基于分布构件的软件性能工程

伴随分布构建技术的不断普及,其部署过程及动态重构变成软件的生命周期中重要的组成部分,影响着软件的性能。SPE作为传统的技术对于软件性能的追溯与跟踪,在部署过程与动态重构的阶段会遭到中断,所以在分布构件技术中不能适用。文章基于分布构建的软件性能存在的问题,提出分布构件的软件性能工程技术,让SPE技术能够在构件组装与部署及动态重构中能够有效应用。     

基于蛋白质交联的氧化酶特性与应用

蛋白质交联属于蛋白质改性修饰的一部分,是重组食品与新型食品制造的重要内容。与化学交联、物理交联相比,酶法交联因其反应条件温和、不产生副产物、交联效果好等特点,成为最为容易接受的一种蛋白质交联方式。除谷氨酰胺转胺酶外,一些氧化酶也被证明能够在蛋白质分子间形成共价键而形成交联。介绍了目前应用较多的酚氧化酶(酪氨酸酶、漆酶)、过氧化物酶以及赖氨酰氧化酶的酶学性质、交联机制等,并对其在食品蛋白质交联中研究现状以及潜在应用进行总结与展望。     

基于遗传算法的桥式起重机故障诊断研究

分析了桥式起重机的常见故障和支持向量机的基本理论;讨论了遗传算法的基本理论,并且分析了基于遗传算法桥式起重机故障诊断的基本流程;进行了桥式起重机的故障诊断,结果表明该方法具有较高的故障诊断能力。     

等离子体装置器壁的直流和高频辉光放电清洗

本文描述直流辉光放电、10兆周高频加直流辉光放电原理和实验方法。给出了几种工作气体(H_2,He,Ar,N_2和空气)在30升圆筒形真空室中进行直流辉光放电、直流加高频辉光放电时起辉和灭辉气压随外加电压变化实验结果。实验表明,对于几百伏外加电压下H_2,He,Ar气可在10~(-1)帕气压下起辉;可以维持到10~(-2)帕气压才灭辉。几百伏直流电压附加10兆周高频电源可使起辉气压和灭辉气压下降几倍。空气和氮气比氢更易起辉。对HT-6M托卡马克真空室进行了几十小时常温和100℃中温烘烤条件下辉光放电清洗效果比较,表明边烘烤边辉光放电对水的清洗作用更好。实验由四极质谱仪监测,并用真空传输装置将样品传送到俄歇谱仪中分析放电前后表面成分的变化。对放电有关问题进行了讨论。     

流量比对等离子体基团分布和薄膜结构的影响

使用光强标定的发射光谱(AOES)测量了CHF3／C6H6混合气体的微波电子回旋共振(ECR)放电等离子体中基团的分布状态。实验发现随着CHF3流量的增加，成膜基团CF、CF2、CH等的相对密度增大，而刻蚀基团F的密度也会增加，从而使得a—C：F薄膜的沉积速率降低。同时红外吸收谱(IR)分析表明，在高CHF3流量下沉积的a—C：F薄膜中含有更高的C—F键成分。可见在a—C：F薄膜的制备中CHF3／(CHF3 C6H6)流量比是重要的控制参量。     

真空壁的辉光放电清洗

实验证实了氢中直流辉光放电与室壁中等温度烘烤对清除真空容器表面碳的良好效果,对除去表面氧也有一定效果。探索了放电电流、气压、表面状况等各种因素对结果的影响。讨论了辉光放电时表面发生的解吸(物理的、化学的)与吸附等过程。     

聚乙烯醇和海藻酸钠膜的接触角与表面电阻率关联性的研究

上流辉光氧等离子体对聚乙烯醇，海藻酸钠等有机高分子膜作表面改性处理，其亲水性和电阻等性能有了很大改变。发现膜与水的接触角和表面电阻率这两种性能经等离子体处理后呈现类同的变化规律，它们之间存在着某种关联。     

Effects of Deposition Temperature on the Properties of Fluorinated Amorphous Carbon Films

Fluorinated amorphous carbon films (a-C:F) were prepared at different temperatures using a microwave electron cyclotron resonance chemical vapor deposition (ECR-CVD) reactor with CHF3 and C2H2 as source gases. Films were annealed at 500℃ in vacuum ambience inorder to investigate the relationship of their thermal stability, optical and electrical propertieswith deposition temperature. Results indicate that the films deposited at high temperature have a less CFx bonding and a more cross-linking structure thus a better thermal stability. They also have a lower bandgap, higher dielectric constant and higher leakage current.     

不同沉积气体对多孤法制备TiC膜的影响

采用两种不同的沉积气体CH4 和C2 H2 分别在SUS3 0 4不锈钢基片上用多弧离子法沉积TiC硬质膜。XPS结果表明 ,用C2 H2 作为沉积气体制备TiC膜中的sp2 杂化的碳多于用CH4 作为沉积气体制备的TiC膜。XRD表明 ,用CH4 气体沉积TiC膜的 ( 111)峰为择优取向 ,但用C2 H2 气体沉积的TiC膜却朝着 ( 111)和 ( 2 2 0 )取向竞争生长。TiC薄膜的高硬度某种程度上取决于TiC( 2 2 0 )峰的丰度。     

氧分压强和基片温度对脉冲激光沉积的ZnO∶Al膜性能的影响

利用脉冲激光法制备了ZnO∶Al透明导电膜。通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、XRD测试分析 ,详细研究了沉积时的基片温度、氧分压强对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明 :基片温度、氧分压强影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况。从电学分析看出 :基片温度从 2 0 0℃升到 30 0℃过程中 ,膜的载流子浓度、透光率和光隙能相应增大。在氧分压强为0Pa、基片温度为 4 0 0℃下沉积的膜 ,其电阻率具有较低值 ,且在可见光区其透光率约为 90 %。