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1.
硅基光子集成平台因其高集成度、CMOS工艺兼容性等特点在光通信领域受到了广泛的关注,而电光调制器作为光通信系统中最为重要的器件之一,承担着将电信号加载至光信号上的关键作用,为打破硅基调制器的性能限制,可利用硅和铌酸锂的大面积键合技术以及铌酸锂低损耗波导刻蚀技术实现高性能硅和铌酸锂异质集成薄膜电光调制器,目前该类调制器的性能可达半波电压3 V,3 dB电光带宽超过70 GHz,插入损耗小于1.8 dB, 消光比大于40 dB。文中对比了硅和铌酸锂异质集成调制器的研究现状并介绍了该异质集成薄膜调制器的结构设计与工艺实现方法。 相似文献
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本文介绍了欧洲碳排放发展的情况,并简要概述了中国铝行业碳排放现状、实行碳排放的必要性及对国家整体目标达成的重要性,最后对铝行业节能减排提出了几点思考。近年来,中国应对全球气候问题成果显著,2018年全国碳排放强度比2005年下降45.8%,提前达到了2020年碳排放强度,比2005年下降40%~45%的预定目标。近期,中国再次承诺到2030年左右二氧化碳排放总量达到峰值,2060年前实现碳中和。 相似文献
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为研究微硅粉液体地膜的降解性,对比了两种交联膜的降解失重率,结构形貌和对土壤微量元素的影响,结果表明:预交联微硅粉液体地膜(预交联地膜,下同)在降解过程中具有良好的耐久性,不产生微孔结构,而直接交联微硅粉液体地膜(直接交联地膜,下同)耐久性较差,两种交联地膜在光照条件下具有较低的失重率,在实际应用中,微硅粉能够提高土壤中Si、K、Ca、Mg的含量,有助于植物生长。 相似文献
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采用单因素实验法研究PTFE浓度对电厂冷却水管常用的20#钢表面Ni-Mo-P/PTFE镀层的形貌和防垢性能的影响.结果表明,不同PTFE浓度下复合镀层的形貌特征既存在相似之处也存在差异.在5~20 mL/L的范围内随着PTFE浓度增加,复合镀层平整度提高,生垢速率减小,主要归因于复合镀层中PTFE质量分数逐渐升高.但当PTFE浓度超过20 mL/L,随着PTFE浓度继续增加,复合镀层平整度和防垢性能有所下降.PTFE浓度为20 mL/L时,该复合镀层表面较为平整,PTFE质量分数达到3.19%,具有相对较好的防垢性能. 相似文献