对向靶溅射制备NiCr—NiSi薄膜热电偶的动态特性研究

用对向靶溅射制备了ＮｉＣｒ－ＮｉＳｉ薄膜热电偶，实现了薄膜民分与靶材基本一致。对热电偶进行动态特性测试表明，薄膜热电偶的时间常数τ随膜厚变薄而减小，并对此进行讨论。     

[Co／Ti],[Co／Cu（Ni）]多层膜的结构与磁性

用双对向靶溅射方法制备了具有非晶磁性的「Ｃｏ／Ｔｉ」３０，「Ｃｏ／Ｃｕ（Ｎｉ）３０」两组多层膜，分别用Ｘ射线衍射，透射电镜和振动样品磁强计做了结构和磁性测量，在以非晶Ｃｏ和Ｃｉｕ－Ｎｉ合金构成的「Ｃｏ／Ｃｕ（Ｎｉ）」多层膜中，发现饱和磁化强度Ｍｓ随非磁性层厚度ｄｓ的增国发生振荡变化；在以非晶Ｃｏ和Ｔｉ构成的「Ｃｏ／Ｔｉ」多层膜中，ＭＳ和则随ｄｓ的增加而减小。     

Co／Ti非晶多层膜晶化过程中结构及磁性的变化

利用双对向靶溅射方法在室温下制备Ｃｏ／Ｔｉ非晶多层膜，并采用原位退火透射电镜和原位热重法，观测了Ｃｏ／Ｔｉ多层膜结构与磁性随温度的变化，结果表明：退火温度ｔａ为４００℃时，薄膜开始晶化，Ｃｏ，Ｔｉ颗粒析出并粗化；ｔａ＞６００℃时，具有铁磁性的Ｃｏ单质完全消失，全部转化为Ｃｏ２Ｔｉ相．热磁测量在３９０及５２０℃附近出现了两个明显的磁性转变峰，与薄膜结构变化对应．适当温度（４００—５２０℃）的退火可获得高饱和磁化强度的Ｃｏ－Ｔｉ颗粒膜．     

对向靶溅射制备NiCr-NiSi薄膜热电偶的动态特性研究

用对向靶溅射制备NiCr－NiSi薄膜热电偶，实现了薄膜成分与靶材基本一致。对热电偶进行动态特性测试表明，薄膜热电偶的时间常数τ随膜厚变薄而减小，并对此进行讨论。     

对向靶溅射TiN薄膜的结构和物性

利用对向靶溅射（ＦＴＳ）沉积出（１１１）择优取向的单相ＴｉＮ膜，膜硬度（ＨＶ）最高可达３８００，择优取向随基板偏压增高，可由（１１１）转向（２００），晶格常数随氮气分压增高而增大，这是氮原子进入四面体间隙引起的。     

退火[Co＼Cu]多层膜的固相反应与磁性

用双对向靶溅射方法制备了两种成分的「Ｃｏ（１．２ｎｍ）／Ｃｕ（ｔＣｕ）」（ｔＣｕ＝１．０ｎｍ，３．４ｎｍ）纳米多层膜。分别用ＴＥＭ和ＴＧ方法研究了「Ｃｏ／Ｃｕ」多层膜结构和磁怀随温度的变化。结果表明：ｔＣｕ＝１．０ｎｍ的多层样品出现了两个磁性转变点，这是因为样品中存在的两种磁性物质。ＴＥＭ分析结果证明这两种铁磁相为ｈｃｐＣｏ－Ｃｕ固溶体。     

磁性多层膜研究进展:理论和实验

详细叙述了磁性多层膜研究的理论和实验进展，在不同的磁性多层膜材料中，大量实验事实证明和理论预示磁性多层膜具有独特的物理性质，如维度磁性、界面各向异性、耦合作用、巨磁阻、层间交换作用振荡和磁性量子隧道效应等等，因而，磁性多层膜是理论研究和技术应用的重要课题。     

对向靶溅射TiN薄膜的结构和物性

利用对向靶溅射（ＦＴＳ）沉积出（１１１）择优取向的单相ＴｉＮ膜，膜硬度（ＨＶ）最高可达３８００，择优取向随基板偏压增高，可由（１１１）转向（２００），晶格常数随氮气分压增高而增大，这是氮原子进入四面体间隙引起的。     

用新型双对靶溅射仪制备的Fe/Ti多层膜的结构特征

在原FTS-Ⅰ型对向靶溅射基础上，设计制作了DFTS－Ⅱ型双对靶溅射仪，它具有低温、高速、成分偏离小和连续均匀溅射的特性，能够同时或交替溅射不同材料。使用DFTS－Ⅱ制备的Fe／Ti多层膜具有良好的周期调制结构，层内结构是以Fe（110）bcc相为主的Febcc多晶和Ti（0002）hcp取向生长的，但在Fe／Ti多层膜Fe／Ti的界面存在扩散驰豫现象。