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561.
工作原理DFX10式35mm弹道指示弹由引信、药盂、延期曳光管、发烟药柱、发射装药等组成。其中引信同时设有碰击触发发火装置和惯性触发发火装置。DFX10式35mm弹道指示弹与枪挂榴弹发射器配用的其他弹种一样,亦采用高低压发射原理,当发射器击针击发榴弹底火后,弹体内的发射药被迅速引燃,燃烧产生的火药燃气使高压室内的 相似文献
562.
废气涡轮增压器是增压柴油机的重要部件之一,本文重点论述了为防止增压器损坏而采用的措施及在使用与维护中应注意的事项及方法。 相似文献
563.
564.
煤矿井下运输巷的带式输送机在安装使用后,人员在横向通过输送带时易出现意外等不安全因素,采用机械原理制作的简易输送带过桥,方便了人员横向通过输送带,保证了人员通过输送带时的安全。 相似文献
565.
There is a lot ofhydroxyl on the surface ofnano SiO2 sol used as an abrasive in the chemical mechanical planarization (CMP) process, and the chemical reaction activity of the hydroxyl is very strong due to the nano effect. In addition to providing a mechanical polishing effect, SiO2 sol is also directly involved in the chemical reaction. The stability of SiO2 sol was characterized through particle size distribution, zeta potential, viscosity, surface charge and other parameters in order to ensure that the chemical reaction rate in the CMP process, and the surface state of the copper film after CMP was not affected by the SiO2 sol. Polarization curves and corrosion potential of different concentrations of SiO2 sol showed that trace SiO2 sol can effectively weaken the passivation film thickness. In other words, SiO2 sol accelerated the decomposition rate of passive film. It was confirmed that the SiO2 sol as reactant had been involved in the CMP process of copper film as reactant by the effect of trace SiO2 sol on the removal rate of copper film in the CMP process under different conditions. In the CMP process, a small amount of SiO2 sol can drastically alter the chemical reaction rate of the copper film, therefore, the possibility that Cu/SiO2 as a catalytic system catalytically accelerated the chemical reaction in the CMP process was proposed. According to the van't Hoff isotherm formula and the characteristics of a catalyst which only changes the chemical reaction rate without changing the total reaction standard Gibbs free energy, factors affecting the Cu/SiO2 catalytic reaction were derived from the decomposition rate of Cu (OH)2 and the pH value of the system, and then it was concluded that the CuSiO3 as intermediates of Cu/SiO2 catalytic reaction accelerated the chemical reaction rate in the CMP process. It was confirmed that the Cu/SiO2 catalytic system generated the intermediate of the catalytic reaction (CuSiO3) in the CMP process through the removal rate of copper film, infrared spectrum and AFM diagrams in different pH conditions. FinalLy it is concluded that the SiO2 sol used in the experiment possesses stable performance; in the CMP process it is directly involved in the chemical reaction by creating the intermediate of the catalytic reaction (CuSiO3) whose yield is proportional to the pH value, which accelerates the removal of copper film. 相似文献
566.
功率变换器中电力电子器件及其驱动电路是最易发生故障的薄弱环节,为提高系统可靠性,提出一种新型容错逆变器。通过在每个桥臂上串联快速熔断器,实现短路故障转换为开路故障,同时实现所在支路的故障隔离。通过在传统逆变器的直流环节添加辅助单元,实现逆变器发生单上开关管开路故障、单下开关管开路故障和一个桥臂上下两开关管同时开路故障时的容错运行,并且不降低系统性能。详细阐述该容错逆变器拓扑的工作原理和动作模式。对提出的新型容错逆变器驱动三相无刷直流电机进行仿真和实验,结果验证了电路结构和理论分析的正确性与可行性。 相似文献
567.
568.
柱塞泵滑履采用铜合金制成,滑履端面镀铟层容易磨损,采用刷镀In-Sn合金工艺进行修复。刷镀工艺过程为:工件处理、电净处理、活化处理、刷镀底层、刷镀In-Sn合金工作层、吹干、机械加工;工艺参数为正向(工件接负极,镀笔接正极),电压6~15 V,溶液温度60~80℃,镀笔与工件的相对运动速度为12~16 m/min。测试结果表明,采用In-Sn合金刷镀工艺,修复已磨损的柱塞泵滑履,所得镀层成分分布均匀,大大提高了柱塞泵滑履的耐磨、耐蚀性能和使用寿命。 相似文献
569.
570.