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霍尔传感器作为磁传感器的重要成员,广泛应用于汽车电子和无线通信等电子系统.与以第一代半导体材料硅、锗等为基底的霍尔传感器相比,GaAs基霍尔传感器具有更高的磁场分辨率、灵敏度和稍好的温度特性.概述了GaAs材料在霍尔传感器领域的优势及霍尔单元形状的研究进展;综述了采用外延工艺制备的单外延结构的GaAs基霍尔传感器和异质结构的GaAs基霍尔传感器的研究进展;详细介绍了电压偏移消除技术的研究进展,包括结构的优化、正交对消补偿和旋转电流技术;最后对GaAs基霍尔传感器的发展趋势进行了展望. 相似文献
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为了对霍尔传感器特性曲线进行有效的拟合,分析了三次样条函数在霍尔传感器特性曲线拟合中的理论,应用软件Matlab 6.5结合实验数据对UGM3501U型传感器的UH-B曲线进行了拟合,给出了传感器拟合点减少的方案,这样可以减少成本和工作量,但对相对误差影响不大.结果表明,原拟合的曲线与减少拟合点后的拟合曲线两者都很光滑,且精度高,相对误差很小,这种方法有很强的实用性和较高的理论价值. 相似文献
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本文提出了一种基于线性霍尔传感器的角度测量的非线性校正方法,在固定磁铁上绕制一定匝数的线圈,线圈产生的磁场与磁铁产生的磁场垂直,空间磁场为上述两个磁场的叠加,固定霍尔传感器的位置,同时保持控制电流不变,让磁铁绕霍尔传感器旋转产生角度的变换,霍尔传感器输出电压也将产生变化。对增加线圈和不增加线圈两种结构进行理论分析和仿真,从仿真结果看,霍尔电压与夹角的关系曲线明显线性增加,测量范围扩大,在角度测量中具有独特的优点。同时设计了传感器硬件电路,进行了实验测量,仿真和实测结果表明:该方法具有电路简单、实时性好、频率相应快、抗干扰能力强、安装调试方便等特点。 相似文献
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本文提出了霍尔器件的一种新的工作模式,称为单端短路霍尔电流输出模式.理论分析表明,在这种模式下霍尔器件的磁灵敏度将提高一倍.用镓砷与铟锑霍尔器件进行了实验.实验结果与理论满意的一致. 相似文献
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霍尔传感器及其性能优化 总被引:2,自引:0,他引:2
王俊 《电子产品可靠性与环境试验》2008,26(2):10-14
霍尔效应是一种发现、研究和应用都很早的磁电效应.霍尔效应的研究在当今已取得了许多突破性的进展,在科学技术的许多领域都有着广泛的应用.阐述了霍尔传感器的基本工作原理及应用,讨论了霍尔传感器的灵敏度、失调电压、信噪比等重要性能参数,通过研究霍尔片形状和结构对霍尔效应的影响,提出了一些性能优化方法. 相似文献
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介绍了将霍尔传感器用做轨道接近开关的结构、磁路和电路设计方法.该传感器采用铁轨安装方式,用霍尔元件作为敏感元件,将霍尔元件固定于磁路中,通过检测元件输出信号变化,判断列车经过及车厢的位置.该传感器可用来检测由低速到高速运行的列车. 相似文献
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为了研究电场干扰对纵向调制结构光学电压互感器的影响,采用张量分析方法,从电光晶体相对逆介电张量入手,进行了仿真分析和实验验证,并根据光线分离实验结果,设计了光学电场传感器,传感器的幅值误差在2%以内.结果表明,外界干扰电场会导致电光晶体内两传输简正模发生光线分离,使得两束偏振光在检偏器处不能进行有效干涉,进而使得有效输出信号变小;当干扰电压为500V、光斑半径达到0.2mm时,磷酸二氢钾晶体干涉效率引起的误差可以达到0.3%;而当干扰电场强度小于105V/m时,锗酸铋晶体的干涉效率接近于1;干扰电场引起的互感器误差不仅与干扰电场大小有关,还与入射光束半径及传感晶体长度有关;选择具有较大光束半径的光源及减小传感晶体长度可以有效地降低干扰电场的影响.该研究成果将为光学电压互感器的设计提供一定的指导. 相似文献
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A new photolithography technique for 248 nm based on the interference of surface plasmon waves is proposed and demonstrated by using computer simulations.The basic structure consists of surface plasmon polariton(SPP)interference mask and multi-layer film superlens.Using the amplification effect of superlens on evanescent wave,the near field SPP interference pattern is imaged to the far field,and then is exposed on photo resist(PR).The simulation results based on finite difference time domain(FDTD)method show that the full width at half maximum(FWHM)of the interference pattern is about 19 nm when the p-polarization light from 248 nm source is vertically incident to the structure.Meanwhile,the focal depth is 150 nm for negative PR and 60 nm for positive PR,which is much greater than that in usual SPP photolithography. 相似文献
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Richter I. Grunnet-Jepsen A. Takacs J. Solymar L. 《Quantum Electronics, IEEE Journal of》1994,30(7):1645-1650
The generation of spatial K/2 subharmonics is reported for the first time to our knowledge in a photorefractive BGO crystal. The subharmonic instability regions in the applied dc field versus frequency detuning plane were measured for different interbeam angles and different modulations of the interference pattern. The theory presented takes into account both the modulation of the interference pattern and the presence of the fundamental space-charge field. There is good qualitative agreement between theoretical prediction and experimental results 相似文献
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在河南省新乡地区进行了准平坦地形条件下450MHz频段干扰场强的测试,给出了实测干扰场强与有关预测模式的比较结果,并给出距离与50%、10%和1%时间概率所超过干扰场强的统计表达式。 相似文献
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An all fiber magnetic field sensor with peanut-shape structure based on multimode fiber (MMF) is proposed and experimentally demonstrated. The sensing structure and magnetic fluid (MF) are both encapsulated in capillary, and the effective refractive index of MF is affected by surrounding magnetic field strength. The measurement of magnetic field is realized by observing the wavelength drift of interference peak. The transmission spectrum generated by Mach-Zehnder interferometer (MZI) includes core-core mode interference and core-cladding mode interference. Experimental results demonstrate that the core-cladding mode interference is sensitive to magnetic field, and the magnetic field sensitivity is 0.047 8 nm/mT. In addition, two kinds of interference dips are sensitive to temperature, and the sensitivities are 0.060 0 nm/°C and 0.052 6 nm/°C, respectively. So the simultaneous measurement of magnetic field strength and temperature can be achieved based on sensitivity matrix. This work has been supported by the National High Technology Research and Development Program of China (No.2013AA014200), the National Natural Science Foundation of China (No.11444001), and the Municipal Natural Science Foundation of Tianjin (No.14JCYBJC16500). E-mail:13821538563@163.com 相似文献
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极紫外光刻掩模具有特殊的多层膜堆叠的反射式结构,在工艺制造过程中极易产生缺陷,引起多层膜结构变形,从而对掩模反射场产生干扰。这种掩模缺陷是制约极紫外光刻技术发展的难题之一。建立了含有缺陷的极紫外掩模多层膜结构模型,在此基础上采用时域有限差分(FDTD)法分析了缺陷尺寸和缺陷位置对掩模多层膜结构反射场分布的影响。结果表明,多层膜结构反射场受干扰程度是缺陷的高度和宽度综合作用的结果,并且与缺陷结构的平缓程度有关。反射场受干扰程度也与缺陷在多层膜结构内部的高度位置有关,引起多层膜结构靠近底层变形的缺陷对反射场的影响较小,而引起多层膜结构靠近顶层变形的缺陷对反射场有明显的干扰。 相似文献