钢管混凝土拱桥设计与发展

本文主要论述钢管混凝土拱桥构造，设计特点，内力计算方法和施工技术，并提出目前存在的问题及未来的发展方向。     

高钒高速钢中碳化钒的微细结构分析

利用扫描电镜、透射电镜和X射线能量分散谱仪对高钒高速钢中合金碳化物——碳化钒的精细结构及微区成分进行分析.结果发现：碳化钒中由于碳的有序缺位形成了V6C5简单六方超点阵结构;碳化钒内有大量纳米微粒子存在;微粒子处Cr、Mo和Fe元素含量较高,尤其是Mo元素,可高达20%（质量分数）以上.     

与地域文化相融合的溪流景观设计

从地域文化角度出发,分析了影响溪流景观地域性特色的因素,探讨了基于场地自然特征、人文特征、周边环境彰显溪流景观地域文化的设计方法,从而营造独具地域特色的溪流景观。     

催化反应对低磨料浓度化学机械平坦化的影响

通过低磨料浓度下催化反应对铜膜抛光速率的影响,证实了纳米SiO2胶体作为催化反应物可以极大地提高铜膜表面的化学反应速率。通过浸泡在不同磨料浓度抛光液中的铜电极表面腐蚀电位和腐蚀电流数值,进一步证实了催化反应能够加速凹处钝化膜的生成,并确定了在静态腐蚀条件下催化反应速率转换临界点所对应的纳米SiO2溶胶浓度为0.1vol%和1vol%。根据催化反应对铜晶圆各平坦化参数的影响,确定了低磨料CMP的最佳纳米SiO2溶胶浓度为0.3vol%,此时铜晶圆的抛光速率、台阶消除量、平坦化效率、碟形坑高度和腐蚀坑高度分别为535nm/min、299nm、56%、103nm和19nm。     

大分子螯合剂在低压力低磨料条件下铜膜的化学机械抛光中的应用

The mechanism of the FA/O chelating agent in the process of chemical mechanical polishing （CMP） is introduced. CMP is carried on a φ300 mm copper film. The higher polishing rate and lower surface roughness are acquired due to the action of an FA/O chelating agent with an extremely strong chelating ability under the condition of low pressure and low abrasive concentration during the CMP process. According to the results of several kinds of additive interaction curves when the pressure is 13.78 kPa, flow rate is 150 mL/min, and the rotating speed is 55/60 rpm, it can be demonstrated that the FA/O chelating agent plays important role during the CMP process.     

长江口泥沙絮凝体的现场显微观测

本文根据现场测试,通过现场新鲜水样进行的显微摄影,测得长江口不同区域絮凝体的分布、形状、结构和尺寸.并分析了盐度分布和潮汐现象对泥沙絮凝现象的影响.     

炼油厂拔头油液相催化氧化副产物中丙酮与乙酸甲酯的分离

<正>随着石油化工迅速发展,我国醋酸生产原料得到改变。用炼油厂副产物拔头油(C_4～C_7)为原料,进行液相催化氧化生产醋酸和丙酸的工业化试验在几年前就已开始了。液法反应较为简单,但反应产物十分复杂。分离系统庞杂。如若分门别类,从产物中取出国民经济中极需的产品,则兴建万吨以上规模的醋酸车间的可能性就更大。     

铜互连制程中酸碱性抛光液的平坦化效果评估

We observed and analyzed the acid and HEBUT alkaline of Cu chemical mechanical polishing(CMP)slurry to evaluate their effects. Material analysis has shown that the planarity surfaces and the removal rate of alkaline slurry are better than the acid slurry during metal CMP processes. The global surface roughness and the small-scale surface roughness by 1010 m2 of copper film polished by the SVTC slurry are 1.127 nm and2.49 nm. However, it is found that the surface roughnesses of copper films polished by the HEBUT slurry are 0.728 nm and 0.215 nm. All other things being equal, the remaining step heights of copper films polished by the SVTC slurry and HEBUT slurry are respectively 150 nm and 50 nm. At the end of the polishing process, the dishing heights of the HEBUT slurry and the SVTC slurry are approximately both 30 nm, the erosion heights of the HEBUT slurry and the SVTC slurry are approximately both 20 nm. The surface states of the copper film after CMP are tested,and the AFM results of two samples are obviously seen. The surface polished by SVTC slurry shows many spikes.This indicates that the HEBUT alkaline slurry is promising for inter-level dielectric(ILD) applications in ultra large-scale integrated circuits(ULSI) technology.     

海水淡化用空心锥喷嘴喷淋性能理论及实验研究

设计开发一种具有高通量、低流阻特征的空心锥喷嘴,并通过理论与实验方法研究空心锥喷嘴的喷淋性能,基于准自由涡理论建立空心锥喷嘴内部流体流动的数学模型,阐明流量系数、喷淋锥角、喷嘴流量与喷嘴结构参数之间的定量关系,并利用多效蒸馏海水淡化喷淋实验台对理论计算结果进行实验测试和验证。研究结果表明:正常工作状态下喷嘴流量系数、喷淋锥角、喷淋流量等参数理论值与测量值之间的误差小于5%,验证了设计模型的准确性。同时根据实验测试数据,拟合得到该类型空心锥喷嘴喷淋锥角与雷诺数之间的经验公式,可为蒸馏海水淡化用大流量空心锥喷嘴的结构设计、工艺选型提供理论指导和数据支持。     

渗碳方法对滚珠丝杠轴组织与性能的影响

对含0.18%C、1.21%Mn和1.06%Cr(质量分数)的16MnCr5钢滚珠丝杠轴分别于930℃进行了以氮-甲醇作介质的气体渗碳和以乙炔作介质的真空渗碳。渗碳后分别油淬和气淬,并180℃回火。检测了渗碳层和基体的微观组织、硬度以及至表面以下550 HV1处的深度。结果表明:采用两种方法渗碳随后淬火和低温回火的滚珠丝杠轴渗层组织均为细小的高碳马氏体和少量残留奥氏体,表面硬度高于700 HV1;气体渗碳层有12～20μm深的内氧化层,真空渗碳层基本没有内氧化;与经气体渗碳的滚珠丝杠轴相比,真空渗碳的丝杠轴基体含有少量铁素体,导致其硬度较低,外圆面、滚道和凸缘等部位的硬化层更均匀。