功率MOSFET反向特性的分析模拟

本文对功率MOSFET的反向特性进行了模拟，着重分析了N沟功率MOSFET体内集成二极管的独特的作用，并对P沟器件在特性模拟时由于PSPICE模型参数的限制而表现出来的误差进行了分析，提出了改善措施，并得到了与实际相符合的结论．     

一种基于能量对称度参数的实时基音检测方法

提出了一种基于能量对称度(ES)参数的基音检测方法.先通过波峰检测和对称度检测粗略估计语音的基音，再根据ES参数得到最佳的语音基音。实验证明此方法不仅具有实时性而且具有很高的准确性，而且不存在延时问题．是一种适合于单片机实现的语音信号处理方法。     

基于ADASYN与AdaBoostSVM相结合的不平衡分类算法

对于平衡数据集支持向量机(support vector machine,SVM)通常具有很好的分类性能和泛化能力,然而对于不平衡数据集,SVM只能得到次优结果,针对该问题提出了一种基于SVM的AS-Ada Boost SVM分类算法.首先,通过使用ADASYN采样,提高少类样本在边界区域的密度;然后,使用基于径向基核支持向量机(radial basis function kernel mapping support vector machine,RBFSVM)模型弱分类器的Ada Boost SVM算法训练得到决策分类器.通过将该算法在各种不平衡数据集上的测试结果与单纯运用ADASYN技术、Ada Boost SVM、SMOTEBoost等其他分类器进行比较,验证了该算法的有效性和鲁棒性.     

一种基于视觉特性的仿生图像增强算法

常见的基于人类视觉特性的图像增强算法由于是同时完成动态范围压缩和对比度增强,导致增强图像的整体对比度不高、边缘部分效果不佳.通过分析人类视觉系统的全局和局部自适应调节原理及人眼视网膜神经节细胞感受野的传输特性,提出一种仿生图像增强算法.为适应人类视觉系统对光强的主观感觉特性,对图像作全局亮度对数变换;并利用人眼的主观亮度感觉与实际光强的对数呈局部线性关系的特性,采用视网膜神经元感受野三高斯模型来调整亮度图像的局部对比度;最后利用线性变换恢复图像的彩色信息.实验结果表明,该算法的增强效果良好,特别是对于图像边界处,既能很好地增强边缘对比,又可有效地提升区域亮度对比和亮度梯度信息.     

双权值网络在电源管理中的应用研究

本文阐述了一种基于双权值神经网络的数据拟合学习算法,并在此基础上提出一种将其应用于系统电源管理的新算法.双权值神经网络通过学习系统中的历史空闲段长度,对未来将产生的空闲段长度进行预测,使得系统能够根据预测结果自动切换其运行的状态,从而达到降低功耗的目的.实验证明:较传统的电源管理算法,本算法能进一步提高系统的正确关断率、降低系统在空闲时段的功耗.     

基于流形距离的半监督判别分析

大量无类别标签的数据具有对分类有用的信息,有效地利用这些信息来提高分类精确度,是半监督分类研究的主要内容.提出了一种基于流形距离的半监督判别分析(semi-supervised discriminant analysis based on manifold distance,简称SSDA)算法,通过定义的流形距离,能够选择位于流形上的数据点的同类近邻点、异类近邻点以及全局近邻点,并依据流形距离定义数据点与其各近邻点之间的相似度,利用这种相似度度量构造算法的目标函数.通过在ORL,YALE人脸数据库上的实验表明,与现有算法相比,数据集通过该算法降维后,能够使基于距离的识别算法具有更高的分类精确度.同时,为了解决非线性降维问题,提出了Kernel SSDA,同样通过实验验证了算法的有效性.     

具有期望容错域的前向掩蔽联想记忆模型的设计方法

联想记忆的综合问题是目前没有很好解决的难题.文中用作者提出的通用前馈网络和排序学习算法,提出了一种设计具有期望容错域的前向掩蔽联想记忆模型的方法.该方法一般性地解决了信息空间上联想记忆的综合难题,使设计出的联想记忆模型具有任意期望的记忆样本容错域.     

提高电子系统设计自动化的一种方法

随着技术的进步,电子系统的设计对自动化程度的要求越来越高.然而将自己设计的半定制电路芯片加入到PCB板的设计中,仍是一件十分繁琐的工作.针对这一问题提出了一种解决方法,大大减少了工作量,提高了效率,从而对缩短电子系统设计周期、提高设计自动化程度起到了积极作用.     

基于神经网络的集成电路生产过程建模与优化

以提高半导体生产线的成品率为目标,利用神经网络对半导体芯片生产过程进行了建 模和优化.首先使用神经网络方法建立模型,确定生产线上工艺参数和成品率之间的映射关系, 构造多维映射函数曲面;随后对多维映射函数曲面进行搜索,搜索成品率最高的最优点,据此确 定工艺参数的规范值;最后,根据优化后的工艺参数规范进行实际生产.采用这种优化建议,半 导体生产线的平均成品率由51.7%提高到了57.5%.