准静态C-V法测量硅表面态密度分布及数据处理

表面态问题的研究是半导体材料、器件以及集成电路工艺等研究中的一个重要议题,对表面态在禁带中的分布规律进行了研究.采用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)方法在p型硅衬底上沉积了低介电常数绝缘介质的MOS结构;对该样品进行了高频和准静态C-V测试;在给出表面态分析计算的原理基础上,用C语言编写数值积分程序对所采集数据进行了数据处理分析,计算得到了表面态密度分布情况,给出了分布曲线.结果表明,该样品p-Si材料的禁带中表面态存在比较广的连续分布,在靠近价带一侧呈现两个峰值.     

α-C:F薄膜的键合结构与电子极化研究

利用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术,通过改变微波输入功率的方法,沉积了具有不同有不同结构特征的氟化非晶碳（α-C:F薄膜。随着微波功率从140W升高到560W,薄膜的光频介电常数从2．26降至1．68,红外光谱（FT－IR）分析表明薄膜的刍结构由以CF基团为主变化到CF与CF2基团共存。由于CF2基团的极化比CF基团弱,薄膜中CF2基团的增加可能是导致光频介电常数减小的因素。     

Plasma Diagnosis for Microwave ECR Plasma Enhanced Sputtering Deposition of DLC Films

Application of the Langmuir probe in plasma circumstance for deposition of diamond-like carbon(DLC) thin films usually faces the problem of rapid failure of the probe due to surface insulative coating.In this paper,we circumvent the problem by using the floating harmonic probe technique.In the real circumstance of DLC film deposition,the floating harmonic probe worked reliably over 3 hours,correctly indicating the ion density and electron temperature.The technique was practically used to measure the ion density and electron temperature in DLC film deposition processes using the microwave ECR plasma enhanced sputtering.Combined with the Raman spectroscopic characterization of the films,the conditions for deposition of DLC films were investigated.     

前驱气体CH4,N2的流量比对CHx,膜Raman谱的影响

沉积在Ｓｉ（１００）基片上的ＣＮｘ膜是用微波等离子体化学气相沉积法（ＭＷＰＣＶＤ）制备的，本文着重探讨了ＣＨ４，Ｎ２的流量比对ＣＮｘ膜的Ｒａｍａｎ谱的影响，并采用Ｘ－射线光电子能谱（ＸＰＳ）方法分析了ＣＮｘ膜的化学状态。     

Enhancing surface adhesion of polytetrafluoroethylene induced by two-step in-situ treatment with radiofrequency capacitively coupled Ar/Ar+CH4+NH3 plasma

Although some progress in plasma modification of the polytetrafluoroethylene(PTFE) surface has been made recently, its adhesion strength still needs to be further improved. In this work, the surface of a PTFE sample was treated with a two-step in-situ method. Firstly, the PTFE surface was treated with capacitively coupled Ar plasma to improve its mechanical interlocking performance; then, Ar+NH₃+CH₄ plasma was used to deposit an a-CNx:H cross-linking layer on the PTFE surfa...     

多弧法沉积Ti（C,N）膜中的CN相

在高速钢基片和〈１００〉单晶硅片上，用多弧法在Ｃ２Ｈ２，Ｎ２，Ａｒ的气氛中电弧蒸发Ｔｉ靶来制备沉积Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）膜。总气压在１．２Ｐａ内，起始镀膜温度为２６０℃。Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）膜的晶格取向以除了〈１１１〉，〈２００〉，〈２２０〉外，还出现一些新的衍射峰，配合ＸＰＳ成份分析，本文认为Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）膜中有ＣＮ结构相存在。随着Ｃ２Ｈ２／Ｎ２流量比的增加，膜中增加了ＴｉＣ、ＣＮ结构超硬相和石墨相，从而导致     

众包系统中基于双向拍卖的诚实多任务分配机制

现有的众包任务分配模型大都假设仅存在一个任务请求者,难以满足存在多个任务请求者的应用场景.因此,该文假设众包系统中存在多个任务请求者,且每个任务请求者或工人在每轮任务分配中可以请求或完成多个任务,并在此基础上设计了适用于众包系统的双向拍卖机制,以激励众包任务被高效地完成.首先,将对多个任务感兴趣的工人抽象为多个虚拟工人,以低报价优先匹配原则,设计了一个高效任务分配机制;根据统一定价原则,为其设计了诚实的定价机制.然后,通过理论分析,证明了所设计的机制可以满足诚实性、个体理性以及收支平衡这3项经济学特性.最后,通过仿真实验结果验证了所设计机制的有效性.     

基于激光传感器的无人驾驶汽车动态障碍物检测及表示方法

针对激光传感器在室外环境中检测动态障碍物所遇到的数据处理存在延时、检测结果准确率不高等问题,提出了一种基于3维激光传感器Velodyne和四线激光传感器Ibeo信息融合的动态障碍物检测及表示方法.本方法通过分析处理Velodyne激光数据对无人驾驶汽车四周的动态障碍物进行检测跟踪,对于无人驾驶汽车前方准确性要求较高的扇形区域,采用置信距离理论融合Velodyne激光数据处理信息和Ibeo输出的运动状态信息,较大地提高了对障碍物运动状态的检测准确率,然后根据融合得到的结果对运动障碍物的位置进行延时修正,最终在障碍物占用栅格图上将动态障碍物所占据位置与静态障碍物所占据位置区别标示.本方法不仅可以在室外环境中准确地检测出障碍物运动信息,而且可以消除传感器数据处理延时所带来的动态障碍物位置偏差,更准确地将环境中的动静态障碍物信息用障碍物占用栅格图进行描述.该种方法应用在了自主研发的无人驾驶汽车平台上,大量的实验以及它们在"中国智能车未来挑战赛"中的优异表现证明该方法具备可靠性和准确性.     

沉积温度对a-C:F薄膜结构与热稳定性的影响

在不同的沉积温度下，利用CHF3和C2H2为气体源，在微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)系统中制备了氟化非晶碳(-C：F)薄膜，为了研究其热稳定性，薄膜在500℃的真空中作了退火处理。测量了退火前后其电学、光学性质的变化，使用FFIR、Raman、XPS方法考察了其结构随沉积温度的变化，分析了性质同结构之间的关联。结果表明，在高的沉积温度下制备的薄膜中的F／C比较低，CF2和CF3键成分较少而以CF键成分为主，其交联程度高，因而具有较好的热稳定性。