掺杂Ti对Fe－N薄膜结构与磁性的影响

用对向靶溅射仪制备出含多量Ｆｅ（１６）Ｎ２相的（Ｆｅ，Ｔｉ）－Ｎ薄膜，研究了掺杂Ｔｉ对Ｆｅ－Ｎ薄膜结构与磁性的影响，在溅射Ｆｅ－Ｎ薄膜时加入适量的Ｔｉ可提高Ｆｅ－Ｎ薄膜中Ｆｅ（１６）Ｎ２相的含量．Ｔｉ含量（原子分数）在０—２５％时薄膜饱和磁化强度均高于纯Ｆｅ的值；Ｔｉ浓度为１０％时，薄膜磁化强度高达２．６８Ｔ，比纯Ｆｅ的饱和磁化强度值高２０％．     

[Co／Ti],[Co／Cu（Ni）]多层膜的结构与磁性

用双对向靶溅射方法制备了具有非晶磁性的「Ｃｏ／Ｔｉ」３０，「Ｃｏ／Ｃｕ（Ｎｉ）３０」两组多层膜，分别用Ｘ射线衍射，透射电镜和振动样品磁强计做了结构和磁性测量，在以非晶Ｃｏ和Ｃｉｕ－Ｎｉ合金构成的「Ｃｏ／Ｃｕ（Ｎｉ）」多层膜中，发现饱和磁化强度Ｍｓ随非磁性层厚度ｄｓ的增国发生振荡变化；在以非晶Ｃｏ和Ｔｉ构成的「Ｃｏ／Ｔｉ」多层膜中，ＭＳ和则随ｄｓ的增加而减小。     

α″- Fe_(16)N_2薄膜结构热稳定性的研究

α″- Fe16N2的结构及其高饱和磁化强度是磁性材料研究中最有争议的问题。本文用对向靶反应溅射法制备了α″- Fe16N2薄膜 ,用 X射线衍射 (XRD)、透射电子显微镜 (TEM)和振动样品磁强计 (VSM)对其结构、磁性以及结构的热稳定性进行了分析讨论。结果表明 ,随退火温度的升高 , α″- Fe16N2相逐渐分解为α- Fe和α′- Fe4N两相。     

α"-Fe16N2薄膜结构热稳定性的研究

α〃-Fe16N2的结构及其高饱和磁化强度是磁性材料研究中最有争议的问题.本文用对向靶反应溅射法制备了α〃-Fe16N2薄膜,用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和振动样品磁强计(VSM)对其结构、磁性以及结构的热稳定性进行了分析讨论.结果表明,随退火温度的升高,α〃-Fe16N2相逐渐分解为α-Fe和γ＇-Fe4N两相.     

对向靶反应溅射CN薄膜热稳定性的Raman散射研究

用Ｒａｍａｎ散射研究了对向靶反应溅射制备的ＣＮ薄膜的键结构,研究表明,在Ｃ膜中掺杂Ｎ可以抑制ＣＮ膜中ｓｐ＾３键的形成,提高ｓｐ＾２键的相对含量,改善Ｃ膜的结构热稳定性。     

Co／C多层膜的结构稳定性

用Ｘ射线衍射、透射电镜、Ｒａｍａｎ光谱、Ｘ射线光电子谱等测量方法研究了用对向靶溅射法制备的Ｃｏ／Ｃ多层膜的结构热稳定性．退火Ｃｏ／Ｃ多层膜的结构变化包括周期膨胀、非晶Ｃｏ层结晶、掠入射反射率变化以及化合物的形成．４００℃退火，周期膨胀主要是由于非晶碳层的石墨化．Ｃｏ／Ｃ系统的相分离造成掠入射反射率增强，可解释为Ｃｏ／Ｃ系统的正的混合焓．５００℃退火，Ｃｏ层的结晶和集聚导致了周期的异常膨胀和反射率的降低．此时界面处形成了少量的碳化物．     

熔甩Cu—Co合金薄带的结构,磁性及巨磁阻

研究了熔甩法制备的ＣｏｘＣｕ１－ｘ（０〈ｘ〈０．２０）颗粒合金的结构、磁性以及输运性质，通过Ｘ射线衍射（ＸＲＤ），差动热分析（ＤＣＳ）以及磁性测量，发现造成Ｃｏ－Ｃｕ合金磁性及输运性质变化的Ｃｏ相分离过程，当０〈ｘ〈０．１５时，在４５０℃退火火３０ｍｉｎ的ＣｏＣｕ合金中Ｃｏ颗粒的直径为３．５－４．５ｎｍ。并呈现最大的巨磁阻效应，磁性随析出Ｃｏ颗粒浓度及尺寸的变化与双通道模型的预示一致，粒子界面引起     

低温热处理CoN／CN软X射线多层膜的界面互扩散研究

在４７３－５２３Ｋ的低温退火条件下,通过对ＣｏＮ／ＣＮ软Ｘ射线多层膜一级调制峰强度增强的定量观测,研究了ＣｏＮ／ＣＮ软Ｘ射线多层膜的界面互扩散行为,产测得低至１０＾－２５ｍ６２ｓ＾－１的有效扩散系数。通过和Ｃｏ／Ｃ多层膜的结果相比较,发现Ｎ掺杂使ＣｏＮ／ＣＮ软Ｘ射线多层膜的界面互扩散行为明显不同于Ｃｏ／Ｃ多层膜,并具有如下特点：（１）有儿扩散系数和宏观扩散系数较小;（３）扩散激活能较大;（３）临床     

α^〃—Fe16N2薄膜结构热稳定性的研究

α＾〃－Ｆｅ１６Ｎ２的结构及其高饱和磁化强度是磁性材料研究中最有争议的问题。本文用对向靶反应溅射法制备了α＾〃－Ｆｅ１６Ｎ２薄膜,用Ｘ射线衍射（ＦＸＲＤ）、透射电子显微镜（ＴＥＭ）和振动样品α＾〃－Ｆｅ１６Ｎ２相逐渐分解为α－Ｆｅ和γ＾′－Ｆｅ４Ｎ两相。     

NdN－Fe_xN镶嵌薄膜的结构和磁性

ＮｄＮ－Ｆｅ＿ｘＮ镶嵌薄膜的结构和磁性顾卫东，姜恩永，白海力（天津大学应用物理学系天津３０００７２）镶嵌薄膜（或称之为颗粒膜）是指纳米尺寸的金属颗粒镶嵌在不相溶的介质基体上复合而成的薄膜￣［１］。自１９７５年￣［１］这种薄膜诞生以来，因其特有的结构而...