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固体C_(60)/n-GaN接触的电学性质 总被引:2,自引:0,他引:2
本文通过在GaN衬底上生长固体C60膜制成了C60/n-GaN接触,并对其电学性质作了测量.我们发现该接触是理想因子接近于1的强整流接触异质结.在偏压为±1V时,其整流比高达106.在固定正向偏压条件下,异质结电流是温度倒数的指数函数,通过求激活能得出异质结的有效势垒高度为0.535eV.本文还发现,固体C60/n-GaN样品中C60的电导随着正向偏压的增加而迅速变大.这种现象被认为起因于n-GaN对C60的电子注入. 相似文献
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In0.53Ga0.47As表面钝化及降低界面态密度的方法 总被引:1,自引:1,他引:0
采用PECVD技术,以TEOS为源,对In0.53Ga0.47As材料进行表面钝化,研究了SiO2/In0.53Ga0.47As的界面态,提出降低界面态密度的方法,使其降低到8.5×10^10eV^-1cm^-2。 相似文献
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本文用电化学C-V剖面技术研究了接近器件结构的n-nGa0.5In0.5P/GaAs同型异质结的界面特性,测量了载流子浓度分布,用多项式逐段拟合的方法,计算得到异质结界面电势差VΦ为491meV,界面固定电荷σ为-4.46×1011cm-2,并推算出导带差△Ec为126meV,相应于△Ec=0.28△Eg。 相似文献
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采用深能级瞬态谱仪(DLTS)测定了In0.53Ga0.47As/InP异质结光电二极管的DLTS谱。发现存在一电子陷阱,该陷阱能级位于导带底以下0.44eV处,能级密度为3.10×1013cm-3,电子俘获截面为1.72×10-12cm-2。由于深能级的存在,导致了该器件存在一种新的“暗电流”──“深能级协助隧穿电流”。 相似文献
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在InP衬底上用通常用晶格匹配(y=0.53)和晶格失配(y〉0.53)In0.53Al0.46As/InyGa(1-y)As层结构同时制作p-沟和n-沟增强型异质结绝缘栅场效应晶体管(HIGFET)。获得1μm栅长e型p-沟HIGFET,其阈值电压约0.66V,夹断尖锐,栅二极管开启电压0.9V,室温时非本征跨导〉20mS/mm。相邻的(互补的)n-沟HIGFET也显示e型工作(阈值Vth=0. 相似文献
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借助一新的工艺模拟与异质器件模型用CAD软件──POSES(Poisson-SchroedingerEquationSolver),对以AlGaAs/InGaAs异质结为基础的多种功率PHEMT异质层结构系统(传统、单层与双层平面掺杂)进行了模拟与比较,确定出优化的双平面掺杂AlGaAs/InGaAs功率PHEMT异质结构参数,并结合器件几何结构参数的设定进行器件直流与微波特性的计算,用于指导材料生长与器件制造。采用常规的HEMT工艺进行AlGaAs/InGaAs功率PHEMT的实验研制。对栅长0.8μm、总栅宽1.6mm单胞器件的初步测试结果为:IDss250~450mA/mm;gm0250~320mS/mm;Vp-2.0-2.5V;BVDS5~12V。7GHz下可获得最大1.62W(功率密度1.0W/mm)的功率输出;最大功率附加效率(PAE)达47%。 相似文献
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AlxGa1-xAs/GaAs合金型异质结价带偏移的研究中,采用以平均键能为参考能级的ΔEV理论计算方法,得到ΔEv(x)=0.531x+0.001x^2的理论计算结果。该计算结果与目前的一些实验结果符合较好。 相似文献
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本文报道我们率先研制出的3~5.3μmInxGa1-xAs/AlyGa1-yAs/AlzGa1-zAs非对称台阶量子阱红外探测器的制备和性能.该探测器具有光伏特征,77K温度、±7V外偏压下的500K黑体探测率达到约1.0×1010cm·Hz1/2/W,并且,与1→2子带间跃迁相对应的光电流峰值响应波长可随外偏压在中红外(3~5.3μm)波段作适当调谐.运用平面波展开法,依据样品的阱、垒结构参数,计算了InxGa1-xAs/AlyGa1-yAs/AlzGa1-zAs非对称台阶量子阱1→2子带间跃迁的Sta 相似文献
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用光调制光谱方法研究了逐层腐蚀的GaAS/Ga1-xAlxAs异质结,发现不同工的GaAs复盖层对异质结表面层电子能带有很大影响。由GaAs带间跃迁的Franz-Keleysh效应计算出表面层表面电场随外延层的变薄而增大,并计算出表面费密以级与导带底的距离f=0.27(0.03)eV,通过对Ga1-xAlxAs调制光谱分析,发现表面复盖层对Ga1-xAlxAs层的调制光谱线形有调节作用,不同厚度的 相似文献
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《微纳电子技术》1995,(2)
在InP衬底上用通常的晶格匹配(y=0.53)和晶格失配(y>0.53)In_(0.53)Al_0.48As/In_yGa_(1-y)As层结构同时制作p-沟和n-沟曾强型异质结绝缘栅场效应晶体管(HIGFET)。获得1μm栅长e型p-沟HIGFET,其阈值电压约0.66V,夹断尖锐,栅二极管开启电压0.9V,室温时非本征跨导>20mS/mm。相邻的(互补的)n-小沟HIGFET也显示e型工作(阈值V_th=0.16V),低的漏电,0.9V栅开启电压和高跨导(gm>320mS/mm)。这是首次报道在InP衬底上同时制作具有适合作互补电路特性的p_和n-沟HIGFET。 相似文献
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采用低温生长缓冲层,高温生长GeSi外延层的方法在n型Si衬底上外延生长(i)Ge0.85Si0.15-(p)Si层,以此材料作为吸收区制备成GeSi/Si异质结pin台面光电二极管。其波长范围为0.7-1.55μm,峰值波长位于1.06μm,暗电流密度低达0.033μA/mm^2(-2V),在1.06μm和1.3μm处的响应度分别为1.8A/W(-2V)和0.066A/W(-V)。 相似文献
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AlxGa1-xAs/GaAs合金型异质结价带偏移的研究中,采用以平均键能为参考能级的ΔEv理论计算方法,得到ΔEv(x)=0.531x+0.001x2的理论计算结果.该计算结果与目前的一些实验结果符合较好. 相似文献
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InGaAsP/InP异质结光电三极管的制备 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了n-InP/p-InGaAsP/0-InP结构的异质结光电三极管制作过程,并获得了对1.3μm的入射光,光增益达220,用带尾纤的GaAs/GaAlAs发光管测量,光学增益达1470。 相似文献