不同电化学抛光工艺条件下Q235A表面镍镀层的性能

钢件镀镍前的电化学抛光工艺对镀层性能有较大影响。以低碳钢Q235A为基材,研究电化学抛光工艺参数对镍镀层性能的影响规律,探讨了在低碳钢表面制备性能优良的镀镍层的较优工艺。首先选择4组、每组2件样品,研究电化学抛光中有、无磁性搅拌对镍镀层的影响。在此工作基础上,采用正交试验,选择16件样品研究磁性搅拌下抛光工艺参数对镀层的影响。用数显外径千分尺测试镀层厚度、表面轮廓测量仪2302A测量表面粗糙度值Ra、纳米压痕仪Nano Indenter XP测试镍镀层的弹性模量及硬度。结果显示:电化学抛光时加磁性搅拌可以使镀层表面光滑、镀层增厚;电化学抛光电流密度对镀层表面粗糙度影响较小,但对镀层厚度、弹性模量及硬度的影响很大;而电化学抛光温度、抛光时间对镀层表面粗糙度、镀层厚度的影响与抛光电流密度有关。在其他条件相同的情况下,选择抛光时间15 min、电流密度30 A/dm2,抛光温度为65℃时得到的镍镀层弹性模量、硬度可以达到最大值。     

阳极氧化工艺对氧化铝纳米孔膜形成过程及结构的影响

采用高纯度的铝片为阳极，以铂网为阴极，在3％～5％草酸溶液中，电压在30～70V，温度控制在17～25℃范围内进行恒压阳极氧化制备氧化铝膜，并采用环境扫描电镜观察纳米孔形貌，金相显微镜测量氧化膜厚度。研究了电解电压、电解液浓度、温度等条件对氧化铝多孔膜结构的影响。结果表明：氧化膜形成速度、纳米孔孔径、胞径、孔壁厚度、氧化膜厚度受电解电压影响显著，随着电解液浓度和温度的增大，氧化膜生长速度加快，纳米孔孔径、孔壁厚度等都随之增大，在相同时间内生成的氧化膜厚度增大。     

硫酸盐镀铜溶液中铜阳极性能的研究

硫酸盐镀铜铜阳极的含磷量究竟是采用低磷（0．02％－0．06％）,还是采用高磷（0．1％－0．3％）,一直以来,国内外观点各有不同,为了弄清含磷量高低铜阳极的性能差异,本文对用于硫酸盐镀铜的无氧钝铜阳极、高磷铜阳极和低磷铜阳极进行了电化学行为的对比研究,并结合对于不同含磷量铜阳极的组织结构分析,探讨了造成其性能差异的原因。     

铝合金阳极氧化技术研究进展

铝合金表面处理技术能够很好地清洁材料表面,结合阳极氧化技术能够提高铝合金基体表面的硬度、耐蚀性和耐磨性。本文概述了多种阳极氧化的工艺,为研究新技术工艺、开拓新应用领域提供了有力支持。     

氧化铝多孔膜红外吸波性能的研究

在铬酸中采用直流恒压铝阳极氧化法制备氧化铝多孔膜,经测试这种多孔膜具有红外吸波性能。同进随氧化铝多孔膜孔隙度的增加,在１２５０－４１７ｃｍ＾１波段的红外发射光谱呈下降趋势。     

N,N-二甲基甲酰胺体系电沉积铋−碲热电薄膜

在N,N-二甲基甲酰胺(DMF)有机溶剂中先通过阴极极化曲线和循环伏安曲线测试研究了Bi(III)、Te(IV)离子及二者混合时在金电极上电沉积的电化学行为.再在不同电位下电沉积制备了Bi-Te热电薄膜,研究了沉积电位对Bi-Te薄膜性能的影响.结果表明,Bi(III)、Te(IV)及Bi-Te在金电极上的电沉积均属于...     

二甲基亚砜有机溶液中Bi-Sb薄膜温差电材料的电沉积制备

采用循环伏安曲线以及稳态极化曲线的测试方法分析了二甲基亚砜有机溶液中纯Bi、纯Sb以及Bi-Sb二元体系在Ti基体上的还原过程。结合分析结果,采用直流恒电位方式电沉积制备了Bi-Sb二元薄膜温差电材料,并采用X-射线衍射以及塞贝克系数测试对不同电位下制备出的Bi-Sb二元薄膜温差电材料的物相结构及性能进行了表征。实验结果表明,在Ti基体上Bi3+、Sb3+离子的氧化还原均为不可逆过程,前者的阴极还原过程仅由离子扩散造成,而后者的还原过程中涉及到了离子的吸附,二者沉积电位接近,共沉积过程是一步完成的。对制备出的材料的物相以及性能的分析结果表明,电沉积制备出的材料确为Bi-Sb二元合金,随着沉积电位的负移,温差薄膜电材料的表面变得粗糙,在不同电位下沉积出的材料均为P型温差电材料,塞贝克系数随电位变化不大。     

纳米孔阵列结构阳极氧化铝模板的应用研究现状

对铝基材实施阳极氧化处理,可在其表面形成氧化铝多孔膜。当氧化铝多孔膜的纳米孔排列成规则的阵列结构时,氧化铝多孔膜将具有许多其它纳米材料无法比拟的优势。综述了以具有规则纳米孔阵列结构的阳极氧化铝薄膜作为模板,通过复制、沉积、吸附等技术,制备具有各种特殊用途纳米材料的制备工艺,使用这些方法制备的纳米材料已经广泛地应用于催化、气体吸收、分离膜、微电子器件等。     

电压施加方式在阳极氧化钛薄膜形成过程中的作用

采用阳极氧化的方法，通过改变电压的施加方式制备了具有不同形貌的氧化钛薄膜。使用扫描电子显微镜考察了氧化钛薄膜的形貌，结合实验现象探讨了阳极氧化钛薄膜纳米孔的形成机制。研究结果表明，采用一步施加电压和连续施加电压的方法，氧化钛薄膜纳米孔的形成过程由电压、阻挡层的厚度决定;采用两步施加电压的方法，氧化钛薄膜纳米孔的形成过程由放电电压、阻挡层的厚度和阻挡层/电解液的边界条件协同控制。在相同工艺条件下，采用两步施加电压法能够扩展阳极氧化钛薄膜纳米孔孔径和孔密度的范围。