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1.
针对国内晶体硅太阳能电池生产厂设备自动化程度低、管理分散以及生产效率低下等问题,本文提出一种基于CAN总线的光伏设备智能监控系统,用于对大批光伏设备实行统一管理和实时监控,以实现整线光伏设备的统一管理和自动化运行,提高生产效率和降低生产成本。并分析介绍这一监控系统的特点、系统结构以及系统的设计和实现。  相似文献   
2.
3.
设计了大功率微波模式转换器,并采用两种工艺加工,分别利用低功率冷测和大功率热测实验对比了其性能。结果表明,导电氧化的加工件性能要明显优于老化件,其低功率冷测传输效率可达99.9%,返回损耗降低至-29.12 dB,大功率热测实验表明,采用导电氧化工艺的模式转换器镀膜质量要整体优于老化件的镀膜质量。  相似文献   
4.
离子束溅射制备的氧化钽层的绝缘特性   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了一种具有高附着力和优良绝缘性能的Ta2O5介质膜,它由离子束溅射镀膜工艺制备而成。检测了在不同氧气流量下制备的氧化钽薄膜的绝缘性。结果表明:在其余条件相同的情况下,氧气流量越大所制备的薄膜绝缘程度越高。但当氧气流量达到一定的程度时,其绝缘程度不再有所变化。  相似文献   
5.
根据太阳能PERC电池关键工艺设备——平板式PECVD设备的整体要求,介绍了其中工艺腔的加热系统设计,对加热功率进行了计算,控制方式进行了分析,通过优化设计,降低了设备的能耗,提高了温度均匀性。  相似文献   
6.
从降低生产成本和提高电池转换效率方面出发,介绍了太阳电池扩散设备的最新进展,并对各种新型设备作出了评价和展望。  相似文献   
7.
多晶硅太阳电池PECVD氮化硅钝化工艺的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍等离子体化学气相淀积(PECVD)制备减反射钝化膜。将PECVD设备运用于太阳电池生产线上,发现通过PECVD设备可以对多晶硅太阳电池有很好的钝化效果。分析PECVD对多晶硅太阳电池钝化机理。  相似文献   
8.
用于MEMS器件制造的深反应离子刻蚀设备   总被引:1,自引:0,他引:1  
深反应离子刻蚀(DRIE)设备,主要应用于MEMS器件制造中Si材料的深槽刻蚀[1].介绍了一种用于硅材料的高深宽比反应离子刻蚀设备,采用ICP技术,刻蚀深宽比≥25∶1.着重阐述了该设备的结构组成、设计方法及控制方法.  相似文献   
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