曹雪芹的园林杰作——大观园

现今,《红楼梦》已成为世界性文学巨著,为文化交流之一。北京、上海两市先后营建“大观园”,供人们游览欣赏,“大观园”已成为我国山水园林创作的一种题材。本文在研究《红楼梦》专著中有关大观园的时空转换和物境布局特点的基础上,结合中国古典园林的传统布局特点及其意境的表     

小桐木沟泥石流灾害成因及防治对策

北京市怀柔区汤河口镇小黄塘村小桐木沟由于多种因素共同作用,形成了泥石流地质灾害隐患,给下游居民生命财产安全造成极大威胁。本文在分析其地理环境、形成条件、发展趋势等多种灾害因素的基础上,综合提出“治源+固源+排导”防治对策,主要通过地形地貌整治、坡面物源整治、设置排桩和沟道排导等工程措施达到显著治理效果。     

带GPRS通信的流量计诊断器的研制

随着中国天然气行业进入高速发展期,气体流量计作为一种天然气贸易的计量仪表,它的性能直接影响到贸易双方的经济利益。本文简述了一种提供更好的诊断技术和多样性的诊断方法,从而降低流量计的运行成本并提高可靠性。其中,通过压损的大小来判断流量计是否出现异常。对于气体涡轮流量计,通过检测高低频信号输出情况也可以判断涡轮叶片或减速机构的传动比是否已发生损坏。对于旋进旋涡流量计可检测流体振动信号受压力波动或机械振动干扰的程度,从而判断旋进流量计是否适合用于其所处的使用场合。并且采用GPRS无线通信技术,实现将测量的过程参数远传至数据中心,组成远程数据采集监控系统(SCADA)。     

中小山水城市绿地系统塑造城市特色的途径和方法——以泾县为例

绿地是形成城市特色的重要组成部分,城市绿地系统与城市自然人文环境相结合是城市特色构建的一个重要方面.中小山水城市绿地系统规划在塑造城市特色方面具有独特的代表性.文章总结了中小山水城市的特色,提出绿地系统塑造城市特色的手法,并且以泾县为例来分析绿地系统塑造中小山水城市特色的手法.首先分析整理城市特色资源,对主要的关键词进行抽取比较,得到主要的城市特色;然后从整体出发为绿地系统定位,通过城市绿地系统结构布局强化城市山水环境;通过绿道体系的构建打造城市特色的展示体系;最后从树种规划的角度出发塑造城市的宣纸之都的城市特色.     

异构无线网络垂直切换技术

随着各种异构无线网络的相继出现,多种无线网络融合基础的垂直切换技术受到了学术界和工业界的广泛关注。因此,下一代无线网络(Next Generation Wireless Networks,NGWN)必须支持垂直切换技术以保证用户从一个网络切换到另一个网络或从一种传输媒体切换到另一种传输媒体时仍然保持已有通信的连续性。本文对目前垂直切换技术的基本思想及存在难点进行简要分析,同时引入一种使用多种判决因子的垂直切换判决策略,并对其核心思想及切换过程进行分析。     

Check方式轨道交通调度监督系统的设计与实现

针对轨道交通信号系统的特点,文章提出了一种基于Check方式的城市轨道交通调度监督系统。结合上海明珠线调度监督系统,介绍了系统数据库的事务处理和并发控制,给出了几种优化系统的措施,以及系统的软件结构和系统功能。     

基于通信的列车自动监控系统平台设计与实现

针对基于无线通信的列车控制系统(CBTC)的需求和现状,对其原理及特点进行深入分析,特别是对移动闭塞原理的分析,并利用组件化程序设计思想与线路拓扑结构,提出并设计了一种基于CBTC的列车自动监控(ATS)系统交互式平台,并交付ATS仿真运营框架对站场运行图进行调用.     

基于规则的BitTorrent流量探测

提出了一种方法来探测BitTorrent流量.该方法分析BitTorrent协议,识别BitTorrent协议特征,并对这些特征设定规则,使其能够被入侵探测系统识别,然后通过带有SNORT(一种开放源代码的IDS)的网络监控这些特征,达到探测数据流的目的.最后指出了探测网络流量研究的新方向.     

Sn-9Zn/Cu焊点剪切强度及断口形貌分析

研究了BGA直径分别为750μm、1 000μm、1 300μm的Sn-9Zn/Cu焊点剪切强度及其变化规律。采用SEM和EDX对剪切断口进行观察和元素成分分析。试验结果表明,随着焊球直径的增大,焊点剪切强度先减小后增大。剪切断裂位置大部分位于钎料内部,局部位于界面化合物Cu5Zn8处。在相同的剪切高度与剪切速率下,随...     

Simulation of gas phase reactions for microcrystalline silicon films fabricated by PECVD

We present a numerical gas phase reaction model for hydrogenated microcrystalline silicon(μc-Si:H) films from SiH4 and H2 gas mixtures with plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD).Under the typical μc-Si:H deposition conditions,the concentrations of the species in the plasma are calculated and the effects of silane fraction(SF=[SiH4]/[H2+SiH4]) are investigated.The results show that SiH3 is the key precursor for μc-Si:H films growth,and other neutral radicals,such as Si2H5,Si2H4 and SiH2,may play some roles in the film deposition.With the silane fraction increasing,the precursor concentration increases,but H atom concentration decreases rapidly,which results in the lower H/SiH3 ratio.