RBa_2Cu_3O_（7－δ）（R＝Y，Pr）薄膜中非平衡载流子的超快弛豫动力学

通过拟合ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ（７－δ）（δ＝０．１，０．４，０．８）和ＰｒＢａ２Ｃｕ３Ｏ７外延膜的室温飞秒瞬态反射谱，研究了其非平衡载流子的超快弛豫动力学，计算了电声耦合常数λ．发现随着氧含量的降低及用Ｐｒ替代Ｙ，Ｃｕ－Ｏ面上载流子浓度降低，非平衡载流子的弛豫时间增加而电声耦合常数明显减小．这表明电声耦合与载流子浓度的依赖关系，电声相互作用可能是一种实空间局域相互作用．     

关于“P~+注入硅损伤层的椭圆偏振术研究”一文的讨论

<正> 贵刊第2卷第2期刊登了钱佑华等的论文“P~(+)注入硅损伤层的椭圆偏振术研究”.这工作及近年来我国的一些工作,采用椭圆偏振术对离子注入进行了研究.这些研究中,对实验结果的解释和分析,出现不同的看法和模型.我在这里对[1]文提出一些讨论意见,希望有助于工作的深入.     

KNSBN:V晶体材料制备及光诱导吸收研究

成功地生长、制备出了一系列含不同掺钒浓度的钾钠铌酸锶钡（ＫＮＳＢＮ：Ｖ）晶体样品。测量了在不同光强、光偏振和掺钒浓度下ＫＮＳＢＮ晶体的光诱导吸收变化。实验结果显示,ＫＮＳＢＮ：Ｖ晶体存在较强的光诱导吸收,且其光诱导吸收变化明显依赖于泵浦束光强,探测束光偏振和晶体的掺钒量,对于探测束光偏振平行和垂直于ｃ轴的情况其值分别可达０．５５和０．２２ｃｍ＾－１。对实验结果进行了解释。     

薄膜材料光学特性研究的椭偏光谱数据处理

椭偏光谱由于其独特性而广泛应用于薄膜材料的光学特性研究。文章综述了椭偏光谱数据处理中常用的物理模型,并对椭偏光谱的一般方法作了总结。     

Ba_(0.9)Sr_(0.1)TiO_3薄膜的椭偏光谱研究

用椭偏光谱仪首次在光子能量为２．１～５．２ｅＶ的范围内,测量了不同热处理温度下Ｂａ０．９Ｓｒ０．１ＴｉＯ３（ＢＳＴ）薄膜的椭偏光谱,建立适当的拟合模型,并用Ｃａｕｃｈｙ色散模型描述ＢＳＴ薄膜的光学性质,用最优化法获得了所有样品的光学常数（折射率η和消光系数κ）谱及禁带能Ｅｇ．比较这些结果,初步得到了ＢＳＴ薄膜的折射率η、消光系数κ和禁带能Ｅｇ随退火温度变化的变化规律．     

(Pb,Ca)TiO3铁电薄膜光学性质的研究

用溶胶凝胶法在Ｓｉ（１００）衬底上制备了（Ｐｂ,Ｃａ）ＴｉＯ３铁电薄膜样品,测量了其在２．３￣５．０ｅＶ能量范围的鸫谱,并获得样品的膜厚和在该区间的光学常数谱,实验发现Ｐｂ离子被Ｃａ离子取代后,折射率向低能方向移动;同时随着Ｃａ含量的增加,（Ｐｂ１Ｃａ（ＴＩＯ３工能方向移动,表明Ｃａ离子取代Ｐｂ离子后,禁带宽度Ｅｇ减小,还了引起折射率峰移动和禁带宽度Ｅｇ减小的原因。     

TPP-1型椭圆偏振光谱仪

一、前言椭圆偏振光谱仪是一种研究和测定薄膜、表面及固体的光学仪器。它是通过分析光在样品上反射时偏振状态的变化进行测量的,这种测量对表面结构和表面过程非常敏感、精确度     

多孔硅的椭偏光谱研究

本文用椭偏光谱法研究多孔硅．采用有效介质理论，从椭偏光谱数据定出不同实验条件下制备成的多孔硅样品的孔隙率．其次，从紫外一可见范围的椭偏光谱得到多孔硅介电函数虚部谱，并与单晶硅相应谱作比较．结果表明主峰带隙随着多孔硅空隙率增加而向高能方向移动，同时在＜３ｅＶ区出现新的吸收带，与能带理论计算结果相符．     

高频等离子体超声喷雾热解法制备CuO/Al2O3粉体

以硝酸盐水溶液为原料、高频感耦等离子体为加热源、超声雾化热解的方法制备ＣｕＯ／Ａｌ２Ｏ３粉体。研究发现，溶液浓度及等离子参数体条件对粉初始态的特性有很大影响，浓度越低，粉体越细。纯Ａｌ２Ｏ３粉为粒径在１μｍ左右的空心球或壳状碎片，ＣｕＯ粉由无定型海绵体与平均粒度为２０ｎｍ的超细粒子组成。混合溶液制得的粉体形貌随着Ｃｕ／Ａｌ原子比的变化而变化，ＣｕＯ与Ａｌ２Ｏ３熔点温度相差较大是导致粉体生成微观过程     

功能碳薄膜化学键成分的椭偏光谱研究

用磁过滤真空离子溅射系统，改变加在单晶Si(100)村底上的衬底偏压．制备不同sp2C键与sp2C键比例的碳薄膜样品。测量了2．0～5．0eV光子能量范围内各个碳薄膜样品的椭偏光谱。发现该谱与碳薄膜中的sp键比例有明显的关系。我们提出一种较简便的分析解谱方法，分析所测得的各个椭偏光谱．半定量地确定各碳薄膜样品的sp3C键与sp2C键比例。所得结果还与同类样品的拉曼光谱与吸收光谱测量结果相比较．结果基本上是一致的。研究结果表明椭偏光谱方法可以发展成一种较简便的、对样品无损伤的测定功能碳薄膜中的sp3C键成分的新方法。