镍铁合金中杂质元素铜的去除

 镍铁合金是生产不锈钢的重要原料,其中的杂质元素必须严格控制,杂质元素铜质量分数过高会引起加工热脆性,通过加入脱铜剂FeS对镍铁合金中杂质元素铜的去除进行了系统研究。研究结果表明,脱铜率随着FeS加入量的增加而增大;镍铁合金中碳质量分数在增大至1%的过程中,脱铜率随着碳质量分数增加不断增大;镍铁合金初始铜质量分数越高,脱铜效果越好;在试验温度高于1 500 ℃的高温条件下,温度的升高对脱铜效果有影响但效果不显著。     

关於玻璃的抗化学侵触性问题

抗化学侵蚀性,是决定玻璃适合于那些使用条件的基本物理-化学性质之一。抗化学侵蚀性所指的是玻璃对水、盐溶液、各种化学药剂、水气以及各种气体侵蚀作用的抵抗性能。无数阐明玻璃抗化学侵蚀性方面的研究,老早就确定了!玻璃会和各种各样的化学物质起作用,其强度及其作用于玻璃的特性则决定于各种化学物质的性质。温度、玻璃的成份、玻璃的表面性能热处理及化学药剂等都是独立的变化因素。根据这些因素,侵蚀玻璃的特性,可能有很大的变     

反钻杆机械化

在处理卡、埋钻具事故时,往往要反回孔内钻杆,用手工操作不但费力而且有危险性。在深孔中反钻杆就更困难,损耗工具也多。根据这种情况,李鹏九同志建议用升降机反钻杆。经过多次试用,效果良好,深受工人欢迎,基本上达到反钻杆机械化。一升降机反钻杆装置（如图1）     

阳离子引入对CsPF6:Mn4+红色荧光粉发光性能的影响

采用共沉淀法在室温条件下合成了CsPF₆:Mn4+荧光粉,研究了Li+、Na+、K+阳离子的引入对CsPF₆:Mn4+荧光粉发光强度的影响。所制备的系列荧光粉样品均为立方结构纯相。在蓝光激发下,呈现最强峰位于634 nm处的一系列窄带红色发射。加入K+和Li+后,发光强度增强,加入Na+后发光强度有所减弱,其中加入K+的CsPF₆:Mn4+荧光粉发光强度最强。CsPF₆:Mn4+, K+荧光粉的发射强度随着温度的上升先增强然后由于非辐射跃迁的增加而降低,在423 K时达到最大值,发射强度相较于未引入阳离子的荧光粉发射强度亦增强。阳离子的引入可以有效提升CsPF₆:Mn4+荧光粉的发光性能。      

碳酰胺与氢化锆高温下原位反应层的AES/XPS分析

采用碳酰胺高温分解产生含C、O、N源与氢化锆原位反应制备阻氢渗透层,借助俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)等手段对阻氢渗透层元素成分及深度、键态进行分析。AES结果表明:氢化锆表面原位反应层由C、N、O、Zr元素组成,随溅射时间增加,O、Zr元素含量增加,C、N元素含量降低。原位反应层厚度约3.4μm,其中含N、C层深度约150 nm。氢化锆表面阻氢渗透层XPS分析表明,表面层存在ZrO_2,同时有Zr-OH、Zr-N、C-H、N-H键。氢在扩散过程中被C、O、N捕获表明含C、O、N的氢化锆表面原位反应层对氢的渗透有一定的阻碍作用。     

氢化锆表面KH570/A171改性硅溶胶膜层结构及性能

以硅酸乙酯(TEOS)、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(硅烷偶联剂KH570)和乙烯基三甲氧基硅烷(硅烷偶联剂A171)等为主要原料制备硅烷偶联剂KH570/A171改性硅溶胶,进而采用浸渍提拉法在氢化锆表面制备溶胶膜层。红外光谱(FTIR)分析显示,硅烷偶联剂能有效参与溶胶共聚反应。透射电镜(TEM)分析表明,硅烷偶联剂的逐一加入有利于胶粒粒径细化,提高和维持胶粒之间亲和能力。扫描电镜(SEM)分析显示,使用硅烷偶联剂KH570和A171改性的有机硅溶胶,可在氢化锆表面制备干燥后无裂纹溶胶膜层,烧结溶胶膜层存在微裂纹而无明显崩落;溶胶膜层表面元素分布均匀,烧结后存在碳残余。真空热放氢实验表明,在氢化锆表面制备的烧结硅溶胶膜层,起到了阻氢渗透的作用。600℃二氧化碳气氛中,烧结硅溶胶膜层具备阻碍氧渗透能力,对氢化锆基体有抗高温氧化作用。     

氯铪酸钾的制备及表征

以氯化钾和四氯化铪为原料,通过气-固反应直接制备出了氯铪酸钾。首先考察了氯化钾与四氯化铪混合同一坩埚内加热及分别放入不同的坩埚加热两种加料方式对产物的影响,结果表明采取后一种加料方式反应较充分;之后分析原料配比、反应温度及时间对产物的影响,并对得到的产物进行XRD、EDS及SEM分析。XRD结果表明,产物为氯铪酸钾,由EDS分析可知,产物中钾原子与铪原子的摩尔比为2.11(nK:nHf=2.11),与纯氯铪酸钾中钾与铪的摩尔比2:1接近,说明产物中大部分为氯铪酸钾。制备氯铪酸钾较理想的反应条件为:采用分开放料的加料方式,氯化钾与四氯化铪的质量比为1:2,反应温度为450℃,反应时间为3 h。     

氢化锆表面多元复合膜层制备和研究

采用尿素高温分解产生的氧化性气氛在氢化锆表面制备多元复合膜层。利用XRD、SEM、EDS、XPS、AES等分析测试手段对氢化锆表面膜层的相结构、截面形貌、元素成分及价态进行性能表征。物相分析结果表明膜层主要有氧化锆相和Zr N相,且氧化锆相由单斜相(m-ZrO_2)和四方相(t-ZrO_2)组成。扫描电镜形貌分析表明原位生长氧化物膜层致密,膜层与氢化锆基体结合紧密。俄歇电子能谱结果表明膜层由C、N、O、Zr元素组成,并具有明显的分层现象,膜层由外向内分为富(C/N)层及富O层,随膜层表面溅射时间增加,O、Zr元素相对含量明显增加,C、N元素相对含量明显降低。X射线光电子能谱分析表明多元复合膜层存在Zr-O、Zr-C、Zr-N-O、Zr-N、O-H等键。     

磁性Fe3O4@SiO2-HEHEHP复合材料的制备及其对Y(Ⅲ)的吸附

稀土常规提取过程会产生大量稀土废液，对环境造成污染，并导致稀土资源流失。针对此问题，采用溶胶-凝胶法制备了Fe3O4@SiO2-HEHEHP磁性杂化材料，将其作为吸附剂，对水相低浓度稀土离子进行富集回收，通过XRD、SEM、EDS、FT-IR、BET、磁性能分析等测试方法探究了FSP的结构形貌等物相特征，研究了FSP对于Y(Ⅲ)的吸附行为。结果表明，FSP具有核壳结构，外层的SiO2能够在酸性环境下保护内部的Fe3O4纳米颗粒，HEHEHP萃取剂成功负载在磁性吸附材料表面；FSP表面含有较多的孔隙结构，对吸附具有一定的促进效果。磁性FSP可再生使用，三次循环使用后的吸附率仍达86.29%。