向的ＩｒＯ_２薄膜．并在其上制成ＰＺＴ铁电薄膜．讨论了溅射参数（溅射功率、 Ａｒ／Ｏ_２比、衬底温度）以及退火条件对氧化铱薄膜的结晶、取向和形态的影响．     

改进溶胶-凝胶法制备PZT50/50铁电薄膜

采用改进的溶胶凝胶法在Ｐｔ／Ｔｉ／ＳｉＯ２／Ｓｉ衬底上制备了ＰＺＴ５０／５０铁电薄膜，用Ｘ射线衍射表征了薄膜的物相，用原子力显微镜（ＡＦＭ）表征薄膜的微观形貌，用ＲＴ６６Ａ测量了薄膜的铁电特性，获得了具有优良的铁电性能的晶粒尺寸为１００ｎｍ的ＰＺＴ５０／５０铁电薄膜，在２０Ｖ电压下，Ｐｒ＝３１．８３μＣ／ｃｍ２。     

铅基钙钛矿型结构铁电薄膜的介电及热释电性能研究

用改进的溶胶－凝胶旋转涂履技术,在Ｐｔ／Ｔｉ／ＳｉＯ２／Ｓｉ基片上研制出了１－２μｍ厚,具有钙钛矿型结构的ＰｂＴｉＯ３、ＰＬＴ和ＰＺＴ铅基铁电薄膜。该类铁电薄膜具有良好的结晶特性、优异的介电和热释电性能。     

溅射PZT薄膜的晶体结构和快速热处理

采用常温射频（ＲＦ）溅射法和快速热处理相结合的技术，在Ｐｔ／Ｔｉ／ＳｉＯ２／Ｓｉ衬底上，制备出具有铁电性的ＰＺＴ薄膜。研究了快速热处理工艺条件对ＰＺＴ薄膜性能的影响。通过Ｚ射线衍射法、ＳＥＭ和ＡＥＳ等方法，分析了ＰＺＴ薄膜的晶体结构、微结构、薄膜和电极间的界面效应。     

PZT／Si界面氧化反应机理及动力学研究

运用俄歇电子能谱深度剖析和线形分析研究了ＰＺＴ／Ｓｉ界面氧化反应的机理和动力学过程，研究结果表明，在ＰＴ／Ｓｉ样品的热处理过程中，环境气氛中的氧可以透过ＰＺＴ薄膜层扩散到ＰＴ／Ｓｉ界面，并与硅基底反庆形成ＳｉＯ２界面层，界面氧化反应由氧在ＰＴ层和ＳｉＯ２层中的扩散过程所控制。     

紫外脉冲激光淀积法制备Pb(Ta0.05Zr0.48Ti0.47)O3薄膜的铁电性质

用紫外脉冲激光淀积方法在Pt／TiO2／SiO2／Si(001)衬底上制备了La1-xSrxCoO3／Pb(Ta0.05Zr0.48Ti0.47)O3(PTZT)／La1-xSrxCoO3异质结构薄膜。发现底电极La0.25Sr0.75CoO3可以诱导PTZT薄膜沿(001)方向取向生长。在500kHz和5V的工作电压下铁电电容器La0.25Sr0.75CoO3/PTZT／La0.25Sr0.75CoO3经过5×1010次反转之后,仍保持其初始电极化的96％。此异质结构横截面的扫描电镜照片表明界面上没有明显的因化学反应导致的第二相存在。     

SiO2/胶原水解物-聚乙烯醇杂化复合膜的制备与性能

以正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,采用溶胶-凝胶法原位制备了SiO2/胶原水解物-聚乙烯醇杂化复合膜(SiO2/CH-PVA杂化膜).通过溶胀、热重(TG)、红外光谱(FTIR)、扫描电镜(SEM)和拉伸实验,考察了SiO2对杂化膜性能的影响.结果表明,SiO2的引入减小了膜的平衡溶胀度,减缓了膜的溶胀速率,有效地抑制...     

纳米Mg(OH)2-ZnO/聚酰亚胺复合薄膜的介电和热性能

采用反向沉淀法制备了Mg（OH）₂-ZnO纳米粒子,通过原位聚合和热亚胺化的方法成功制备了不同纳米Mg（OH）₂-ZnO粒子质量分数的纳米Mg（OH）₂-ZnO/聚酰亚胺（PI）复合薄膜,通过SEM、热重分析、介电谱测试仪和击穿场强测试仪对薄膜的表面形貌、热稳定性、介电性能和击穿强度进行表征和测试。结果表明：Mg（OH）₂-ZnO纳米粒子均匀地分散在PI基体中,Mg（OH）₂-ZnO/PI热稳定性下降,介电常数、介电损耗和电导率增加,击穿场强随纳米粒子增加先增加后减小,在纳米粒子含量为2%时,达到最大值296 kV/mm。     

不同氧氩比例对氧化硅(SiO2)薄膜的结构及性能的影响

在不同氧氩比例气氛下,采用反应直流磁控溅射方法制备了SiO2薄膜.利用X射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（XPS）、原子力显微镜（AFM）和紫外可见光谱（UV-Visible spectrum）等研究了氧氩比例的不同对SiO2薄膜的晶体结构、化学配比、表面形貌和光学性能的影响.结果显示：室温下,不同氧氩比例的SiO2薄膜都为非晶结构;随着氧分量的增加,Si2p与O1s向高结合能方向移动;在氧分量较大的气氛下,SiO2薄膜的化学失配度较小,薄膜均匀,致密,在400-1100nm有良好的光透过性.     

Ti/La_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3/Pt结构器件中“负”电阻开关特性研究

以Pt/Ti/SiO2/Si为衬底,制备了具有电阻转变特性的Ti/La0.7Ca0.3MnO3(LCMO)/Pt结构器件.X射线衍射分析表明LCMO薄膜呈纳米晶或非晶态,扫描电子显微镜及原子力显微镜分析表明LCMO薄膜表面平整、光滑致密.电学测试结果表明Ti/LCMO/Pt结构具有明显的双极型"负"电阻转变特性,低电阻态的导电过程为空间电荷限制电流机制,高电阻态的导电过程为Poole-Frenkel发射机制.利用氧化还原反应的随机性和TiOx中间层空间分布的不均匀性,定性地解释了高电阻态的不稳定性以及电流-电压曲线上的电流突变现象.     

Lattice Effect on Magnetic and Electrical Properties of Ln2/3Pb1/3MnO3 （Ln=La,Pr, Nd） Films

Lattice effect on magnetic and electrical transport properties of Ln2/3Pb1/3MnO3 （Ln=La, Pr, Nd） films prepared by RF magnetron sputtering technique were investigated. With the decrease of the average ions radius 〈rA〉, the structure of Ln2/3Pb1/3MnO3 （Ln=La, Pr, Nd） targets transit from the rhombohedral phase to the orthorhombic phase, and the Curie temperature reduces rapidly with the decrease of 〈rA〉. The electrical properties show that films are the metallic state which can be fitted to the formula： ρ（T）=ρ0 ＋ ρ1T^2 ＋ ρ2T^4.5 at low temperatures. The temperature range of the ferromagnetic metallic state becomes narrow with the decrease of 〈rA〉. The phenomenon can be explained by the lattice effect.     

Temperature dependence of oriented growth of Pb[Yb(1/2)Nb(1/2)]O(3)-PbTiO(3) thin films deposited on LNO/Si substrates

(1-x)Pb[Yb(1/2)Nb(1/2)]O(3)-xPbTiO(3) (PYbN-PT, x=0.5)(001) oriented thin films were deposited onto LaNiO3 (LNO)/Si(001) substrates by sol-gel processing. The crystallographic texture of the films was controlled by the annealing temperature and heating rate. Highly (001) oriented LNO thin films were prepared by a simple metal organic decomposition technique, and the samples were annealed at 700 °C and 750 °C using a rapid thermal annealing process and furnace, respectively. X-ray diffraction analysis revealed that the films of PYbN-PT were highly (001) oriented along LNO/Si substrates. The degree of PYbN-PT orientation is dependent on the heating rate and annealing temperature. Annealing heating rate of 10 °C/s and high annealing temperature near 750 °C produce the greatest degree of (001) orientation, which gives rise to improved dielectric properties.     

Comparisons on the properties of (Zn1-xCox)2-W type barium hexaferrite thin films prepared on the Si (100) and (111) substrates

The (Zn_1-xCo_x)₂-W type barium hexaferrite thin films have been prepared by a radio frequency magnetron sputtering method on the Si (100) and the Si (111) substrates respectively. With increasing the annealing temperatures (800, 850, 900, 950, and 1000 °C), the Ba(CoZn)₂Fe₁₆O₂₇ phases emerge from the amorphous matrix. The hexaferrite thin films on Si (111) substrates have a larger saturation magnetic field (636.6 kA/m) than those on Si (100) substrates (159.1 kA/m). The magnetic hysteresis measurements show that they exhibit an isotropic behavior for thin films deposited on both substrates. Films on the Si (111) substrates are magnetically harder than those on the Si (100) substrates.     

Fluorescence of Ta(2)O(5) thin films doped by kilo-electron-volt Er implantation: application to microcavities

Luminescent layers are prepared by the implantation of kilo-electron-volt Er ions into tantalum pentoxide (Ta(2)O(5)) thin films made by ion plating. The implantation fluences range from 3.3 × 10(14) to 2 × 10(15) ions/cm(2), and the energies range from 190 to 380 keV. Refractive index, extinction coefficient, and losses on guided propagation are investigated. We show that these Er-implanted layers present an absorption as low as that of the nonimplanted films. When optically pumped with an Ar(+) laser (λ = 0.488 μm) beam, implanted films show peaked fluorescence spectra centered near 1.53 and 0.532 μm. We show that the fluorescence intensity is correlated with the intensity of the pump beam in the region where Er ions are implanted. Radiation patterns of Er ions located inside a single layer or inside a Ta(2)O(5)/SiO(2) dielectric stack made by ion plating are also investigated. We show that, in any case, spontaneous emission of Er ions can be spatially controlled.     

PVA/Mg（NO3）2复合膜的制备及性能

采用溶液成膜的方法制备了不同Mg(NO3)2含量的聚乙烯醇(PVA)/Mg(NO3)2复合薄膜。考察了PVA/Mg(NO3)2复合薄膜在相对湿度为54%时的含水量。采用X射线衍射(XRD),差示扫描量热(DSC),动态力学性能(DMA)和力学性能测试方法研究了Mg(NO3)2对PVA膜的结构和性能的影响。结果表明,Mg(NO3)2与PVA的相容性非常好,所制备的PVA/Mg(NO3)2复合膜的透明性好。Mg(NO3)2的加入能显著破坏PVA中的氢键作用,增加PVA膜中的水含量,降低PVA的结晶度,使复合膜的玻璃化温度明显降低。拉伸实验表明,PVA/Mg(NO3)2具有比纯PVA膜更低的拉伸强度和更高的断裂伸长率。