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提出一种新型硅无掩模腐蚀技术,利用设计一块掩模和进行一次常规有掩蚀之后的无掩模腐蚀工艺,可制作多层次的硅微机械结构,结构层数原则上不受限制,各层次的位置和相应深度方便可控。基于该技术,给出了制作的几例多层力学量传感器结构结果。该技术将可望广泛应用于半导体微机械传感器和执行器中。 相似文献
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本文报道了一种用无掩模腐蚀技术加工对称梁岛结构的微机械加工技术。根据硅台阶在KOH无掩模腐下形状和尺寸的变化规律,可以设计制造出一般掩模腐蚀难以形成的微机械对称当今岛结构。由于该技术工艺简单,易于控制,为制作对称梁岛结构的硅 速度传感器提供了新的加工手段。 相似文献
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本文介绍了一种利用液晶显示(LCD)实时掩模制作任意形状微结构的新技术,并又阐述了该技术的原理和设计方法。基于部分相干成像理论,仿真了制造微轴锥体和锯齿形光栅的过程。在实验中使用彩色LCD作为实时掩模,成功地用LCD实时掩模技术制作出微轴锥体和锯齿形光栅。实验中采用胰蛋白酶刻蚀技术将三维外形结构刻蚀在全彩色的感光银盐明胶片上,所得到的锯齿形光栅的节距为46.26μm,刻蚀深度为0.902μm;轴锥体的直径为l18.7μm,蚀刻深度为1.332μm。 相似文献
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一、前言众所周知,在掩模制造技术中,常规的光学方法制作主掩模流程如图且(a)所示,制作一块主掩模需用版材两块。电子束制作主掩模的流程如图1(b)所示,制作一块主掩模只用版材一块。比较图亚(a)和(b),可清楚地看到,(a)的制作流程长,费时且费料,(b)的制作流程短,节省材料,降低成本。凶!主掩模制作流程图随着集成电路规模的不断增大,芯片面积越来越大,有些已超出了精缩机的视场范围,精缩机的视场是100mmX100mm,用光学方法制作主掩模已不能完全满足用户的需要。由于以上种种原因,研究开发采用电子束设备(简称*B… 相似文献
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针对玻璃微流控芯片制作中普遍存在的成本高、加工周期长等问题,提出了一种基于湿法腐蚀技术的低成本、实用化制作方法。该方法以商用显微载玻片作为基底材料,采用普通负性光刻胶RFJ-220为腐蚀掩模,通过优化光刻及湿法腐蚀工艺,可得到深度大于40μm(最深可达110μm),侧向钻蚀比为1.25:1,表面粗糙度小于5.2nm的微沟道。重点解决了光刻胶与基底之间的粘附性问题,并分析了腐蚀液的配比及腐蚀方式等对沟道形貌的影响。整个制作工艺过程简单,成本低,稳定性好,可广泛应用于玻璃微流控芯片的制作中。 相似文献
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随着器件特征尺寸的不断减小,传统光刻技术的加工分辨率受限于衍射极限已接近使用化技术的理论极限且成本过高。无掩模光刻技术是解决掩模价格不断攀升而引起成本过高的一种潜在方案,以成本低、灵活性高、制作周期短的特点在微纳加工、掩模直写、小批量集成电路的制作等方面有着广泛的应用。基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术在提高分辨率和产出率方面取得了一定的进展,理论和实验上均取得了较好的效果。详细归纳介绍了基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术的原理、特点以及研究进展。 相似文献
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研制了一种钽吸收体图形的 x 射线掩模。为了制作钽吸收体图形,采用了反应离子刻蚀全干式工艺,这样不仅使得亚微米图形成形极为精确,而且简化了掩模制造过程。精确地控制好射频溅射时的氩气压,使钽膜的应力保持在±10kg/mm~2以内。在制作吸收体图形时,采用中间体 SiO_2层作为腐蚀掩蔽层,用反应溅射腐蚀的方法得到了高于10的 Ta/PMMA 腐蚀选择比,获得了高反差的亚微米 x 射线掩模,最小图形宽度为0.2μm、最大高宽比大于3。 相似文献
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正 1.引言 近几年来由于约瑟夫逊隧道结在许多方面得到应用,特别是在新一代超级电子计算机上得到了应用,所以人们对制作小面积隧道结的技术产生了浓厚的兴趣。制作软金属超导隧道结,以IBM为代表已形成一套完整的工艺。但要用他们的办法重复地制作出实用的隧道结,必须有高级的专用设备和丰富的技术积累。一般单位在短期内是难以达到这样的技术水平的。1982年Gundlach(西德马克斯-普朗克学会)发表的文章仍在使用刀片制作的金属掩模。我们也曾经使用过这种掩模,但是用一般形式的金属掩模制作隧道结时,在氧化层势垒形成以后,必须打开镀膜机的钟罩,以便转换掩模制作上电极。这样氧化层势垒就容易受到大气污染。 为了克服这一缺点,我们用刀片拼装成的悬挂金属掩模来制作隧道结。这一技术具 相似文献
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目前看来,193nm与x射线光刻技术都很有希望应用到0.13μm及0.13μm以下的集成电路工业中去,而掩模制作对这两种光刻技术而言是非常重要的。本文对193nm光学掩模与x射线掩模制造技术进行了对比分析。 相似文献
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一、引言最近,气体等离子体被用于大规模集成电路制片工艺中,其实用性已有许多报导,另外,在照相制版工艺使用的光掩模的制作上也采用气体等离子体,并研究了把工艺的一部分干式化。本报告发表了在使用气体等离子体制作掩模工艺中(尤其是关于图形尺寸的精度和图形缺陷发生率、其曝光条件以及腐蚀条件的依赖关系)的研究结果。 相似文献
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采用金属有机化学气相沉积方法在无掩模的直径为400nm的圆柱Si(100)图形衬底上外延生长了GaAs薄膜。图形衬底采用纳米压印技术及反应离子刻蚀技术制作而成。运用两步法生长工艺在此图形衬底上制备了厚度为1.8μm的GaAs外延层。GaAs的晶体质量通过腐蚀坑密度和透射电镜表征。图形衬底上的GaAs外延层表面腐蚀坑密度约1×107 cm-2,比平面衬底上降低了两个数量级。透射电镜观测显示大部分产生于GaAs/Si异质界面的穿透位错被阻挡在圆柱顶部附近。 相似文献