新型槽栅MOSFETs的特性

采用SIVALCO软件对槽栅与平面器件进行了仿真对比分析,结果表明槽栅器件能够有效地抑制短沟道及热载流子效应,而拐角效应是槽栅器件优于平面器件特性更加稳定的原因.对自对准工艺下成功投片所得沟道长度为140nm的槽栅器件进行测量,结果有力地证明了槽栅器件较平面器件的优越性.     

电路成品率极大化的多目标优化设计的研究与实现

以集成通用运算放大器ＸＤ１５３１和海燕ＣＳ５４Ｅ－３－Ｒ型彩电遥控器电路为例，给出了电路多目标最优化设计的策略和方法，该方法可对其它多目标进行优化的同时兼顾对电路成品率极大化的要求，较好地解决了含成品率极大的多目标优化设计问题，最后给出了以ＳＰＩＣＥ２Ｇ５软件为基础电路成品率最佳逼近的多目标优化系统（ＥＭＯＣＡＤＳ）的设计方法。     

MOSFET模型参数的全域优化提取

本文采用最优化方法中的 L-M 方法,对 MOSFET 直流模型参数进行优化提取。采用了亚闽区、线性区和饱和区直流特性作为目标函数,并且考虑源漏串联电阻对 MOS 直流特性的影响。本文对 MOS 输出特性关于串联电阻的灵敏度分析,说明在线性区考虑它们的必要性。文章最后给出了实测结果与提取参数计算结果的比较。     

提高成品率的VLSI互连线线宽优化

金属互连线层的设计对VLSI成品率有着重要影响 .研究了制造缺陷与互连线层成品率的关系 ,通过关键面积概念说明了在有制造缺陷影响的情况下 ,互连线线宽参数对成品率的影响 .提出了一种基于线宽调整以期降低互连线缺陷关键面积、从而提高成品率的优化模型和算法 ,并通过 4× 4移位寄存器版图单元的线宽优化实例说明了这种互连线宽优化方法能有效提高成品率 .优化实例表明 ,线宽调整能够引起VLSI的开路和短路关键面积发生变化 .在设计规则容许范围内 ,根据实际版图的关键面积特点对互连线线宽进行优化 ,可以降低芯片对制造缺陷的敏感程度 ,从而提高制造成品率     

VLSI3-维容错结构及其成品率分析

本文研究ＶＬＳＩ电路的ＮＰＩＲＡ结构及其成品率,分析间隙冗余阵列的（ｓ,８）类结构,提出最优的（ｓ,８）间隙冗余阵列的定义,同时给出了最优的（ｓ,８）间隙冗余的成品率的下界表示．     

VLSI容错设计研究进展(2)——功能成品率与可靠性的研究

带冗余的集成电路的成品率的估计对制造者来说是一个非常重要的问题。文中将集中分析和讨论带冗余的成品率模型和可靠性,给出了该领域研究进展的最新结果,并指出了进一步研究的方向和策略。     

深亚微米nMOSFET器件的总剂量电离辐射效应

选取了采用0.25μm工艺的两组器件进行研究.通过对这两种器件关态泄漏电流、跨导和栅电流等电学参数进行分析,得出当器件发展到深亚微米阶段时,影响其辐射效应的主要原因是场氧化层中的陷阱电荷.并对相关机理进行了分析和仿真验证.     

Snapback应力对90nm nMOSFET栅氧化层完整性的影响

基于测试对snapback应力引起的栅氧化层损伤特性和损伤位置进行了研究.研究发现应力期间产生的损伤引起器件特性随应力时间以近似幂指数的关系退化.应力产生的氧化层陷阱将会引起应力引起的泄漏电流增加,击穿电荷减少,也会造成关态漏泄漏电流的退化.栅氧化层损伤不仅在漏区一侧产生,而且也会在源区一侧产生.热空穴产生的三代电子在指向衬底的电场作用下向Si-SiO2界面移动,这解释了源区一侧栅氧化层损伤的产生原因.     

fmax为30.8GHz的超薄Al2O3绝缘栅GaN MOS-HEMT器件

报道了一种利用原子层淀积(ALD)生长超薄(3.5nm)Al2O3为栅介质的高性能AlGaN/GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管(MOS-HEMT).新型AlGaN/GaN MOS-HEMT器件栅长1μm,栅宽120μm,栅压为+3.0V时最大饱和输出电流达到720mA/mm,最大跨导达到130mS/mm,开启电压保持在-5.0V,特征频率和最高振荡频率分别为10.1和30.8GHz.     

LDMOS线性微波功率放大器设计

LDMOS以其大功率、高线性度和高效率等优点得到广泛的应用.采用2-tone负载牵引法得到了LDMOS晶体管MRF18030的输入和输出阻抗.在对晶体管绝对稳定性分析的基础上,运用共轭匹配法设计出匹配网络,并将匹配网络转化为MOMENTUM元件运用在电路设计中,大大提高了设计的准确性.采用载波复幂级数法对PA的AM-AM和AM-PM非线性特性进行了准确计算,弥补了传统泰勒级数只能分析AM-AM的不足.得到了用来消除PA非线性的反载波复幂级数.根据所得反载波复幂级数,利用二极管非线性特性设计出一种新的结构简单、易于实现的预失真器,给出其准确的电路模型表达式,得到了幅值、角度等参数的精确值.ADS仿真结果表明,IMD3改善了27dB.最终,成功设计出大功率、高效率、高线性的LDMOS微波功率放大器.