各类非导电地质样品最佳镀膜方法和最佳镀膜厚度的研究

应用扫描电镜对非导电地质样品进行观察时,首先要在其表面喷镀导电膜。试验表明,扫描电镜图像的质量是同喷镀导电膜的方法和厚度有着密切的关系。根据地质试样的性质与观察目的不同,采取最佳的镀膜技术,才能获得良好的图像质量。本文确定了各类矿物、岩石、矿石及古生物等非导电地质样品的最佳镀膜技术条件。     

各地电地质样品最佳镀膜和最佳镀膜厚度的研究

应用扫描地非导电地质样品进行观察时,首先要在其表面喷镀导电膜。试验表明,扫描电镜图像的质量是同喷镀导电膜的方法和厚度有着密切的关系。根据地质试样的与观察目的不同,采取最佳的镀膜技术,才能获得良好的图像质量,本文确定了各类矿物、岩石、矿石及古生物等非导电地质样品的最佳镀膜技术条件。     

环境扫描电镜对亲水高分子材料的原位观察

20世纪80年代发展起来的环境扫描电镜（environmental seanning eleclron microseope,ESEM）,可直接观察各类非导电材料，而不必对样品表面进行喷镀导电膜，ESEM更为重要的特点是可实现对含水、含油、放气等类样品的原位和动态观察，获得样品自然状态下的真实微观特征，或反应过程中的变化。     

提高红外写入液晶光阀透明电极导电性能方向的研究

介绍了一种改善红外写入液晶光阀半导体透明导电膜导电性能的一种方法。通过对氧化铟掺铟比例的研究，经过大量科学实验，并采用Ｘ光电子能谱仪对两者的比例进行了定量分析，发现在对膜层透过特性影响不大的情况下，两者之间的质量百分比在９０％比１０％左右时，其膜层导电性能有明显提高，从方电阻十几ｋΩ／□降至７３０Ω／□。我们将此缺点制备的ＢａＦ２为基底，在中心波长为１０．６μｍ，处透过率为５６％，方电阻为７３０Ω     

提高EXAC—2000型能谱仪分析准确度的测试条件研究

X光能谱仪在低束流条件下能对Z≥11的所有元素作快速无标样微区定量分析,而且适合于比较粗糙的表面分析,故其应用日益扩大。但能谱分析的准确度较波谱低,故能谱工作者应掌握日常所操作仪器其分析误差最小的测试条件,从而提高分析结果的准确性。本方法是在EXAC—2000/DX系统上试验的,原则上可在各类能谱仪上应用。按本方法所定出的测试条件对一般样品作无标样定量分析,其相对误差通常可在70％以下。     

Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜的X射线光电子能谱的研究

实验表明：Ta／NiFe／FeMn／Ta多层膜的交换耦合场(Hex)要大于Ta／NiFe／Cu／NiFe／FeMn／Ta自旋阀多层膜中的以Hex。为了寻找其原因，用X射线光电子能谱(XPS)研究了Ta(12nm)／NiFe(7nm)，Ta(12nm)／NiFe(7nm))／Cu(4nm)和Ta(12nm)／NiFe(7nm)／Cu(3nm)／NiFe(5nm)3种样品，研究结果表明，前两种样品表面无任何来自下层的元素偏聚；但在第3种样品最上层的NiFe表面上，探测到从下层偏聚上来的Cu原子。我们认为：Cu在NiFe／FeMn层间的存在是Ta／NiFe／Cu／NiFe／FeMn／Ta自旋阀多层膜的Hex低于Ta／NiFe／FeMn／Ta多层膜Hex的一个重要原因。     

应用HUS-5GB真空喷镀仪进行喷镀的改进

前言为在保证观察质量前提下,节约贵重金属、降低实验成本、提高仪器利用率及较好地保存珍贵样品,现报告用铝(铜)代金进行真空喷镀及自制喷镀台的作法。一、以铝(铜)代金进行真空喷镀用纯度为99.99％的铝代替黄金对金龟幼虫触角栓状感器(是不易喷镀、导电性能差的部位)进行真空喷镀。     

电子探针微量元素精确测试方法初探

目的：利用电子探针分析技术较准确地进行样品微量元素定量分析。方法：采用地矿部颁标样，改变分析条件通过标样测标样的方法进行了微量元素定量测定。结果：对于常量元素分析采用分析条件为加速电压15kV，分析电流0．01μA，测量时间10s。量元素分析采用分析条件为加速电压25kV，分析电流为0．1m，测量时间20s。结论：利用电子探针分析微量元素含量，加速电压采用25kV，分析电流0．1m，分析时间应适当延长，这样，可以获得较满意的分析结果。     

Si(111)碳化层中的SiC结晶

为采用HFCVD技术在Si（111）衬底上外延3C－SiC薄层而在Si表面首先进行碳化处理．实验样品用H2稀释的碳化物气氛进行碳化处理，热丝温度约为2000℃，衬底温度在950℃到1100℃之间．用X射线衍射、电子衍射和俄歇能谱等分析手段研究了碳化层的组分及结构，发现碳化层可由合碳硅结晶层、3C－SiC结晶层和富碳的3C－SiC结晶层组成．适当控制碳化条件可以调整3C－SiC结晶层的比例．     

一种简单方便的生物组织导电法

用扫描电镜观察的样品要求表面能导电,惯用的方法是在样品表面蒸涂导电层,对于表面起伏大而又容易变形的生物样品,这种方法效果不太好。近年来采用组织导电技术处理生物样品取得了比较好的效果,但一般对镜体污染大增加了仪器维护的麻烦。我们使用多种导电液处理样品在S—100电镜上面进行比较,觉得用四氯化锡导电液处理方法简单对镜体污染小。方法如下:把待观察样品按常规固定后保存在70％酒精中,把SnCl_4放入75％的酒精溶液中配制成5％的酒精四氯化锡导电液。把保存在酒精中的样品捞放入导电液中适当浸泡取出胶合即可观察。如果经过乙腈干燥后再     

提高红外写入液晶光阀透明电极导电性能方法的研究

介绍了一种改善红外写入液晶光阀半导体透明导电膜导电性能的一种方法。通过对氧化铟掺铟比例的研究，经过大量科学实验，并采用X光电子能谱仪对两者的比例进行了定量分析，发现在对膜层透过特性影响不大的情况下，两者之间的质量百分比在90％比10％左右时，其膜层导电性能有明显提高，从方电阻十几kΩ／□降至730Ω／□。我们将此法制备的以BaF2为基底，在中心波长为10．6μm处透过率为56％，方电阻为730Ω／□的透明导电膜应用在红外写入液晶光阀透明电极上，得到了令人满意的效果。     

非导电样品荷电效应的吸收电流评价方法

在扫描电镜(SEM)中,通过记录和实时处理电子束辐照样品过程中产生的吸收电流Iα,评价非导电样品的荷电效应。对于非导电样品,Iα的绝对值很小,且变化幅度很大,这是电荷在非导电样品表面被捕获、积累和释放过程的直接反映。此外,Iα还可用来评价荷电补偿(改变环境压力、改变成像参数及对样品表面进行导电处理)的效果。     

水泥熟料矿物的扫描电镜能谱定量分析研究

利用扫描电镜进行能谱定量分析时,可使用有标样法和无标样法。这两种方法的准确度不同,前者较高,后者稍低。在我国,能谱定量分析时普遍采用无标样法。这种方法使用无标样定量程序,它是从理论上计算出X射线的强度因子代替纯元素,其特点是无需标样,快速简便,但准确度低。该方法在国际上应用并不太广泛。为了查明无标样法的准确度究竟多少?它与实验条件及被测元素原子序数和含量的关系如何?需要筹集足够数量的标样。提出了一种能谱分析条件下测定标样均匀度和稳定度的方法。通过与同一标样在常规条件下的波谱分     

电子探针试样表面喷碳过程的自动控制

对电子探针试样进行表面喷碳,其厚度一般掌握在200—250A左右,此处还应使标样和未知样取得尽量一致的膜厚(质量厚度)。目前多数实验室采用白瓷片等作模拟样品,蒸镀中凭肉眼的观察比色来掌握控制膜厚。也有少数实验室采用了一些别的方法,如加拿大Alberta大学以干净玻璃片作作模拟样品,通过监测其表面碳膜电阻的变化来掌握控制膜厚。笔者移植了后一方法,异设计出一个简单的控制电路(图1),在本实验室的DV—502高真空蒸镀仪(美)上实现了喷碳过程的自动控制,经一年多的使用,效果满意。电路中Rm即模拟样品,是将一块     

碳膜印制板的技术规范和测试方法

碳膜印制板是在普通单面印制板的基础上加印一层绝缘层,一层碳质导电而制成的。因此,碳膜印制板的技术规范是在ＢＧ４５８８．１,ＧＢ１０２４．４－８８二个规范的基础上增加绝缘层,碳膜导电层的部分技术条件而构成。碳膜印制板已在计算器、电话机、遥控器、电子琴、游戏机等电功率小的电子产品中得到广泛应用,就目前还未形成的行业指导性件《无金属化孔单双面碳膜印制板规范》碳膜部分的技术规范和测试方法的研究,提供给同     

离子束辅助低能碳离子注入工艺原理

离子束辅助低能碳离子注入是在低能含碳离子束轰击样品表面并沉积膜层的同时采用中能离子束辅助轰击注入，它可在低温下将碳离子注入到样品表层足够的深度，其注入深度比动态离子束混合(DIM)增加1～2倍。离子束流实行交替变化，有利于保持较低的样品基体温度，且比恒束流注入的深度有明显增加。它对材料表面改性效果明显优于DIM工艺，离子注入改性后，40Cr钢表面显微硬度HV可提高一倍左右。     

Liq/ITO结构表面与界面的AFM和XPS研究

采用真空蒸发沉积的方法,在覆盖有ITO膜的玻璃基片上沉积一层Liq.利用原子力显微镜(AFM)对制备的Liq/ITO样品表面进行扫描,发现Liq粉末表现为岛状形态,其表面极不平整,存在大量裂缝和空隙,有许多针孔.用X射线光电子能谱(XPS)研究了Liq/ITO紧密接触的表面和界面电子状态.对样品In3d和Sn3d的电子状态分析也证实了ITO表面沉积Liq膜存在裂缝和针孔,这些裂缝和针孔吸附了空气中大量的气体分子;对C1s谱的分析发现,ITO膜表面存在一定的C污染;对N1s谱分析可知,界面处N原子与O、In和Sn原子有相互作用,这将会影响Liq的发光颜色.     

一种提高扫描电子显微镜－能谱空间分辨率的方法

目前,扫描电子显微镜－能谱（ SEM?EDS）联用技术在分析测试领域已得到广泛应用,它可对材料和生物样品的微观表面进行形貌观察,并对样品中所选定的微区内进行元素成分定性定量以及元素分布分析。但是,由于元素的特征X射线能量高,在样品中的出射范围较深,能谱的空间分辨率较差,导致在使用传统制样方法时都不可避免地会受到来自叠加样品特征X射线以及基底材料特征X射线的干扰,从而影响最终实验结果。为了克服能谱空间分辨率不足的问题,本文应用薄片法的原理研制了一种新的装置,将纳米厚度的样品分散在装置的碳膜上,进行能谱分析。通过与传统实验的对比,附加新装置后其能谱空间分辨率较以往常规实验提高了2～4倍。     

（英）天宫二号ZnTe：Cu晶体生长及能谱分析

在微重力条件下生长了ZnTe：Cu晶体,对其进行了光学和能谱分析,在晶锭尾部最大结晶区对其进行了组分分析。对于尾部的轴向分量,在空间样品中Cu的成分均匀性优于地面样品,并且Te/Zn比的样品高于空间样品。尾部空间样品中Cu的径向成分均匀性优于地面样品,且Te偏析更为严重。     

铝衰减膜表面氧化对软X光透过率的影响与修正

对用不同方法制备的软Ｘ光激光实验用的Ａｌ衰减膜样品,用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）结合氩离子束刻蚀进行了组分的表面和深度分布分析,结果表明表面氧化层主要由Ａｌ２Ｏ３组成,氧化达到饱和时的氧化层厚度≈７．５ｎｍ。由于在软Ｘ光波段内,氧的吸收系数比铝大一个多数量级,这一氧化层对软Ｘ光透过率的影响甚大。将ＡＥＳ测试结果作为参数,使用公式Ｉ＝Ｉ０·ｅｘｐ［－μ（Ｅ）·（ρｄ）］对Ｘ光透过强度进行修正。同步辐射软Ｘ光对样品透过率的直接测量表明,对于透过率大于２０％的Ａｌ膜,直接测量结果与按修正公式计算的结果在最大偏差１１％范围内符合。