强流脉冲离子束辐照对DZ4合金微观结构的影响

利用成分为Cn+(30 mol%)和H+(70 mol%),加速电压为250 kV,脉冲宽度为70 ns,束流密度为100 A/cm2的强流脉冲离子束(high intensity pulsed ion beam-HIPIB)辐照DZ4镍基高温合金,辐照次数分别为5、10和15次.利用透射电子显微镜(TEM)分析辐照前后合金表层微观结构的变化.结果显示,与原始样品比较,辐照不同次数后的样品最表面都产生了一层晶粒度为5～10 nm的多晶层,它是由DZ4合金中各元素的单质相组成的.在距表面一定深度范围内,不存在γ'相;随着深度的增加,γ'相的含量逐渐增加.     

A Study on the Tuned Bias of Substrate in an Inductively-coupled Plasma Source

1. IntroductionRadio-frequency (rf) capacitively-coupled plasma(CCP) source has been successfully used in manyfields such as film deposition, etching, surfaCe modification. However, one of the disadvantages of thisplasma discharge is the lack of independent control over plasma generation and bombarding energy of ion upon the processed materials surface [1].To achieve independent control over the above twoprocesses) researchers have put forth different techniques. A variable inductor was plac…     

离子束混合制备非晶Sm-Fe-Zr合金薄膜

采用离子束混合技术制备非晶Sm—Fe－Zr合金薄膜，在Sin的含量为x＝400，300，200m／g的Sm—Fe多层薄膜中，注入能量为60KeV，剂量为1×1017ion／cm2的Zr＋，研究非晶形成条件及合金薄膜的磁性能．实验发现：三种成分配比的样品在Zr＋注入后磁性能皆发生明显的变化．X＝400mg／g样品没有形成非晶，其主相为SmFe5；x＝300，200mg／g样品形成非晶，且x＝200mg／g样品晶化后形成一个面心结构未知相和α—Fe相     

B3N3H6微波等离子体增强化学气相沉积B—N薄膜

采用Ｂ３Ｎ３Ｈ６－Ｎ２混合气体为原料，余辉微波等离子体增强化学气相沉积ＢＮ薄膜，漫反射富氏变换红外光谱分析表明，在５５０℃沉积温度下，１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ基片上获得了低含氢量的ｃ－ＢＮ和少量ｈ－ＢＮ相的混合薄膜。薄膜Ｋｎｏｏｐ硬度值为２０．８ＧＰａ。划痕试验法测定薄膜的附着性，临界载荷为８．１Ｎ。     

HL-1中MHD稳定性的初步实验

本文利用傅里叶分析的方法和相关分析的方法测到了MHD磁扰动信号的极向模数m=1、2、3、4和环向模数n。研究了HL-1装置等离子体MHD不稳定特征和抑制不稳定性的若干方法及结果。对于放电起始阶段的MHD特征对放电全过程的影响进行了分析。认为HL-1装置的破裂不稳定性分为三种:内破裂、小破裂、大破裂。内破裂的出现是HL-1进入较好的运行状态的一个标志。最后,,给出了HL-1装置的稳定运行区域。     

采用不同载气混合B3N3H6原料制备B—N薄膜

采用Ｎ２，Ｈ２和Ａｒ三种载气混合的Ｂ３Ｎ３Ｈ６原料，余辉微波等离子体增强化学气相沉积ＢＮ薄膜。通过漫反射富氏变换红外光谱，Ｋｎｏｏｐ硬度和附着性划痕试验分析薄膜的结构，成分和性能。结果表明，Ｎ２和Ｈ２混合的Ｂ３Ｎ３Ｈ６原料制备的薄膜具有ｃ－ＢＮ和ｈ－ＢＮ双相组织，Ａｒ混合的Ｂ３Ｎ３Ｈ６原料具有ｈ－ＢＮ单相组织。     

工程陶瓷等离子切割基础研究

在分析采用激光，水射流，电火花线切割等方法切割工程陶瓷技术的现状与特点的基础上，提出采用附加阳极等离子切割工程陶瓷的基本思想，并通过实验证明此方法的可行性及其独特的优点，具有良好的应用前景。     

碳含量对碳氮化硅薄膜化学结构和力学性能的影响

利用微波电子回旋共振（MW-ECR）等离子体增强非平衡磁控溅射法制备了碳氮化硅（SiCN）薄膜。研究结果表明，碳含量对薄膜化学结构、力学性能有很大影响。傅里叶变换红外光谱（FT-IR）和X射线光电子能谱（XPS）表征显示，随着碳靶溅射偏压由-450V提高到-650V，薄膜中碳含量由19．0％增加到27．1％，sp^3C-N键含量增多，薄膜生长速率由3．83nm／min提高到5．83nm／min，硬度在-600V时达到最大值25．36GPa。上述结果表明，提高碳靶溅射偏压，可以提高薄膜含碳量，得到性能较好的SiCN薄膜。     

强流脉冲离子束辐照对DZ4镍基高温合金表面结构和性能的影响

利用强流脉冲离子束(HIPIB)辐照DZ4镍基高温合金表面,离子束的加速电压为250 kV,脉冲宽度为70ns,束流密度为100A/cm2,脉冲次数分别为2,5,10和15次.根据扫描电镜分析得出,脉冲次数少时(2次和5次)离子束辐照后DZ4合金的表面出现熔坑,随着辐照次数的增加,表面的熔坑数量减少,多次脉冲(10次和15次)处理后,表面熔坑基本消失,表面变得平整;并且在近表层大约1μm～2 μm范围内晶粒细化.X射线衍射分析显示离子束处理后表面层存在压应力.HIPIB辐照处理使DZ4合金的表面在200 μm的范围内硬度有提高,同时其耐腐蚀和耐磨性能有明显提高.     

等离子体技术在碳氮膜制备中的应用

β-C3N4是Cohen等人从理论上预言的一种可能比金刚石更硬的物质,含有β-C3N4的碳氮膜具有优异的电学、光学和机械特性,在很多领域有应用前景.人们已经应用多种方法进行碳氮膜的制备.本文将对等离子体技术在碳氮膜制备中的应用进行综述,并在成膜速率、成膜质量等方面,对以往工作成果进行论述;最后将讨论沉积过程中几个参量对碳氮膜沉积速率、膜结构等的影响.