氧分压强和基片温度对脉冲激光沉积的ZnO∶Al膜性能的影响

利用脉冲激光法制备了ZnO∶Al透明导电膜。通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、XRD测试分析 ,详细研究了沉积时的基片温度、氧分压强对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明 :基片温度、氧分压强影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况。从电学分析看出 :基片温度从 2 0 0℃升到 30 0℃过程中 ,膜的载流子浓度、透光率和光隙能相应增大。在氧分压强为0Pa、基片温度为 4 0 0℃下沉积的膜 ,其电阻率具有较低值 ,且在可见光区其透光率约为 90 %。     

氧分压强和基片温度对脉冲激光沉积的ZnO：AI膜性能的影响

利用脉冲激光法制备了ZnOAl透明导电膜。通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、xRD测试分析,详细研究了沉积时的基片温度、氧分压强对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明基片温度、氧分压强影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况。从电学分析看出基片温度从200℃升到300℃过程中,膜的载流子浓度、透光率和光隙能相应zk大。在氧分压强为0Pa、基片温度为400℃下沉积的膜,其电阻率具有较低值,且在可见光区其透光率约为90％。     

各种实用真空工程材料的出气率测试

本文简要叙述小孔流量法测量材料出气率实验原理和实验装置。给出了无氧铜、不锈钢和低碳钢等十多种材料的常温出气率实验结果,探讨了各种加工工艺和清洗工艺对材料出气率的影响。     

微波ECR等离子体技术及其在材料加工中的应用

本文简要介绍了微波ＥＣＲ等离子体技术的原理，评述了近年来这种技术在ＣＶＤ、ＰＶＤ、刻蚀等方面的研究和应用的进展。     

高架钢弹簧浮置板轨道减振特性研究及参数优化

为探讨钢弹簧刚度和浮置板密度对高架钢弹簧浮置板轨道减振特性的影响规律,构建车辆-浮置板轨道-桥梁耦合模型,从时频域的角度对其进行分析,为钢弹簧浮置板轨道的设计参数的合理选择与组合优化提供理论依据。研究结果表明:在2 Hz~20 Hz范围内浮置板的振动水平随钢弹簧刚度的减小而增大。在16 Hz~125 Hz频率范围内,轨道中心线、翼缘、腹板、梁底的振动水平随着钢弹簧刚度的减小而减小,最大减幅达到13 dB。钢弹簧刚度的变化对传递函数的影响比较明显,弹簧刚度越小,浮置板到桥梁结构的竖向传递函数值越小。综合考虑,在设计浮置板轨道结构时建议将钢弹簧的刚度控制在6×106N/m~8×106N/m。浮置板密度的增大会在一定程度上减小系统的振动水平,实际设计中要合理设置浮置板密度,建议控制在2 800 kg/m3~3 200 kg/m3。     

Relationship Between Thermal Stability and Optical Bandgap of Fluorinated Amorphous Carbon Films

1. IntroductionWith the requirement of decreasing feature dimen-.sions and increasing device packing density for uLtralarge scale integration (ULSI) circuits, low dielec-tric materials have been often used as insulator lnyersbetween metal lines to reduce parasitic capacitance.Fluorinated amorphous carbon film (aC:F) has nowbeen one of the main candidate materials due toits good electric properties and mechanical perfor-manc e[l, 2, 3]. FOr the characterization of aC:F film,much attention h…     

掺杂比对脉冲激光沉积的ZnO:Al膜性能的影响

用脉冲激光法制备了ZnO :Al透明导电膜。通过对膜的霍尔系数测量及SEM、XRD分析 ,详细研究了靶材中的化学配比 (掺杂比 )对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明 :掺杂比影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况。掺杂比从 0 .75 %增至 1 .5 % ,膜的载流子浓度、透光率 (波长大于 5 0 0nm)和光隙能相应增大。在掺杂比为 1 .5 %左右时沉积的膜的电阻率达到最小 ,其值为7.1× 1 0 -4 Ωcm ,且在可见光区其透光率超过了 90 %。     

气体快速注入实验

本文描述通过快速电磁阀门将气体注入到真空系统的实验。计算分析了气体进入系统时的流动状态。测定了B-A裸规和压电晶体阀门的响应特性。使用一简单供电电路,其脉宽为320微秒,就能使压电晶体阀门完成一次注气动作。     

Deposition of Amorphous Carbon Films using ECR Plasma byVarying the Substrate Temperature

1.IntroductionAmorphoushydrogenatedcarbon(a--C:H)thinfilmsareofspecialinterestinrecentyearsbecausetheyhavehighelectricalresistivity,chemicalinertness,thermalconductivityandopticaltransparencyoverawidespectralrange.Thesepropertieshavemadethemtobeusedajsprotectivecoatings,integratedcircuitpassivationcoatingsandinfraredopticalcoatings[l~3].UsuallyRFglowdischargesat13.56MHzhavebeenappliedtodecomposehydrocarbongasessuchasmethane,methane--hydrogenmixtures,acetylene,andethylene.RecentlyR.Gagoetal…     

HT-6M装置中频放电清洗实验研究

本文介绍一种用400Hz中频放电清洗HT-6MTokamak装置真空器壁的实验研究。系统经过800min断续中频放电,P_(18)、P_(28)降低两个量级,器壁表面C和O的含量分别降低到26%和5.8%。实验对400Hz中频放电清洗和直流辉光放电清洗效果进行了比较,结果表明400Hz放电对于表面H_2O的清洗效率优先于直流辉光放电清洗。实验中亦探讨了器壁条件的改善对等离子体参数的影响。