钙钛矿锰氧化物(La_(1-x)Nd_x)_(0.5)Ca_(0.5)MnO_3(0≤x≤1)的结构,磁性和电输运性质

系统研究了(La1-xNdx)0.5Ca0.5MnO3(x=0,0.2,0.4,0.6,0.8,1.0)系列样品的结构、磁性质和电输运性质。研究表明,所有样品的结构都为钙钛矿正交结构(空间群Pbnm),随着掺杂浓度x的增大,样品的晶格参数a,b,c和晶胞体积V都呈减小的趋势;磁性质的研究表明所有样品在低温下均出现电荷有序态,且电荷有序转变温度随着Nd3+的掺杂浓度x的增加而升高;除了Nd0.5Ca0.5MnO3(x=1.0)外,其它样品均出现顺磁-铁磁转变,其转变温度(即居里温度)随着Nd3+的掺杂浓度x的增加而降低;(0.2≤x≤0.8)样品的铁磁态均出现在电荷有序温度以下,表现出再入型(reentrant)铁磁态性质;电输运性质的研究表明,所有样品的电阻率随温度的升高而下降,表现为绝缘体性质。     

巡游铁磁体SrRuO3磁性的Preisach描述

测量了巡游铁磁体SrRuO3的零场冷却（ZFC）和加场冷却（FC）的磁化强度随温度的变化关系。以及不同温度下的磁滞回线，考虑了热涨落和自由能壁垒随温度的变化，改进了Preisach模型并对测量数据进行了拟合。数据模拟再现了测量结果的变化规律，包括在不同温度下的磁滞回线和在不同外磁场下的ZFC和FC磁化强度曲线等，对拟合出的巴克豪森跳跃谱进行了讨论。     

一种制备磁性粉末的新技术--均匀颗粒成型法

采用均匀颗粒成型法（Uniform Dropler Spray-UDS）制备Fe基合金粉末，该方法制备的颗粒粒度分布均匀，性能一致，大大优于传统的粉末制备方法（如破碎法、气雾化），具有广阔的应用前景。本文分析了粉末制备过程中颗粒尺寸的影响因素，结果表明：颗粒的大小主要取决于坩埚底部小孔、坩埚内外气体压强差以及振荡频率三个独立变量。     

机械球磨Al-10%Ti粉末的组织和热稳定性

研究了机械球磨方法制备的Al-10%Ti混合粉末的组织和热稳定性.结果表明:在球磨作用下,Al, Ti粉末的颗粒尺寸得到有效细化,并且球磨时间越长,Al/Ti粉末储备能量越大,生成Al-Ti金属间化合物所需的反应激活能越低,内能的增加和扩散能力的提高是由于机械球磨导致了大量的晶格缺陷;Al-10%Ti混合粉末反应烧结后相互扩散形成的最终产物是DO22-Al3Ti.     

掺杂Ti对Fe－N薄膜结构与磁性的影响

用对向靶溅射仪制备出含多量Ｆｅ（１６）Ｎ２相的（Ｆｅ，Ｔｉ）－Ｎ薄膜，研究了掺杂Ｔｉ对Ｆｅ－Ｎ薄膜结构与磁性的影响，在溅射Ｆｅ－Ｎ薄膜时加入适量的Ｔｉ可提高Ｆｅ－Ｎ薄膜中Ｆｅ（１６）Ｎ２相的含量．Ｔｉ含量（原子分数）在０—２５％时薄膜饱和磁化强度均高于纯Ｆｅ的值；Ｔｉ浓度为１０％时，薄膜磁化强度高达２．６８Ｔ，比纯Ｆｅ的饱和磁化强度值高２０％．     

EFFECTS OF ANNEALING TREATMENT ON PHYSICAL PROPETIES OF FeZrBiSiB METALLIC GLASS

<正> 到目前为止,含Bi金属玻璃结构弛豫过程的研究尚未见报道。本文用DTA法和磁测量方法,研究了退火处理对FeZrBiSiB金属玻璃的激活能、Curie温度和Mssbauer参量的影响,     

[Co／Ti],[Co／Cu（Ni）]多层膜的结构与磁性

用双对向靶溅射方法制备了具有非晶磁性的「Ｃｏ／Ｔｉ」３０，「Ｃｏ／Ｃｕ（Ｎｉ）３０」两组多层膜，分别用Ｘ射线衍射，透射电镜和振动样品磁强计做了结构和磁性测量，在以非晶Ｃｏ和Ｃｉｕ－Ｎｉ合金构成的「Ｃｏ／Ｃｕ（Ｎｉ）」多层膜中，发现饱和磁化强度Ｍｓ随非磁性层厚度ｄｓ的增国发生振荡变化；在以非晶Ｃｏ和Ｔｉ构成的「Ｃｏ／Ｔｉ」多层膜中，ＭＳ和则随ｄｓ的增加而减小。     

对向靶溅射制备NiCr—NiSi薄膜热电偶的动态特性研究

用对向靶溅射制备了ＮｉＣｒ－ＮｉＳｉ薄膜热电偶，实现了薄膜民分与靶材基本一致。对热电偶进行动态特性测试表明，薄膜热电偶的时间常数τ随膜厚变薄而减小，并对此进行讨论。     

化学共沉淀法制备γ＇-（Fe1-xNix）4N粉末的微结构及磁性研究

用化学共沉淀法和在NH3／H2气氛下氮化处理得到了一系列不同Ni含量的Fe-Ni-N多晶粉末。XRD测试的结果表明，随着Ni含量的增加，材料的晶格常数逐渐减小；制备出单相的γ＇-（Fe1-xNix）4N条件主要与NH3／H2气流比、热处理温度及时间有关。从VSM测量的结果来看，随着Ni含量的增加，材料的饱和磁化强度（Ms）总体呈下降趋势。Ni含量在0．18-0．28之间较容易得到单相γ＇-（Fe1-xNix）4N并且磁性质比较稳定。通过研究不同Ni含量对磁性的影响．进一步分析了Ni的占位问题．     

对向靶溅射制备CN膜的键态

使用对向靶溅射系统制备ＣＮ膜。研究了膜的结构和Ｃ与Ｎ之间的键态。膜为非晶结构,Ｎ／Ｃ随Ｎ２分压增大而增大,Ｎ与Ｃ的键合优先形成Ｎ－ｓｐ＾２Ｃ,Ｎ－ｓｐ＾３Ｃ的含量随Ｎ／Ｃ上升而增大。Ｎ含量进一步增大时,出现新的键态,Ｎ－ｓｐ＾３Ｃ含量下降。